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1、第13章,先進(jìn)封裝技術(shù),主要內(nèi)容,BGA CSP FC技術(shù) WLP技術(shù) MCM封裝與三維封裝,目前的先進(jìn)封裝技術(shù)包含了單芯片封裝的改進(jìn)和多芯片集成的創(chuàng)新兩大方面。主要包括: (1)以適應(yīng)芯片性能并提高互聯(lián)封裝效率的BGA封裝 (2)以提高芯片有效面積的芯片尺寸封裝(CSP) (3)以減少制造環(huán)節(jié)和提高生產(chǎn)效率的晶圓級封裝(WLP) (4)以提高電路拓展芯片規(guī)模和擴(kuò)展電路功能的多芯片三維立體封裝(3D,圖 從 QFP至晶圓級封裝,13.1 BGA(ball grid array)技術(shù) -發(fā)展歷史,20世紀(jì)80年代,QFP的I/O引腳節(jié)距達(dá)到0.4-0.3mm時(shí),使SMT技術(shù)遇到了極限,面臨性能與
2、組裝的巨大障礙。一種先進(jìn)的芯片封裝BGA(Ball Grid Array.球柵陣列)出現(xiàn)來應(yīng)對上述挑戰(zhàn)。 該封裝是1990年美國Motorola 公司與日本Citizen公司共同開發(fā)的,首先在便攜式電話等設(shè)備中被采用,13.1 BGA(ball grid array)技術(shù) -發(fā)展歷史,BGA的興起得到迅速發(fā)展。使封裝形式從四邊引線-二維平面陣列。 BGA一出現(xiàn)便成為CPU、圖形芯片、主板上南/北橋芯片等高密度、高性能、多引腳封裝的最佳選擇,BGA定義,BGA(Ball Grid Array)球柵陣列,它是在基板的背面按陣列方式制作出球形凸點(diǎn)用以代替引腳,在基板的正面裝配IC芯片,是多引腳LSI
3、芯片封裝用的一種表面貼裝型技術(shù),BGA可以使芯片做的更小,BGA的特點(diǎn)主要有,1)I/O引線間距大(如1.27毫米),可容納的I/O數(shù)目大 ;例如,引腳中心距為1.5mm的360引腳BGA僅為31mm見方;而引腳中心距為0.5mm的QFP 280引腳,邊長為32mm. (2)封裝可靠性高(不會(huì)損壞引腳)。焊點(diǎn)缺陷率低(1ppm/焊點(diǎn)),焊點(diǎn)牢固。 (3)管腳水平面同一性較QFP容易保證,因?yàn)楹稿a球在溶化后可以自動(dòng)補(bǔ)償芯片與PCB之間的平面誤差。 (4)回流焊時(shí),焊點(diǎn)之間的張力產(chǎn)生良好的自對中效果,允許有50的貼片精度誤差,5)有較好的電特性,由于引線短,導(dǎo)線的自感和導(dǎo)線間的互感很低,頻率特性好
4、。 (6)能與原有的SMT貼裝工藝和設(shè)備兼容。原有的絲印機(jī)、貼片機(jī)和回流焊設(shè)備都可使用。 (7)引腳可超過200500,是多引腳LSI 用的一種表面貼裝型封裝技術(shù)。 (8)球形觸點(diǎn)陣列有助于散熱,BGA 的類型,主要有四類: 1、塑料球柵陣列(PBGA) 2、陶瓷球柵陣列 CBGA(Ceramic BGA) 3、陶瓷圓柱柵格陣列 (CCGA) 4、載帶球柵陣列(TBGA,世界上首款BGA封裝的主板芯片組i850,1.塑料球柵陣列(PBGA)工藝流程,PBGA(Plastic Ball Grid Array) PBGA的載體用材料:FR-4環(huán)氧樹脂,與PCB用材料相同; 芯片通過引線鍵合技術(shù)連接
5、到載體上表面; 采用塑封進(jìn)行載體塑模; 采用陣列式低共熔點(diǎn)37Pb/63Sn焊料(約在183時(shí)發(fā)生熔化),安置到PCB載體的底部。 焊料球的尺寸約為1mm,節(jié)距為1.272.54mm,PBGA示意圖,PBGA的主要優(yōu)點(diǎn),成本低,易加工; 缺陷低; 裝配到PCB上質(zhì)量高,2.陶瓷球柵陣列 CBGA工藝,CBGA載體用材料:陶瓷多層載體; 芯片連接到陶瓷載體上表面; 采用90Pb/10Sn焊料球(300時(shí)發(fā)生熔化),以陣列形式安置到陶瓷載體的底部。 焊料球尺寸為1mm,節(jié)距為1.27mm,圖 CBGA結(jié)構(gòu)圖,圖 CBGA實(shí)例圖,3.陶瓷圓柱柵格陣列 (CCGA)工藝,陶瓷體尺寸大于32平方毫米的C
6、BGA替代品; 采用90Pb/10Sn焊料圓柱陣列替代陶瓷載體的底面的貼裝焊球。 圓柱直徑尺寸為0.508mm,高度1.8mm,節(jié)距為1.27mm,圖 CBGA結(jié)構(gòu)圖,4.載帶球柵陣列(TBGA,也稱為陣列載帶自動(dòng)鍵合(Array Tape Automated Bonding,ATAB),是一種相對新穎的BGA封裝,TBGA優(yōu)點(diǎn): 比其它BGA封裝輕、?。?電性能優(yōu)良; 裝配的PCB上,封裝效率高,BGA的興起和發(fā)展盡管解決了QFP面臨的困難。但它仍然不能滿足電子產(chǎn)品向更加小型、更多功能、更高可靠性對電路組件的要求,也不能滿足硅集成技術(shù)發(fā)展和對進(jìn)一步提高封裝效率和進(jìn)一步接近芯片本征傳輸速率的要
7、求,所以更新的封裝CSP(Chip Size Package芯片尺寸封裝)又出現(xiàn)了。 日本電子工業(yè)協(xié)會(huì)對CSP規(guī)定是芯片面積與封裝尺寸面積之比大于80,13.2 CSP技術(shù),定義:芯片尺寸封裝,簡稱CSP, (Chip Scale Package),是指封裝外殼尺寸不超過裸芯片尺寸的1.2倍的一種先進(jìn)的封裝形式。 是近幾年流行的BGA向小型化、薄型化發(fā)展的封裝。 與BGA相比的優(yōu)勢: CSP比QFP和BGA提供了更短的互連,提高了可靠性; CSP與BGA結(jié)構(gòu)相同,只是節(jié)距(球中心距)、錫球直徑更小、密度更高; CSP是縮小了的BGA,CSP特點(diǎn),封裝尺寸小,可滿足高密封裝; 電性能優(yōu)良; 測試
8、、篩選、老化容易; 散熱性能優(yōu)良; 制造工藝、設(shè)備兼容性好,CSP的基本結(jié)構(gòu),CSP的結(jié)構(gòu)主要有4部分:IC芯片,互連層,焊球(或凸點(diǎn)、焊柱),保護(hù)層?;ミB層是通過載帶自動(dòng)焊接(TAB)、引線鍵合(WB)、倒裝芯片(FC)等方法來實(shí)現(xiàn)芯片與焊球(或凸點(diǎn)、焊柱)之間內(nèi)部連接的,是CSP封裝的關(guān)鍵組成部分。CSP的典型結(jié)構(gòu)如下圖所示,CSP的典型結(jié)構(gòu),CSP的分類,柔性基板(Flex Circuit Interposer) 剛性基板(Rigid Substrate Interposer) 引線框架式 晶圓級CSP 薄膜型CSP,1、柔性基板封裝(Flex Circuit Interposer,由美
9、國Tessera公司開發(fā)的這類CSP封裝的基本結(jié)構(gòu)如下圖2所示。主要由IC芯片、載帶(柔性體)、粘接層、凸點(diǎn)(銅/鎳)等構(gòu)成。載帶是用聚酰亞胺和銅箔組成。它的主要特點(diǎn)是結(jié)構(gòu)簡單,可靠性高,安裝方便,可利用原有的TAB(Tape Automated Bonding)設(shè)備焊接,柔性基板封裝,2、剛性基板封裝(Rigid Substrate interposer,由日本Toshiba公司開發(fā)的這類CSP封裝,實(shí)際上就是一種陶瓷基板薄型封裝,其基本結(jié)構(gòu)如下頁圖。它主要由芯片、氧化鋁(Al2O3)基板、銅(Au)凸點(diǎn)和樹脂構(gòu)成。通過倒裝焊、樹脂填充和打印3個(gè)步驟完成。它的封裝效率(芯片與基板面積之比)可
10、達(dá)到75,是相同尺寸的TQFP的2.5倍,剛性基板封裝,3、引線框架式CSP封裝(Custom Lead Frame,由日本Fujitsu公司開發(fā)的此類CSP封裝基本結(jié)構(gòu)如下頁圖所示。它分為Tape-LOC和MF-LOC 兩種形式,將芯片安裝在引線框架上,引線框架作為外引腳,因此不需要制作焊料凸點(diǎn),可實(shí)現(xiàn)芯片與外部的互連。它通常分為Tape-LOC和MF-LOC 兩種形式,引線框架式CSP,4、圓片級CSP封裝(Wafer-Level Package,封裝見下頁圖。它是在圓片前道工序完成后,直接對圓片利用半導(dǎo)體工藝進(jìn)行后續(xù)組件封裝,利用劃片槽構(gòu)造周邊互連,再切割分離成單個(gè)器件。 WLP主要包括
11、兩項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)即再分布技術(shù)和凸焊點(diǎn)制作技術(shù)。 它有以下特點(diǎn): 相當(dāng)于裸片大小的小型組件(在最后工序切割分片); 以圓片為單位的加工成本(圓片成本率同步成本); 加工精度高(由于圓片的平坦性、精度的穩(wěn)定性,5、薄膜型CSP,薄膜型CSP:由日本三菱電機(jī)公司開發(fā)的CSP結(jié)構(gòu)如圖6所示。它主要由IC芯片、模塑的樹脂和凸點(diǎn)等構(gòu)成。芯片上的焊區(qū)通過在芯片上的金屬布線與凸點(diǎn)實(shí)現(xiàn)互連,整個(gè)芯片澆鑄在樹脂上,只留下外部觸點(diǎn)。這種結(jié)構(gòu)可實(shí)現(xiàn)很高的引腳數(shù),有利于提高芯片的電學(xué)性能、減少封裝尺寸、提高可靠性,完全可以滿足儲(chǔ)存器、高頻器件和邏輯器件的高I/O數(shù)需求。同時(shí)由于它無引線框架和焊絲等,體積特別小,提高了封裝效
12、率,CSP應(yīng)用領(lǐng)域,目前日本有多家公司生產(chǎn)CSP。而且正越來越多地應(yīng)用于移動(dòng)電話、數(shù)碼錄像機(jī)、筆記本電腦等產(chǎn)品上。從CSP近幾年的發(fā)展趨勢來看,CSP將取代QFP成為高I/O引線IC封裝的主流。 在美國,主要用于高端電子產(chǎn)品領(lǐng)域,多芯片組件(MCM),存儲(chǔ)器件,尤其是I/O端子在2000以上的高性能電子產(chǎn)品,CSP封裝技術(shù)展望,有待進(jìn)一步研究解決的問題 CSP的未來發(fā)展趨勢 IC制造商正致力于開發(fā)0.3m節(jié)距甚至更小的、尤其是具有盡可能多I/O數(shù)的CSP產(chǎn)品,市場預(yù)測 CSP技術(shù)剛形成時(shí)產(chǎn)量很小,1998年才進(jìn)入批量生產(chǎn),2002年的銷售收入已達(dá)10.95億美元,占到IC市場的5%左右。 國外
13、權(quán)威機(jī)構(gòu)預(yù)測,全球CSP的市場需求量年內(nèi)將達(dá)到64.81億枚,2004年為88.71億枚, 2005年將突破百億枚大關(guān),達(dá)103.73億枚,2006年更可望增加到126.71億枚。尤其在存儲(chǔ)器方面應(yīng)用更快,預(yù)計(jì)年增長幅度將高達(dá)54.9,13.3 倒裝芯片技術(shù),Flip Chip既是一種芯片互連技術(shù),又是一種理想的芯片粘接技術(shù)。 倒裝芯片之所以被稱為“倒裝”,是相對于傳統(tǒng)的金屬線鍵合連接方式(Wire Bonding)與植球后的工藝而言的。傳統(tǒng)的通過金屬線鍵合與基板連接的芯片電氣面朝上,而倒裝芯片的電氣面朝下,相當(dāng)于將 前者翻轉(zhuǎn)過來,故稱其為“倒裝芯片”。在圓片(Wafer) 上芯片植完球后,需
14、要將其翻轉(zhuǎn),送入貼片機(jī),便于貼裝,也由于這一翻轉(zhuǎn)過程,而被稱為“倒裝芯片,FC技術(shù)定義,是芯片有源區(qū)面對基板,直接通過芯片上呈陣列排列的凸點(diǎn)來實(shí)現(xiàn)芯片與襯底(或電路板)的互連。由于芯片以倒扣方式安裝到襯底上,故稱為“倒裝芯片”(Flip-Chip),FC技術(shù)特點(diǎn),提供更高的密度; 倒裝占有面積幾乎與芯片大小一致; 在所有SMT表面安裝技術(shù)中,倒裝芯片可以達(dá)到最小、最薄的封裝。 采用凸點(diǎn)結(jié)構(gòu),互聯(lián)線更短,減小了延遲,有效地提高了電性能; 芯片的熱量可通過凸點(diǎn)直接傳輸給襯底,散熱性能提高; 是一種高密度芯片互連技術(shù),還是理想的芯片貼裝技術(shù),倒裝芯片大致工藝過程(1,圖 模具填充,圖 凸點(diǎn)轉(zhuǎn)移的工藝
15、步驟,圖 完成了轉(zhuǎn)移工藝后晶圓上 的焊料凸點(diǎn),圖 完成轉(zhuǎn)移工藝后從 模具板分離開的晶圓,倒裝芯片大致工藝過程(2,倒裝芯片有三種主要連接形式: 控制塌陷芯片連接(Controlled Collapse Chip Connection) 技術(shù)是一種超精細(xì)間距的BGA型式。 直接芯片連接(Direct chip attach) 粘結(jié)劑連接的倒裝芯片(Flip Chip Adhesive Attachement,1、控制塌陷芯片連接(4,是類似超細(xì)間距形式 焊球陣列間距一般為:0.2 0.254mm。 焊球直徑為0.100.127mm。 凸點(diǎn)焊料為97Pb/3Sn。 焊球在硅片上可以采用完全分布或局
16、部分布。 基板采用陶瓷基板 UMB(Under- Bump Metallurgy)焊球底部金屬由”粘附層-擴(kuò)散阻擋層-導(dǎo)電層”多層金屬化系統(tǒng)構(gòu)成。 由于陶瓷可以承受較高的回流溫度,因此陶瓷被用來作為連接的基材,通常是在陶瓷的表面上預(yù)先分布有鍍Au或Sn的連接盤,然后進(jìn)行形式的倒裝片連接,控制塌陷芯片連接,連接的優(yōu)點(diǎn)在于: 具有優(yōu)良的電性能和熱特性 在中等焊球間距的情況下,數(shù)可以很高 不受焊盤尺寸的限制 可以適于批量生產(chǎn) 可大大減小尺寸和重量,2、直接芯片連接,和類似是一種超細(xì)間距連接。的硅片和連接中的硅片結(jié)構(gòu)相同,兩者之間的唯一區(qū)別在于基材的選擇。 采用的基材是印制材料PCB。焊球組份是97P
17、b/3Sn,連接焊接盤上的焊料是共晶焊料(37Pb/63Sn)。 由于間距僅為0.203-0.254mm,共晶焊料漏印到連接焊盤上相當(dāng)困難,所以取代焊膏漏印這種方式,在組裝前給連接焊盤頂鍍上鉛錫焊料,焊盤上的焊料體積要求十分嚴(yán)格,通常要比其它超細(xì)間距元件所用的焊料多。在連接焊盤上0.051-0.127mm厚的焊料由于是預(yù)鍍的,一般略呈圓頂狀,必須要在貼片前整平,否則會(huì)影響焊球和焊盤的可靠對位,直接芯片連接,3、粘結(jié)劑連接的倒裝芯片,連接存在多種形式,當(dāng)前仍處于初期開發(fā)階段。 硅片與基材之間的連接不采用焊料,而是用粘結(jié)劑來代替。 這種連接中的硅片底部可以有焊球,也可以采用焊料凸點(diǎn)等結(jié)構(gòu)。 采用的
18、膠粘劑包括:各向同性和各向異性等多種類型; 基材通常選用:陶瓷、印刷板材料、柔性電路板,FCAA,FC發(fā)展現(xiàn)狀,倒裝芯片在1964年開始出現(xiàn),1969年由IBM發(fā)明了倒裝芯片的C4工藝(Controlled Collapse Chip Connection, 可控坍塌芯片聯(lián)接)。 Flip-Chip封裝技術(shù)與傳統(tǒng)的引線鍵合工藝相比具有許多明顯的優(yōu)點(diǎn),包括,優(yōu)越的電學(xué)及熱學(xué)性能,高I/O引腳數(shù),封裝尺寸減小等,Flip-Chip封裝杰出的熱學(xué)性能是由低熱阻的散熱盤及結(jié)構(gòu)決定的。 Flip-Chip封裝另一個(gè)重要優(yōu)點(diǎn)是電學(xué)性能。引線鍵合工藝已成為高頻及某些應(yīng)用的瓶頸,使用Flip-Chip封裝技術(shù)
19、改進(jìn)了電學(xué)性能。如今許多電子器件工作在高頻,在過去,2-3GHZ是IC封裝的頻率上限,F(xiàn)lip-Chip封裝根據(jù)使用的基板技術(shù)可高達(dá)10-40 GHZ,倒裝芯片幾何尺寸用一個(gè)“小”字來形容:焊球直徑?。ㄐ〉?.05mm),焊球間距?。ㄐ〉?.1mm),外形尺寸?。?mm2)。要獲得滿意的裝配良率,給貼裝設(shè)備及其工藝帶來了挑戰(zhàn),隨著焊球直徑的縮小,貼裝精度要求越來越高。 目前,12m甚至10m的精度越來越常見,過去只是比較少量的特殊應(yīng)用,近幾年倒裝芯片已經(jīng)成為高性能封裝的互連方法,它的應(yīng)用得到比較廣泛快速的發(fā)展。 目前,倒裝芯片技術(shù)已成為當(dāng)今最先進(jìn)的微電子封裝技術(shù)之一。它將電路組裝密度提升到了一
20、個(gè)新高度,隨著世紀(jì)電子產(chǎn)品體積的進(jìn)一步縮小,倒裝芯片的應(yīng)用將會(huì)越來越廣泛,13.4 WLP技術(shù),晶圓級封裝(Wafer Level Package,WLP)以BGA技術(shù)為基礎(chǔ),是一種改進(jìn)和提高的CSP,也稱為圓片級芯片尺寸封裝(WLSCSP)。 采用批量生產(chǎn)工藝制造技術(shù),把芯片制造與封裝融為一體,改變了芯片制造業(yè)與封裝業(yè)的分離的局面。 WLS技術(shù)發(fā)展迅速,晶圓級產(chǎn)品2000年市場20億只,2005年達(dá)120億只,增長速度十分驚人,優(yōu)勢,利用薄膜再分布技術(shù),成功解決I/O間距小于70um時(shí),引線鍵合技術(shù)不再適用(因線徑為25-32um,線端燒成球直徑為2-3倍線徑。)的技術(shù)障礙。 批量生產(chǎn)芯片技
21、術(shù); 尺寸最小的低成本封裝,WLP的工藝技術(shù),晶圓級封裝主要采用兩個(gè)基本工藝: (1)薄膜再分布技術(shù) 工藝步驟: IC芯片上涂覆金屬布線層間介質(zhì)材料; 淀積金屬薄膜用光刻法制備金屬導(dǎo)線 和連接的凸點(diǎn)焊區(qū)。 在凸點(diǎn)焊區(qū)淀積UBM(凸 點(diǎn)與金屬焊區(qū)的金屬層) 在UBM上制作凸點(diǎn),圖 將周邊焊點(diǎn)重布為焊盤陣列,上圖為一個(gè)微處理器,它采用圓片級尺寸封裝,周邊焊盤重新連接到可焊接的面陣列焊盤上,圖 重分布簡單過程,2)凸點(diǎn)技術(shù) 焊料凸點(diǎn)通常為球形。 制備球柵陣列有三種方法:應(yīng)用預(yù)制焊球;絲網(wǎng)印刷;電化學(xué)淀積(電鍍,凸點(diǎn)制備工藝流程,晶圓級封裝的可靠性,一般根據(jù)用戶要求。 1、要求: -45 125,50
22、0次循環(huán); 2、要求: 0 100,800次循環(huán),WLP優(yōu)點(diǎn),WLP優(yōu)點(diǎn): 封裝效率高; WLP具有倒裝芯片封裝(FCP)和芯片尺寸封裝(CSP)的所有優(yōu)點(diǎn)(輕、薄、短、?。?引線電感、引線電阻等寄生參數(shù)小,電、熱性能較好。 WLP工藝技術(shù)與芯片制造工藝設(shè)備兼容。 符合目前表面貼裝技術(shù)(SMT)潮流,WLP局限性,由于WLP的所有引出端不能擴(kuò)展到管芯外形之外,這就決定了其封裝外引出端不可能很多;一般采用焊凸點(diǎn)的I/O數(shù)為4100,采用金凸點(diǎn)以FC直接鍵合的I/O數(shù)可為8400。 具體封裝工藝、結(jié)構(gòu)形式、支撐設(shè)備有待優(yōu)化,標(biāo)準(zhǔn)化較差。 可靠性數(shù)據(jù)的積累有限,影響使用。 需進(jìn)一步降低成本,13.5 MCM(MCP)Multi Chip Module封裝與三維封裝技術(shù),MCM封裝 多芯片組件(MCM)是使用多層連線基板,再以打線鍵合、TAB或C4鍵合方法將一個(gè)以上的IC芯片與基板連接,使其成為具有特定功能組件。也是專用集成電路封裝的一種模式。 主要優(yōu)點(diǎn): 大幅提高電路連線密度,提高封裝效率; 可完成“輕、薄、短、小”的封裝設(shè)計(jì); 提高可靠性,MCM 與SMT封裝導(dǎo)線數(shù)目比較,MCM封裝分類,MCM-L:層壓介質(zhì) 采用多層印制電路板疊壓制成,主要用于30MHz以下產(chǎn)品
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