(PLASMA)等離子清洗機(jī)相關(guān)知識(shí)

1、（PLASMA）等離子清洗機(jī)相關(guān)知識(shí)生產(chǎn)二部 設(shè)備組什么是等離子體及怎樣建立等離子體等離子體 (中文)=PLASMA (英文)=電漿(臺(tái)灣)等離子體的發(fā)現(xiàn):1879、英國物理學(xué)家、 William Crookes-物質(zhì)第四狀態(tài)1929、美國化學(xué)物理學(xué)家、 Langmuir-等離子體等離子體定義：部分或是全部電離的氣體；主要包括：電子、離子、中性基團(tuán)、分子、光子固體固體 液體液體 氣體氣體 等離子體等離子體 能量能量 能量能量 能量能量物質(zhì)的四種狀態(tài)人們普遍認(rèn)為的物質(zhì)有三態(tài)：固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)。區(qū)分這三種狀態(tài)是靠物質(zhì)中所含能量的多少。氣態(tài)是物質(zhì)的三個(gè)狀態(tài)中最高的能量狀態(tài);給氣態(tài)物質(zhì)更多的能量，比如

2、加熱，將會(huì)形成等離子體。當(dāng)?shù)竭_(dá)等離子狀態(tài)時(shí)，氣態(tài)分子裂變成了許許多多的高度活躍的粒子。這些裂變不是永久的，一旦用于形成等離子體的能量消失，各類粒子重新結(jié)合，形成原來的氣體分子;什么是等離子體及怎樣建立等離子體處于高速運(yùn)動(dòng)狀態(tài)的電子；處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(tuán)（自由基）；離子化的原子、分子；分子解離反應(yīng)過程中生成的紫外線；未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。什么是等離子體及怎樣建立等離子體 等離子體主要作用：清潔、蝕刻和改性清潔：去除表面有機(jī)物污染和氧化物蝕刻：化學(xué)反應(yīng)性蝕刻、物理蝕刻改性：粗化、交聯(lián)等離子體在現(xiàn)代工業(yè)中的主要用途表面改性實(shí)驗(yàn)處理前的水滴處理后的水滴等

3、離子清洗原理化學(xué)反應(yīng)（化學(xué)反應(yīng)（Chemical reactionChemical reaction） 在化學(xué)反應(yīng)里常用的氣體有氫氣（H2）、氧氣（O2）、甲烷（CF4）等，這些氣體在電漿內(nèi)反應(yīng)成高活性的自由基，其方程式為： 這些自由基會(huì)進(jìn)一步與材料表面作反應(yīng)。 其反應(yīng)機(jī)理主要是利用等離子體里的自由基來與材料表面做化學(xué)反應(yīng)，在壓力較高時(shí)，對(duì)自由基的產(chǎn)生較有利，所以若要以化學(xué)反應(yīng)為主時(shí)，就必須控制較高的壓力來近進(jìn)行反應(yīng)。 等離子清洗原理物理反應(yīng)（物理反應(yīng)（Physical reaction） 主要是利用等離子體里的離子作純物理的撞擊，把材料表面的原子或附著材料表面的原子打掉，由于離子在壓力較低時(shí)

4、的平均自由基較輕長，有得能量的累積，因而在物理撞擊時(shí)，離子的能量越高，越是有的作撞擊，所以若要以物理反應(yīng)為主時(shí)，就必須控制較的壓力下來進(jìn)行反應(yīng)，這樣清洗效果較好。等離子清洗使用氣體根據(jù)產(chǎn)生等離子體時(shí)應(yīng)用的氣體的化學(xué)性質(zhì)不同，可分為不活潑氣體等離子體和活潑氣體等離子體兩類；不活潑氣體如氬氣（Ar）、氮?dú)猓∟2）、氟化氮（NF3）、四氟化碳（CF4）等；活潑氣體如氧氣（O2）、氫氣（H2）等，不同類型的氣體在清洗過程中的反應(yīng)機(jī)理是不同的，活潑氣體的等離子體具有更強(qiáng)的化學(xué)反應(yīng)活性YZD08-5C型等離子清洗機(jī)何謂等離子清洗機(jī)及工作流程；等離子清洗機(jī)采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被

5、清洗物帶來的二次污染。（1）被清洗的工件送入真空室并加以固定，啟動(dòng)運(yùn)行裝置，開始排氣，使真空室內(nèi)的真空程度達(dá)到10Pa左右的標(biāo)準(zhǔn)真空度。一般排氣時(shí)間大約需要2min。（2）向真空室引入等離子清洗用的氣體，并使其壓力保持在100Pa。根據(jù)清洗材質(zhì)的不同，可分別選用氧氣、氫氣、氬氣或氮?dú)獾葰怏w。（3）在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間施加高頻電壓，使氣體被擊穿，并通過輝光放電而發(fā)生離子化和產(chǎn)生等離子體。讓在真空室產(chǎn)生的等離子體完全籠罩在被處理工件，開始清洗作業(yè)。一般清洗處理持續(xù)幾十秒到幾分鐘。（4）清洗完畢后切斷高頻電壓，并將氣體及汽化的污垢排出，同時(shí)向真空室內(nèi)鼓入空氣，并使氣壓升至一個(gè)大氣壓；YZD

6、08-5C型等離子清洗機(jī)了解艙體的發(fā)光色度對(duì)我們?cè)趯?shí)施過程中的影響因素和調(diào)節(jié)取向；常規(guī)的清洗和處理，我們無需外加特殊氣體，即能滿足處理和清洗的需要。同時(shí)該圖也是機(jī)器調(diào)試的參考標(biāo)準(zhǔn)當(dāng)外加氣體（Gas1）為普通大氣時(shí)；氣體的流量決定其發(fā)光色度，色度過重表示氣體流量過大，產(chǎn)生的離子數(shù)目過高，雖然對(duì)處理過程顯得效果明顯，但會(huì)使射頻電流急劇增加，造成溫度過高；而色度偏白時(shí)，意味著外加氣體過少，等離子產(chǎn)生的數(shù)目極低，也不適宜正常的處理清洗需要。故艙體的發(fā)光色度是一個(gè)多維參數(shù)，其主體是氣體流量;YZD08-5C型等離子清洗機(jī)統(tǒng)在滿足設(shè)定真空度的條件下，啟動(dòng)射頻源工作，產(chǎn)生40KHz的射頻脈沖，經(jīng)過功率放大送

7、到輸出級(jí)；輸出級(jí)的作用有三點(diǎn)：一是隔離，二是升壓，三是匹配，使具有足夠能量的射頻脈沖去激發(fā)高壓極板;YZD08-5C型等離子清洗機(jī)_功率大小的控制與調(diào)節(jié)可在系統(tǒng)中進(jìn)行數(shù)字設(shè)置，也可通過手動(dòng)調(diào)節(jié)。實(shí)質(zhì)上功率的調(diào)節(jié)是由改變射頻脈沖寬度來實(shí)現(xiàn)的；圖5和圖6兩個(gè)射頻脈沖坐標(biāo)示意圖很形象的說明了功率調(diào)節(jié)的原理;YZD08-5C型等離子清洗機(jī)由于等離子材料表面處理技術(shù)是一項(xiàng)新的學(xué)科，更因處理的材料種類繁多，且技術(shù)要求也不相同，故沒有統(tǒng)一的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)，所以各個(gè)參數(shù)標(biāo)準(zhǔn)以使用者的實(shí)際應(yīng)用參數(shù)為準(zhǔn)。結(jié)合等離子清洗機(jī)的常規(guī)應(yīng)用，介紹給用戶真空倉內(nèi)的可見光越白，說明真空度越高，該現(xiàn)象只說明真空系統(tǒng)的密封性好，而不能應(yīng)

8、用于實(shí)際的材料處理，因其狀態(tài)下等離子數(shù)目太少，達(dá)不到處理效果。對(duì)本設(shè)備而言，在一般的材料處理時(shí)，所供氣體流量在200ml/min左右，其等離子密度較為適宜，流量過大時(shí)等離子密度較高，但能量較低，也無法達(dá)到理想的處理效果目前對(duì)等離子清洗機(jī)采取措施技術(shù)員每天不定時(shí)檢查抽真空管有無油跡，發(fā)現(xiàn)有需馬上更換維修；技術(shù)員每天不定時(shí)檢查真空泵有無漏油，發(fā)現(xiàn)有需馬上更換維修；清洗產(chǎn)品時(shí)需保證100ml-300ml/min空氣流量；進(jìn)氣端安裝油水分離器；計(jì)劃抽真空端也安裝油水分離裝置；等離子清洗優(yōu)點(diǎn)與濕法清洗相比，等離子清洗的優(yōu)勢(shì)表現(xiàn)在以下與濕法清洗相比，等離子清洗的優(yōu)勢(shì)表現(xiàn)在以下8個(gè)方面：個(gè)方面： （1）在經(jīng)

9、過等離子清洗以后，被清洗物體已經(jīng)很干燥，不必再經(jīng)干燥處理即可送往下道工序;（2）不使用三氯乙甲ODS有害溶劑，清洗后也不會(huì)產(chǎn)生有害污染物，屬于有利于環(huán)保的綠色清洗方法;（3）用無線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同，它的方向性不強(qiáng)，因此它可以深入物體的微細(xì)孔眼和凹陷的內(nèi)部并完成清洗任務(wù)，所以不必過多考慮被清洗物體形狀的影響，而且對(duì)這些難清洗部位的清洗效果與用氟里昂清洗的效果相似甚至更好;（4）整個(gè)清洗工藝流程在幾分鐘即可完成，因此具有效率高的特點(diǎn);（5）等離子清洗需要控制的真空度約為100Pa，這種真空度在工廠實(shí)際生產(chǎn)中很容易實(shí)現(xiàn)。這種裝置的設(shè)備成本不高，加上清洗過程不需要使用價(jià)格昂貴的有機(jī)溶劑，因此它的運(yùn)行成本要低于傳統(tǒng)的清洗工藝;（6）由于不需要對(duì)清洗液進(jìn)行運(yùn)輸、貯存、排放等處理措施，所以生產(chǎn)場(chǎng)地很容易保持清潔衛(wèi)生;（7）等離子清洗的最大技術(shù)特點(diǎn)是：它不分處理對(duì)象，可處理不同的基材，無論是金屬、半導(dǎo)體、氧化物還是高分子材料（如聚丙烯、聚氯乙烯、據(jù)四氟乙烯、聚酰亞胺