微觀尺度金屬絲量子電導(dǎo)及微電極電流量子隧穿的基本理論和應(yīng)用_第1頁
微觀尺度金屬絲量子電導(dǎo)及微電極電流量子隧穿的基本理論和應(yīng)用_第2頁
微觀尺度金屬絲量子電導(dǎo)及微電極電流量子隧穿的基本理論和應(yīng)用_第3頁
微觀尺度金屬絲量子電導(dǎo)及微電極電流量子隧穿的基本理論和應(yīng)用_第4頁
微觀尺度金屬絲量子電導(dǎo)及微電極電流量子隧穿的基本理論和應(yīng)用_第5頁
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文檔簡介

1、微觀尺度金屬絲量子電導(dǎo)及微電極電流量子隧穿的基本理論和應(yīng)用化學(xué)系02級(jí) 袁勃 021131129摘要: 本文回顧了原子量級(jí)金絲中的量子電導(dǎo)以及具有原子量級(jí)間隙微電極中電流量子隧穿的基本理論及微電極的制備方法。另外還介紹了不同小組對(duì)這些制備方法以及理論的改進(jìn),如何設(shè)計(jì)出不同的微結(jié),從而制備出很多有用的微觀器件:如衡量有機(jī)分子檢測(cè)可以應(yīng)用于生物和化學(xué)傳感器;在間隙中沉積不同的物質(zhì),可以研究它們?cè)谖⒂^尺度下的電子傳遞;而且,通過控制間隙寬度,甚至可以實(shí)現(xiàn)單分子電子傳遞的研究,單分子雙通道、多通道開關(guān)功能的實(shí)現(xiàn);另外,微電極間隙中的電導(dǎo)對(duì)沉積其中的離子非常敏感,利用這個(gè)原理我們可以制備檢測(cè)限微10pp

2、t的重金屬離子檢測(cè)器。關(guān)鍵詞:量子電導(dǎo),隧穿電流正文:簡介在介觀和微觀尺度上,材料和器件將會(huì)出現(xiàn)很多有趣的量子效應(yīng)。這種現(xiàn)象不僅給我們?cè)谖锢砗突瘜W(xué)基礎(chǔ)研究上帶來了新的機(jī)遇,而且使材料和器件的很多新性質(zhì)的應(yīng)用成為可能。其中,一個(gè)非常重要的例子就是掃描隧道顯微鏡(scanning tunneling microscope, STM)、隧穿二極管和場(chǎng)發(fā)射平面顯示器當(dāng)中的基礎(chǔ)部件:通過隧穿電流的具有微間隙的兩個(gè)電極【1】。而量子點(diǎn)系統(tǒng)的單電子充電現(xiàn)象的觀察及其理論的發(fā)展導(dǎo)致了單電子晶體管【2】、生物傳感器【3】、分子開關(guān)【4】、化學(xué)傳感器【5】的研制的發(fā)展,同時(shí)也賦予了基礎(chǔ)電子傳遞化學(xué)新的內(nèi)涵。 本文

3、介紹量子效應(yīng)中的兩個(gè)非常重要的現(xiàn)象:量子電導(dǎo)和隧穿電流。原子量級(jí)金屬絲中的量子電導(dǎo)基本理論 在宏觀的金屬導(dǎo)線中,由于原子實(shí)的存在,載流子在外電場(chǎng)的作用下,在前進(jìn)的過程中,不斷的與金屬格點(diǎn)發(fā)生碰撞,導(dǎo)致最終以漫散射的形式通過導(dǎo)線的橫截面。這種情況下表現(xiàn)出來的物理性質(zhì)是大量微觀粒子的宏觀體現(xiàn),所以具有普遍的連續(xù)性。不斷縮短導(dǎo)線的長度至載流子的平均自由程,即載流子通過導(dǎo)線橫截面不再出現(xiàn)任何碰撞的時(shí)候,稱這種運(yùn)動(dòng)方式的載流子為沖擊載流子(ballistic carriers)。如果我們同時(shí)把導(dǎo)線的橫截面縮小,使其直徑只有載流子的費(fèi)米波長的尺度,此時(shí),通過導(dǎo)線橫截面的載流子不再是連續(xù)的、大量的,而是一個(gè)

4、一個(gè)或者幾個(gè)幾個(gè)不連續(xù)的,從而導(dǎo)致了很多量子現(xiàn)象的出現(xiàn)。其中,最為明顯的效應(yīng)之一就是量子電導(dǎo)。描述量子電導(dǎo)的最為重要的公式:朗道方程(Landauer Formula):其中是電導(dǎo)量子,是每個(gè)模子的輸運(yùn)系數(shù)(transmission coefficient)【6】。對(duì)很多金屬,比如Au,Cu,Ag, 近似等于1,即 , 以上物理圖景及其公式對(duì)堿金屬非常適用,同時(shí),也可近似用于一價(jià)金屬。然而,最近的實(shí)驗(yàn)事實(shí)表明,決定于金屬的化合價(jià),而且可能出現(xiàn)里量子化電導(dǎo)G的改變量不再是整數(shù)倍【7】。 量子電導(dǎo)效應(yīng)最早是在半導(dǎo)體器件中發(fā)現(xiàn)的【8、9】。低溫下,半導(dǎo)體中的二維自由電子氣中的電子具有幾十個(gè)微米長度的

5、平均自由程,而且電子的德布羅意波長也達(dá)幾十個(gè)納米,所以,用光刻和電子束刻蝕技術(shù)等微加工技術(shù)制備的器件很容易就觀測(cè)到電導(dǎo)的量子化效應(yīng)。但是,眾所周知,絕大部分金屬電子的德布羅意波長僅幾個(gè)埃。因而若想觀察到金屬絲的量子電導(dǎo)現(xiàn)象,必須使金屬納米絲的直徑到達(dá)原子量級(jí)的尺寸。事實(shí)上,這種現(xiàn)象在高清晰度透視電子顯微鏡(high-resolution transmission electron microscopy,HTEM)中直接得到了證實(shí)【10、11、12】。 圖一為金屬微絲示意圖。一根原子量級(jí)金屬絲連接在兩塊具有納米尺度間隙的體材料中間。金屬絲包含的原子一般只有少量的有限個(gè)。在這么低的尺寸下,顯然,金

6、屬絲、兩邊的體材料的表面效應(yīng),體積效應(yīng)將會(huì)非常明顯。因而,改變?nèi)叩男螤睿瑢⒊霈F(xiàn)不同的現(xiàn)象。另外,在測(cè)量方式上,最為便利的首選系統(tǒng)的電性質(zhì),而且,電學(xué)參數(shù)中,電導(dǎo)的測(cè)量在這樣的系統(tǒng)中最為便利而成為我們關(guān)注的焦點(diǎn)。因此,或者在真空中,或者在電解液中,在金屬絲兩邊加偏壓研究其量子電導(dǎo)效應(yīng)成了我們工作的主題。不過,真空系統(tǒng)的苛刻要求,給我們的研究帶來非常大的不便,這使得我們的研究往往是在電化學(xué)環(huán)境下進(jìn)行。制備 早期的研究主要借助于STM技術(shù)【13、14、15、16】。通過STM針尖的修飾,利用金屬良好的延展性,在過壓電裝置的控制下,把金屬直接壓入表面蒸鍍有金屬層的底板,然后再向外拉伸,當(dāng)金屬斷裂接近

7、斷裂時(shí)便形成一根如圖二所示的金屬微絲。另外一種方法是,因?yàn)樵谕饧与妶?chǎng)的誘導(dǎo)下,金屬離子在針尖和底板的沉積是定向的。所以可以讓針尖和底板同時(shí)具有一定的電勢(shì)差,發(fā)生電化學(xué)刻蝕/沉積【17】,當(dāng)最后一個(gè)或幾個(gè)電子接觸到金屬底板的時(shí)候,我們便得到如圖三所示的金屬微絲。 由于STM技術(shù)首先是昂貴,其次是每次只能制備單根微線,而且熱漂移,聲學(xué)噪音,機(jī)械振動(dòng)的缺點(diǎn)給測(cè)量的精確度帶來了挑戰(zhàn)。這迫使人們轉(zhuǎn)向高效、廉價(jià)的化學(xué)制備方法。其中,最值得推崇的是Tao et al在2001年提出的自終止方法【18】。這種方法簡單方便,而且還可以用來各種大小的納米間隙,詳細(xì)的討論將在后面進(jìn)行。在早期的STM技術(shù)機(jī)械拉伸制備

8、方法中,事實(shí)上是通過拉伸改變金屬絲的橫截面積,而使其出現(xiàn)量子化效應(yīng)。而STM技術(shù)電化學(xué)刻蝕/沉積聯(lián)用的方法,事實(shí)上是保證微絲的長度不變,通過所加偏壓,沉積或刻蝕納米絲原子而改變其橫截面積而產(chǎn)生量子效應(yīng)。純粹的電化學(xué)方法,則是直接制備單原子點(diǎn)接觸連結(jié)的理想方法。性質(zhì)及其應(yīng)用 不管是機(jī)械方法,還是電化學(xué)方法,我們?cè)诟淖兘饘俳z的橫截面積的過程中,發(fā)現(xiàn)隨著電導(dǎo)的增加其量子效應(yīng)越來越差【17】。這個(gè)是很容易理解的,因?yàn)殡S著橫截面積的增加,金屬絲越來越接近于宏觀的金屬絲。另一個(gè)很重要的現(xiàn)象是:在低電壓下,雖然電導(dǎo)仍然是量子化的,但是,其增加步長既不是朗道方程的,也不是Heer et al提出的【19】,

9、而是Tao et al實(shí)驗(yàn)觀測(cè)到的0.5G0的增長【20】。這種現(xiàn)象Tao et al利用費(fèi)米面改變及吸附作用對(duì)電子的分散作用提出了解釋,但其解釋還存在很多令人不滿意的地方。如圖五,Tao認(rèn)為由于所加偏壓改變了納米絲的費(fèi)米能級(jí),使得電子更多的集結(jié)在金屬表面,吸引溶液中的離子,溶液中的離子對(duì)金屬絲的電子分布起了分散作用,所以直接導(dǎo)致電導(dǎo)的非整數(shù)量子改變。事實(shí)上,電壓對(duì)表面態(tài)密度的改變是非常劇烈的,在體材料的金中,每增加1V的電壓將會(huì)導(dǎo)致表面每個(gè)原子擁有0.1e的電量增加,考慮到整根微絲是由少數(shù)幾個(gè)原子組成的,因而這種表面態(tài)的稍微改變可以導(dǎo)致整個(gè)納米絲的原子組合構(gòu)型的變化,在表面應(yīng)力弛豫及其他因素

10、作用下,晶格的再構(gòu)使得金屬絲的電導(dǎo)發(fā)生量子躍遷。這種電導(dǎo)的躍遷由以下公式【22】:其中EF為費(fèi)米能級(jí),為共振態(tài)能級(jí),而描述納米線與導(dǎo)線間的原子耦合。詳細(xì)的討論見Todorov于1993年發(fā)表文獻(xiàn)【22】。既然,低電壓導(dǎo)致溶劑化作用分散表面電子使量子電導(dǎo)偏離整數(shù)電導(dǎo)量子的改變,那么其他能起分散作用的因素必然也可以使金屬絲出現(xiàn)相同的情況。這種設(shè)想在上述系統(tǒng)中,通過修飾金屬絲的實(shí)驗(yàn)得到了充分的證實(shí)。很多小組在這方面做過大量的工作【23,24,25,26】。其中比較有代表性的是Tao et al 所作的利用STM技術(shù),把在金納米絲包圍在氮?dú)?、乙醇、吡啶、四羥基苯硫酚氣體氛中,測(cè)量其電導(dǎo)的變化。最后實(shí)驗(yàn)

11、發(fā)現(xiàn),在分子吸附影響下,雖然低電導(dǎo)的量子化改變不大,但是吸附分子對(duì)導(dǎo)線電子的分散作用明顯削弱了高電導(dǎo)的量子效應(yīng),而且,分子的吸附能力越強(qiáng),這種影響越明顯。前面已經(jīng)提到過,電導(dǎo)的量子化反映了原子排列結(jié)構(gòu)的變化,而在Tao et al的這個(gè)工作中,還發(fā)現(xiàn)一個(gè)重要的現(xiàn)象:在拉伸的情況下,長度的改變導(dǎo)致構(gòu)型的轉(zhuǎn)化需要的量明顯大于沒有吸附的情況。也就是說,吸附作用明顯提高了原子排列的穩(wěn)定性,而且,這種增強(qiáng)隨著分子的吸附能力的增強(qiáng)而提高。事實(shí)上,這種吸附能力與電導(dǎo)改變的關(guān)系可以用于溶液中痕量有機(jī)物的檢測(cè),也就說,這種改變可以應(yīng)用于了化學(xué)和生物傳感器。納米間隙中的隧穿電流及其應(yīng)用既然少量的分子吸附,通過改變

12、微絲的表面態(tài),進(jìn)而改變整根微絲的量子效應(yīng),如果我們?cè)趦蓚€(gè)電極中間或者STM針尖與底板間連接的不是金屬而是一些電介質(zhì),情況將是怎樣呢?進(jìn)而,如果我們干脆什么都不沉積,而是讓間隙中間只有溶劑,當(dāng)然,這也是電介質(zhì),我們又能觀察到什么現(xiàn)象?而這些現(xiàn)象又有什么實(shí)際的應(yīng)用呢?以上所提出的問題解決前提是:擁有具有納米間隙的一對(duì)電極。因?yàn)椋覀兿M^察到的是幾個(gè)甚至單個(gè)分子或單根或少數(shù)幾根可控長度聚合物鏈所起的作用,而不是大量分子導(dǎo)致類似宏觀電介質(zhì)所表現(xiàn)出來的現(xiàn)象。基本理論我們知道,把兩個(gè)具有電勢(shì)差的電極分開,中間的間隙在能量上相當(dāng)于一個(gè)勢(shì)壘。如果間隙過寬,無限高勢(shì)壘將導(dǎo)致電子無法穿過其間。但是,當(dāng)我們不斷縮

13、小間隙的寬度,使勢(shì)壘的高度達(dá)到一定的有限值,根據(jù)量子力學(xué),即便勢(shì)壘的高度高于從電極表面因?yàn)楦鞣N因素逃逸出來的電子的勢(shì)能,電子還是有一部分越過勢(shì)壘而形成電流,這種效應(yīng)就是典型的隧穿效應(yīng),產(chǎn)生的電流為隧穿電流(It)。隧穿效應(yīng)在間隙的寬度下降到納米量級(jí)的時(shí)候非常明顯,而它跟外加電壓的關(guān)系由下列公式?jīng)Q定:其中為功函,單位電子伏特;s是間隙寬度,單位埃。這是HRSTM技術(shù)中非常重要的一個(gè)公式【27】之一。它往往寫成如下形式:其中參數(shù)由STM設(shè)備測(cè)得為0.98±0.12?!?8】。當(dāng)間隙的寬度小到介觀甚至微觀尺度,原子的大小不可忽略,間隙寬度的改變不再是連續(xù)的,而是量子化的。當(dāng)然,進(jìn)一步的研究

14、表明,這種改變并不是簡單的原子堆積(2埃的改變,晶體結(jié)構(gòu)層間距)改變,而是遠(yuǎn)小于這種原子堆積的變化尺度(0.5埃)。即沉積在電極上的原子跟電極表面的原子發(fā)生了作用,導(dǎo)致整個(gè)表面乃至整個(gè)電極前端的原子排布改變。這種再構(gòu)現(xiàn)象事實(shí)上是由于原子的排布必須處于Gibbs自由能最低狀態(tài)的原理導(dǎo)致表面弛豫自發(fā)進(jìn)行重組引起的【29】。間隙的改變是量子化的,由前面遂穿電流與間隙寬度的關(guān)系式,可知道在一定的偏壓下,隧穿電流隨間隙寬度的改變也是量子化。不過,值得一提的是,這種電流量子化改變的數(shù)量是比量子電導(dǎo)小幾個(gè)數(shù)量級(jí)且非等量增加的隨間隙寬度指數(shù)衰減;而且由于動(dòng)力學(xué)平衡的存在,間隙寬度隧穿電流曲線的每個(gè)平臺(tái)上都會(huì)存

15、在一系列的波動(dòng),其振幅在0.5埃左右,正好是兩種構(gòu)型之間的變化,對(duì)應(yīng)著體系兩個(gè)不同的能級(jí)。另外,在一定的寬度間隔內(nèi),隧穿電流與所加偏壓依然成一一對(duì)應(yīng)關(guān)系,所以,對(duì)隧穿電流的調(diào)控,在一定的偏壓下,我們便可以制備各種各樣寬度的微觀間隙的電極。而且,由于寬度改變的量子單位僅為0.5埃,那么,只要控制得好,我們便能制備精確度在0.5埃的微觀間隙【29】。這種微觀間隙無論是在基礎(chǔ)化學(xué)物理理論,在溶劑電性質(zhì)的研究,還是在聚合物性質(zhì)的驗(yàn)證,在痕量離子,有機(jī)物的檢測(cè),化學(xué)傳感器,生物傳感器器件的應(yīng)用都起著關(guān)鍵的作用。制備制備微間隙的方法主要有:機(jī)械斷開金屬絲為基礎(chǔ)的方法【30】,利用電遷移原理【31】和電化學(xué)

16、刻蝕/沉積的方法【32】。在這里,我們重點(diǎn)討論本文前面提到的自終止方法【18】。如圖四,當(dāng)在電極兩端加上一定的偏壓后,陽極開始發(fā)生刻蝕,溶解下來的離子在電場(chǎng)的誘導(dǎo)下直接沉積在陰極較為突出的部分,因?yàn)楸砻媲试酱?,電?chǎng)越強(qiáng)。慢慢的在陰極形成一個(gè)不斷伸向陽極一個(gè)三角尖端,從而導(dǎo)致間隙寬度變小,于是間隙兩端的電阻也隨之變小,進(jìn)而間隙兩端電壓下降,刻蝕/沉積速率變慢,當(dāng)電壓小到一定值的時(shí)候,刻蝕/沉積過程便自動(dòng)終止。通過對(duì)外加串連電阻的控制,我們便可以對(duì)間隙兩端的終止電壓進(jìn)行調(diào)控,從而得到各種大小的終止寬度的間隙。實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn),當(dāng)外加串連電阻小于12.7千歐姆的時(shí)候,得到微絲;高于10兆歐,由于外加串連電

17、阻過大,間隙中的電流量級(jí)一直跟溶液中的漏電流相當(dāng),使刻蝕/沉積過程無法進(jìn)行。而在12.7千歐姆到10兆歐之間,我們通過對(duì)串連電阻的控制便可以得到各種各樣寬度的間隙。性質(zhì)及其應(yīng)用首先,我們?cè)陂g隙中沉積聚合苯胺來研究聚合物微絲的電流變化。Wrighton et al是這方面工作的先驅(qū)【33】。如圖八(來自Tao et al【34】)。當(dāng)在2060nm的間隙中沉積大量的聚合苯胺的時(shí),我們測(cè)得的電流隨電壓變化盡管由于系統(tǒng)的不穩(wěn)定性曲線上出現(xiàn)較大的毛刺現(xiàn)象,但是跟體材料的變化沒有本質(zhì)的區(qū)別。若在本文所述的間隙中沉積聚合苯胺,我們發(fā)現(xiàn)電流的隨電壓的增長出現(xiàn)有趣的現(xiàn)象。沉積完成后,我們把兩個(gè)電極拉開,隨著間

18、隙的變寬,電流先是增長,接著減小。這是因?yàn)橐婚_始所有的分子鏈?zhǔn)菬o序的羼雜在一起的,隨著距離的增加,分子束的排列開始由無序轉(zhuǎn)向有序,使得電導(dǎo)變大,電流增加。但是,當(dāng)拉伸超過一定程度的時(shí)候,一些鏈接比較弱的分子鏈便開始發(fā)生斷裂,導(dǎo)致整體電導(dǎo)的下降。另一個(gè)有趣的現(xiàn)象是:在一定的寬度下,隨著偏壓的增加,電流先是非常緩慢的增加,接著突然出現(xiàn)幾個(gè)數(shù)量級(jí)的躍遷。這種現(xiàn)象非常類似于MIS結(jié)。通過對(duì)這種微結(jié)的研究,發(fā)現(xiàn)這種系統(tǒng)的很多性質(zhì)都非常類似于MIS結(jié)。那么,這種系統(tǒng)便應(yīng)用于分子整流器、分子開關(guān)等器件中。不過,在這個(gè)實(shí)驗(yàn)中,我們沉積的是多根短鏈聚合物,所以曲線反映的依然是一種綜合效應(yīng)?,F(xiàn)在,我們把注意力轉(zhuǎn)向

19、間隙中沉積單個(gè)分子或單根分子鏈的情況。首先,我們把間隙做到非常小,小到只能容納含有大個(gè)有機(jī)分子。如Tao et al剛發(fā)表的工作中【35】,如圖十。通過在間隙中接入導(dǎo)電性較強(qiáng)的benzenedithiol(BDT) 導(dǎo)電性很差的 benzenedimethanethiol (BDMT)的研究發(fā)現(xiàn),在這樣的系統(tǒng)中,電導(dǎo)隨電壓的增長依然是量子化的,不過由于他們的導(dǎo)電性遠(yuǎn)不如金屬,所以它們的量子電導(dǎo)非常小,BDT 0.011、BDMT 0.0006,也就是說,它們的電導(dǎo)量子化效應(yīng)已經(jīng)非常弱。但是,在IV的測(cè)量中,發(fā)現(xiàn)一個(gè)非常明顯的現(xiàn)象,就是曲線與MIS系統(tǒng)的IV曲線非常一致。這強(qiáng)有力的說明了我們制備

20、了單分子的MIS系統(tǒng),也就是單分子開關(guān)。進(jìn)一步的研究發(fā)現(xiàn),我們不但可以制備上面提到的雙通道的分子開關(guān),由于有些分子的能量狀態(tài)不只是簡簡單單的只有兩種,即還原態(tài)和氧化態(tài),它們還存在中間態(tài),這類似于過渡金屬中的不同化合價(jià),更有意義的是,這些中間態(tài)還可以穩(wěn)定存在,所以,我們通過對(duì)柵電壓的控制可以實(shí)現(xiàn)多通道的分子開關(guān)功能【36】。這種MIS結(jié)的形成,也許是由于金屬電介質(zhì)金屬之間形成相當(dāng)于兩個(gè)相對(duì)的PN結(jié)相連的微結(jié)的緣故。兩邊的金屬材料相當(dāng)于源和漏,而參比電極溶劑沉積電介質(zhì)相當(dāng)于柵,從而起了MIS結(jié)的作用。另外,讓間隙中有且僅有幾層分子厚度的溶劑。這樣的考慮打破了一直以來在電化學(xué)體系中,認(rèn)為溶劑是連續(xù)的

21、介質(zhì)的傳統(tǒng)。早在20世紀(jì)九十年代初,Porter 和 Zinn 便做過對(duì)由水層分開的兩個(gè)水銀球間的隧穿電流的研究,發(fā)現(xiàn)水溶劑具有層狀結(jié)構(gòu)【37】。但是,兩個(gè)水銀球之間的水分子數(shù)量還是比較大,達(dá)不到我們研究單個(gè)或少數(shù)幾個(gè)溶劑分子行為的要求,而且,水銀是流體,表面是流動(dòng),也就是系統(tǒng)不是穩(wěn)定。而Tao et al對(duì)原子間隙金屬水金屬結(jié)研究,發(fā)現(xiàn)了一個(gè)非常重要的現(xiàn)象【38】:隧穿電流隨時(shí)間的變化出現(xiàn)一種相對(duì)穩(wěn)定的波動(dòng),表現(xiàn)在這種振動(dòng)在一定的時(shí)間內(nèi)只發(fā)生在兩個(gè)值之間。而且這種振動(dòng)不受離子濃度,化合價(jià),pH值的影響,但是間隙寬度的改變將會(huì)使振動(dòng)由一個(gè)固定的區(qū)間進(jìn)入另一個(gè)固定的振動(dòng)區(qū)間這種振動(dòng)的機(jī)理可以利用

22、Marcus理論解釋【39】。由于間隙中的水分子存在一個(gè)中間的低態(tài),在外加偏壓的作用下,它與費(fèi)米能級(jí)之間的波動(dòng),導(dǎo)致了對(duì)電子的捕獲和釋放使得這種穩(wěn)定振動(dòng)的得以短暫維持。最后介紹微間隙另一個(gè)非常重要的應(yīng)用:溶劑中痕量離子的檢測(cè)【40】。在溶液中,當(dāng)間隙兩端所加電壓達(dá)到某種離子的電化學(xué)沉積電壓時(shí),若溶液中存在此離子,便有可能沉積于間隙中,導(dǎo)致電導(dǎo)發(fā)生突躍。突躍的量以下公式?jīng)Q定:其中D為接觸面積直徑,其它符號(hào)含義與前面同【41】。溶液中痕量離子濃度與沉積時(shí)間的關(guān)系基本是線性的,這可以利用標(biāo)準(zhǔn)曲線法測(cè)定已知離子的濃度。另外,改變電壓的值,發(fā)現(xiàn)沉積和溶解的過程可逆性非常好,而且不同的離子對(duì)應(yīng)著不同的臨界

23、值,這個(gè)重要的特點(diǎn)使得我們能夠檢測(cè)溶液中微量的離子。實(shí)驗(yàn)表明,這種方法的最低檢測(cè)限達(dá)到10ppt,方便、精確??偨Y(jié) 這篇文章我們分別介紹了原子量級(jí)金屬絲量子電導(dǎo)和原子量級(jí)間隙的電極中隧穿電流的基本理論,以及這些理論要求下的金屬絲以及微電極的制備方法和重要應(yīng)用。這些金屬絲和微電極的制備直接開辟了制備各種各樣微結(jié)的新方法,使很多原子量級(jí)的設(shè)備器件化成為可能。同時(shí),這些微結(jié)的制備的實(shí)現(xiàn),也反過來使我們能夠驗(yàn)證或修正我們?cè)鹊睦碚?,而且新的現(xiàn)象的不斷發(fā)現(xiàn),給了我們更大的挑戰(zhàn)和更廣闊的發(fā)展前景。參考引文【1】Binnig, G.; Rohrer, H.; Gerber, C.; Weibel, E. P

24、hys. Rev. Lett. 1982, 49, 57-61【2】Esaki, L. Phys. ReV. 1958, 109, 603【3】J. W. Thackeray, H. S. White, and M. S. Wrighton, J. Phys. Chem. 89, 5133 (1985)【4】D. P. E. Smith, Science 267, 1793 (1995)【5】 Brousseau, L. C., III; Zhao, Q.; Shultz, D. A.; Feldheim, D. L. J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 7645【6】

25、R. Landauer, IBM J. Res. Dev. 1 (1957) 223【7】 E. Scheer, N. Agrait, J.C. Cuevas, A.L. Yeyati, B. Ludoph, A. Martin-Rodero, G.R. Bollinger, J.M. van Ruitenbeek, C. Urbina, Nature 394 (1998) 154【8】 【9】 【10】 H. Ohnishi, Y. Kondo, K. Takayanagi, Nature 395 (1998) 780【11】 A.I. Yanson, G.R. Bollinger, H.E

26、. van den Brom, N. Agrait, J.M. van Ruitenbeek, Nature 395 (1998) 783【12】 V. Rodrigues, T. Fuhrer, D. Ugarte, Phys. Rev. Lett. 85 (2000) 4124【13】 J.I. Pascual, J. Mendez, J. Gomez-Herrero, A.M. Baro, N. Garcia, V.T. Binh, Phys. Rev. Lett. 71 (1993) 1852【14】 N. Agrait, J.G. Rodrigo, S. Vieira, Phys.

27、Rev. B 52 (1993) 12345【15】 C.J. Muller, J.M. van Ruitenbeek, L.J. de Jongh, Phys. Rev. Lett. 69 (1992) 140【17】 C. Z. Li and N. J. Tao,Appl. Phys. Lett. 72, 8 (1998)【18】 S. Boussaad and N. J. Tao,Appl. Phys. Lett. 80, 2398(2002)【19】 W. A. de Heer, S. Frank, and D. Ugarte, Z. Phys. B 104, 469 (1997).【

28、20】 C. Shu, C. Z. Li, H. X. He, A. Bogozi, J. S. Bunch, and N. J. Tao*,Phys. Rev. Lett. 84(2000)5196【21】 H. X. He, C. Z. Li, and N. J. Tao。Appl. Phys. Lett. 78, 811(2001)【22】 T. N. Todorov, G. A. D. Briggs, and A. P. Sutton, J. Phys. C 5, 2389 (1993).【23】 D. Schumacher, Surface Scattering Experiment

29、s with Conduction Electrons, Springer Tracts in Modern Physics Vol. 128 Springer, Berlin, (1993)【24】 B. N. J. Persson, Phys. Rev. B 44, 3277 (1991).【25】 H. Ishida, Phys. Rev. B 52, 10 819 (1995)【26】 C. Z. Li, H. Sha, and N. J. Tao Phys. Rev. B. 58 (1998) 6775【27】 D. Bonnell, Scanning Probe Microscop

30、y and Spectroscopy, Theory, Techniques and Applications, Wiley-VCH, New York, 2000.【28】 A. Vaught, T. W. Jing, and S. M. Lindsay, Chem. Phys. Lett. 236, 306 (1995)【29】 C. Z. Li, H. X. He, and N. J. Tao,Appl. Phys. Lett. 77, 3995 (2000)【30】 M. A. Reed, C. Zhou, C. J. Muller, T. P. Burgin, and J. M. Tour, Science.78, 252 (1997)【31】 H. Park, Andrew K

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