中國(guó)科學(xué)院上海硅酸鹽研究所共享設(shè)備運(yùn)行成本管理辦法（試行）

1、上海材料與制造儀器區(qū)域中心共享設(shè)備運(yùn)行實(shí)施辦法（試行）第一章 總 則第一條 為加強(qiáng)和規(guī)范上海材料與制造儀器區(qū)域中心（簡(jiǎn)稱：區(qū)域中心）大型設(shè)備共享、共用確保儀器裝備的完整、有效、合理使用，引導(dǎo)區(qū)域內(nèi)各個(gè)研究所形成設(shè)備共享的理念。減少設(shè)備重復(fù)購(gòu)置，促進(jìn)各個(gè)研究所間跨部門、跨學(xué)科的科研合作，特制定本辦法。第二條 本實(shí)施辦法所指大型共享設(shè)備為：價(jià)值100萬人民幣以上的測(cè)試設(shè)備。第三條 根據(jù)各個(gè)研究所學(xué)科發(fā)展方向和相應(yīng)的研究工作需求，建立的較系統(tǒng)和較完善的實(shí)驗(yàn)平臺(tái)。探索建立共享設(shè)備激勵(lì)管理機(jī)制，管理并使用好區(qū)域中心內(nèi)共享設(shè)備維護(hù)基金。第四條 本實(shí)施辦法與上海材料與制造儀器區(qū)域中心運(yùn)行管理辦法配套執(zhí)行。第

2、五條 本區(qū)域中心設(shè)備均以區(qū)域中心名義參加上海市共享服務(wù)平臺(tái)，并向管理單位和社會(huì)用戶提供大型科學(xué)儀器設(shè)施共享的信息、技術(shù)培訓(xùn)等服務(wù)。根據(jù)國(guó)家總體布局的需要，加強(qiáng)與長(zhǎng)江三角洲地區(qū)其他城市的合作，參與全國(guó)大型科學(xué)儀器設(shè)施協(xié)作共用網(wǎng)絡(luò)建設(shè)。第二章 運(yùn)行人員職責(zé)第六條 區(qū)域中心內(nèi)大型共享設(shè)備由依托各個(gè)研究所職能部門負(fù)責(zé)管理。運(yùn)行人員的聘用可采取靈活多樣形式（如可由依托部門研究生承擔(dān)實(shí)驗(yàn)室的部分日常運(yùn)行工作）。大型共享設(shè)備運(yùn)行人員（簡(jiǎn)稱：共享機(jī)組）須經(jīng)崗位培訓(xùn)。第七條 共享機(jī)組根據(jù)其崗位職責(zé)，應(yīng)保證該設(shè)備及實(shí)驗(yàn)室的正常運(yùn)行及使用，擔(dān)負(fù)起定期維護(hù)保養(yǎng)、檢查、調(diào)試及防止非正常性損壞等直接管理責(zé)任，制定設(shè)備操作

3、規(guī)程和技術(shù)保養(yǎng)制度、實(shí)驗(yàn)室使用規(guī)章制度及操作規(guī)程，保證設(shè)備處于良好的運(yùn)轉(zhuǎn)狀態(tài)，并負(fù)責(zé)建立設(shè)備使用、維護(hù)、維修、保管記錄。第八條 共享機(jī)組應(yīng)熟練掌握實(shí)驗(yàn)室內(nèi)設(shè)備的使用及操作規(guī)程，對(duì)使用共享大型儀器的人員提供指導(dǎo)，每次實(shí)驗(yàn)結(jié)束后，需督促使用人據(jù)實(shí)填寫設(shè)備共享使用申請(qǐng)表（見表1）第九條 共享機(jī)組須保證設(shè)備所在實(shí)驗(yàn)室的清潔、防火、防盜，保證設(shè)備及實(shí)驗(yàn)室的安全。 第十條 大型共享設(shè)備應(yīng)協(xié)調(diào)好本部門、區(qū)域中心內(nèi)、區(qū)域中心外單位對(duì)設(shè)備的協(xié)作共用情況，優(yōu)先滿足區(qū)域中心內(nèi)需求。 第十一條 當(dāng)機(jī)構(gòu)變動(dòng)（課題組撤并等）或共享機(jī)組內(nèi)人員調(diào)動(dòng)、共享機(jī)組主要負(fù)責(zé)人出國(guó)（三月以上）、離退休前，應(yīng)對(duì)管理范圍內(nèi)設(shè)備進(jìn)行清點(diǎn)、移

4、交。第三章 運(yùn)行管理原則第十二條 區(qū)域中心內(nèi)各個(gè)研究所新購(gòu)置大型共享設(shè)備驗(yàn)收后，可進(jìn)行半年的試運(yùn)行，試運(yùn)行后即開始收費(fèi)運(yùn)行。第十三條 區(qū)域中心各個(gè)研究所按要求使用大型共享設(shè)備需提前向提供共享機(jī)組提交預(yù)約登記（實(shí)驗(yàn)所需特殊消耗材料由實(shí)驗(yàn)者自備），由設(shè)備共享機(jī)組安排機(jī)時(shí)并提供實(shí)驗(yàn)的必要條件。第十四條 送樣品人需從網(wǎng)上下載區(qū)域中心內(nèi)統(tǒng)一的設(shè)備共享使用申請(qǐng)表（見附件：表1），填寫相關(guān)內(nèi)容，交由區(qū)域中心各個(gè)研究所共享管理部門備案，并加蓋各所管理部門專用章。第十五條 送樣品人將加蓋共享管理部門專用章申請(qǐng)表交共享機(jī)組，共享機(jī)組為送樣品人提供測(cè)試服務(wù)，并由送樣品人簽字確認(rèn)測(cè)試服務(wù)有效。共享機(jī)組每年底將申請(qǐng)表遞

5、交上海材料與制造大型儀器區(qū)域中心設(shè)備運(yùn)行執(zhí)行委員會(huì)統(tǒng)計(jì)提供的測(cè)試服務(wù)機(jī)時(shí)數(shù)。第四章 運(yùn)行費(fèi)用管理第十六條 設(shè)備共享運(yùn)行成本計(jì)算，由區(qū)域中心各相關(guān)研究所制定相應(yīng)測(cè)算辦法。主要由以下幾部分組成：人力資源成本、能源動(dòng)力（水、電、煤氣）、場(chǎng)地占用、設(shè)備使用與折舊、基本耗材等。各參與設(shè)備共享部門制定提供共享設(shè)備的成本測(cè)算辦法，經(jīng)過上海材料與制造大型儀器區(qū)域中心設(shè)備運(yùn)行管理委員會(huì)認(rèn)可后執(zhí)行。 第十七條 共享儀器的備件費(fèi)用單價(jià)3萬人民幣以下的由區(qū)域中心各所各機(jī)組自行承擔(dān)；備件費(fèi)用單價(jià)3萬人民幣以上的由區(qū)域中心各所按單價(jià)的2050酌情補(bǔ)貼各機(jī)組。第十八條 區(qū)域中心內(nèi)各所共享服務(wù)只收取基本耗材費(fèi)用；院內(nèi)各所共享

6、服務(wù)按收費(fèi)標(biāo)準(zhǔn)80收??；其余按收費(fèi)標(biāo)準(zhǔn)全額收取。第十九條 區(qū)域中心共享服務(wù)收費(fèi)，通過提供共享服務(wù)的中心各所財(cái)務(wù)部門收共享服務(wù)費(fèi)，并出具發(fā)票。第二十條 區(qū)域中心共享服務(wù)收費(fèi)分配比例為：測(cè)試費(fèi)用中10%為現(xiàn)金獎(jiǎng)勵(lì)共享機(jī)組人員；80%為機(jī)組設(shè)備維護(hù)經(jīng)費(fèi)； 10%為區(qū)域中心執(zhí)行委員會(huì)管理費(fèi)用。第二十一條 設(shè)備共享率定義：設(shè)備共享率= (“共享機(jī)時(shí)數(shù)”/“每年的機(jī)時(shí)數(shù)” -70%“課題組需要機(jī)時(shí)數(shù)”)* 100%注：每年的機(jī)時(shí)數(shù)：以國(guó)家相關(guān)部門提供的數(shù)據(jù)為參考, 教育部規(guī)定定額機(jī)時(shí)數(shù)如下：儀器儀表：通用設(shè)備：1400小時(shí)年公式7小時(shí)×5天×40周1400小時(shí)專用設(shè)備：800小時(shí)年公式

7、4小時(shí)×5天×40周800小時(shí)機(jī)械類：800小時(shí)年公式4小時(shí)×5天×40周800小時(shí)有效機(jī)時(shí)：必要的開機(jī)準(zhǔn)備時(shí)間測(cè)試時(shí)間必須的后處理時(shí)間。第二十二條 區(qū)域中心內(nèi)已有設(shè)備的共享方案，依照各單位現(xiàn)行所內(nèi)所外收費(fèi)標(biāo)準(zhǔn)執(zhí)行。新購(gòu)置設(shè)備，由于設(shè)備尚未到位，具體的收費(fèi)標(biāo)準(zhǔn)難以確定，僅提供參考標(biāo)準(zhǔn)。（詳見：附件1）。第二十三條 區(qū)域中心建立健全大型科學(xué)儀器設(shè)施共享的評(píng)估制度。執(zhí)行委員會(huì)將組織有關(guān)專家，在共享服務(wù)時(shí)間、服務(wù)質(zhì)量、功能開發(fā)、人才培養(yǎng)等方面定期對(duì)區(qū)域中心的管理單位進(jìn)行評(píng)估，并將評(píng)估結(jié)果向院相關(guān)部門匯報(bào)。評(píng)估結(jié)果作為共享服務(wù)獎(jiǎng)勵(lì)的主要依據(jù)之一。第二十四條 區(qū)域

8、中心各個(gè)研究所科技、教育、人事等行政管理部門應(yīng)當(dāng)有計(jì)劃地培養(yǎng)管理和操作大型科學(xué)儀器設(shè)施的相關(guān)人員，組織開展業(yè)務(wù)培訓(xùn)，并對(duì)在共享服務(wù)中作出突出貢獻(xiàn)的人員進(jìn)行表彰和獎(jiǎng)勵(lì)。第二十五條 區(qū)域中心執(zhí)行委員會(huì)管理費(fèi)用主要用于：（1）區(qū)域中心共享服務(wù)管理中所發(fā)生的相關(guān)費(fèi)用，例如：會(huì)議費(fèi)、能源費(fèi)、場(chǎng)地費(fèi)、水電費(fèi)、資料費(fèi)、差旅費(fèi)等；（2）用于獎(jiǎng)勵(lì)每一年度共享服務(wù)優(yōu)秀的機(jī)組。第五章 附 則第二十六條 區(qū)域中心執(zhí)行委員會(huì)有權(quán)對(duì)大型設(shè)備開放使用情況進(jìn)行跟蹤考核，每年向區(qū)域中心管理委員會(huì)公布各單位大型儀器的開放使用情況，對(duì)違反規(guī)定、弄虛作假者給予相應(yīng)處罰。第二十七條 本辦法自區(qū)域中心管理委員會(huì)通過之日起執(zhí)行。 第二十八

9、條 本管理辦法由區(qū)域中心執(zhí)行委員會(huì)負(fù)責(zé)解釋。 上海材料與制造儀器區(qū)域中心執(zhí)行委員會(huì) 二00七年十二月表1中國(guó)科學(xué)院上海材料與制造儀器區(qū)域中心設(shè)備共享使用申請(qǐng)表 區(qū)域中心外樣品 區(qū)域中心內(nèi)樣品 共享機(jī)組名稱樣品數(shù)送樣部門負(fù)責(zé)人樣品單價(jià)測(cè)試樣品簡(jiǎn)單描述：測(cè)試內(nèi)容與要求：申請(qǐng)單位管理部門意見： 簽字（蓋章）： 年 月 日實(shí)際測(cè)樣品數(shù)實(shí)際測(cè)機(jī)時(shí)占 用 機(jī) 時(shí)測(cè) 試 人送樣人簽字送樣人電話備注：注：1. 本測(cè)試表應(yīng)認(rèn)真填寫并簽字，否則儀器管理人員有權(quán)拒絕測(cè)試。2. 測(cè)試費(fèi)用到年底結(jié)算。附件1:序號(hào)設(shè)備名稱主要技術(shù)指標(biāo)價(jià)值（萬元）共享設(shè)備費(fèi)用（區(qū)域內(nèi)/區(qū)域外） 設(shè)備所在單位1.原子層沉積裝置（ALD）最大

10、源數(shù)量：3路氣路、4路液體通道和2路固體通道；樣品尺寸：28英寸；最高溫度：550；沉積氣壓：<2000Pa（通常），可升級(jí)至大氣壓；電源功率：6kW300協(xié)商上海微系統(tǒng)所2.磁控濺射設(shè)備本底真空：<10-5Pa；靶位：1個(gè)；電源：RF3000W一套；樣品尺寸：?jiǎn)纹?英寸；薄膜均勻性：±5250協(xié)商上海微系統(tǒng)所3.PECVD微電子與光電子器件的各類介質(zhì)膜生長(zhǎng)200協(xié)商上海微系統(tǒng)所4.電子束蒸發(fā)臺(tái)各類金屬膜200協(xié)商上海微系統(tǒng)所5.Eaton NV6200A離子注入機(jī)離子束流：35-200keV；硅片尺寸：46 英寸；多種離子注入：B+ P+ As+ Si+ Sb+ H+

11、Ge+ O+ N+；均勻性：0.5；圓片損毀：1/20000310協(xié)商上海微系統(tǒng)所6.接觸式薄膜材料平坦化系統(tǒng)CON-TACT適用于微納制造和NEMS研究中多種結(jié)構(gòu)材料的平坦化。320協(xié)商上海微系統(tǒng)所7.激光軟焊料植球設(shè)備成球速率 10個(gè)/s程控激光器：Nd:YAG激光能量：20W cw激光頻率：20Hz（at200mJ）焊料球直徑：80-300微米穩(wěn)定性： / 5%308協(xié)商上海微系統(tǒng)所8.氧化爐Si片的氧化層生長(zhǎng)及熱處理；工作溫度：400-13000C；恒溫區(qū)長(zhǎng)度和精度：300-1000mm; 600-12800C±0.50C；最大可控升溫速度150C/min.150協(xié)商上海微系

12、統(tǒng)所9.減薄拋光設(shè)備Si圓片的減薄拋光，為許多器件制備過程所急需260協(xié)商上海微系統(tǒng)所10.分子束外延系統(tǒng)襯底尺寸：4英寸真空度： 10-11 torr 襯底溫度：室溫1000 oC控制精度： 0.1 oC688協(xié)商上海技物所11.離子束刻蝕機(jī)最大晶圓尺寸：4-5”電極尺寸：205 mm可通Ar、Cl2、SF6、BCl3等刻蝕氣體；PC2000工藝控制軟件實(shí)時(shí)記錄工藝和設(shè)備數(shù)據(jù)；樣品溫度可控；具備獨(dú)立進(jìn)樣室。320協(xié)商上海技物所12.噴涂勻膠機(jī)8”或6”×6”； 可涂覆的臺(tái)面深度：20mm側(cè)壁陡度：80度130150/300上海技物所13.Te 裂解爐閥漏率：<5E-8Torr

13、閥控制精確性：<2E-8Torr溫度控制：±0.1°152協(xié)商上海技物所14.數(shù)控非球面光學(xué)銑磨機(jī)加工范圍：f40-f600CNC控制器：西門子840D數(shù)控系統(tǒng)CNC軸：5+1軸銑磨精度:0.5mm機(jī)械定位精度:1mm。750協(xié)商上海技物所15.相移式動(dòng)態(tài)干涉儀指標(biāo)：口徑f100探測(cè)器：1K´1K光源：He-Ne激光曝光時(shí)間：1ms測(cè)量重復(fù)性：l/6000 rms適用樣品反射率：1100200200/400上海技物所16多功能型X-射線光電子能譜儀應(yīng)有單色和非單色化X射線激發(fā)源、小面積XPS分析、大面積XPS分析、光電子成像和深度剖析的功能。目前，X射線單色

14、化小面積分析主要涉及兩種技術(shù)：虛擬探針，核心技術(shù)是采用視野光闌和選區(qū)光闌；真實(shí)探針，采用微聚焦電子束產(chǎn)生間接可調(diào)的微束X射線源。后者對(duì)非均勻微區(qū)特征的分析會(huì)更有效。588300/600上海硅酸鹽所17薄膜厚度測(cè)試系統(tǒng)測(cè)量重復(fù)性可達(dá)6Å，1 (10000 Å 標(biāo)準(zhǔn)臺(tái)階)。最大掃描長(zhǎng)度55mm，可用于測(cè)量彎曲度和波度。配有快速更換探針附件。低噪音線性LVDT傳感器，保證Z軸方向高分辨率測(cè)量。標(biāo)準(zhǔn)垂直測(cè)量范圍524um，可拓展到1mm。110100/200上海硅酸鹽所18顯微拉曼紫外發(fā)光光譜儀可見Ar+514.5nm、紫外325nm激光器各一臺(tái)，滿足Raman和發(fā)光光譜測(cè)量。主機(jī)

15、（基本配置)：包括適合紫外、可見波段Raman和發(fā)光光譜的采集、傳導(dǎo)和檢測(cè)的光路系統(tǒng)。1) 低溫閉路系統(tǒng)：主要進(jìn)行低溫、高溫下材料的發(fā)光性能研究，獲得材料缺陷、深能級(jí)躍遷等的信息。185200/400上海硅酸鹽所19大型高溫處理爐最高使用溫度：2200 oC常規(guī)工作溫度：2000 oC工作區(qū)尺寸(mm)： 1800mm(寬) x 800mm(高) x 1800mm(深)充氣速率：真空到1atm：180分鐘控制系統(tǒng)：具備自動(dòng)報(bào)警和斷電保護(hù)功能，短暫斷電保護(hù)并檢修后，可重新連續(xù)運(yùn)行。1400協(xié)商上海硅酸鹽所20光學(xué)輪廓儀測(cè)量速度最快達(dá)到85m/sec；LED白光光源；Z軸方向測(cè)量范圍達(dá)到15mm；

16、6工位手動(dòng)物鏡塔臺(tái)；自動(dòng)對(duì)焦-標(biāo)準(zhǔn)配置；掃描范圍在150m時(shí)保證0.1nm的分辨率；標(biāo)準(zhǔn) 640 X 480 非隔行掃描的攝像頭。120100/200上海光機(jī)所21時(shí)間分辨光解光譜儀激發(fā)波長(zhǎng)范圍：250-2300nm；激發(fā)脈沖時(shí)間：3-6ns；激發(fā)脈沖頻率：10Hz；發(fā)射檢測(cè)范圍：300-2500nm；發(fā)射檢測(cè)響應(yīng)：10ns-10ms136100/200上海光機(jī)所22長(zhǎng)焦距顯微拉曼譜儀拉曼振動(dòng)測(cè)試精度：1-2cm-1；拉曼振動(dòng)測(cè)試范圍：100 - 9000 cm-1；顯微聚焦深度：>200mm；顯微空間橫向分辨率：1微米；在線檢測(cè)光纖長(zhǎng)度：2米147150/300上海光機(jī)所23電感耦合等

17、離子體質(zhì)譜儀（1）靈敏度：低質(zhì)量數(shù)Mg (24) > 12 M cps/ppm；中質(zhì)量數(shù)In（115）> 50 M cps/ppm；高質(zhì)量數(shù)U（238）> 40 M cps/ppm；（2）質(zhì)譜校正穩(wěn)定性：1天連續(xù)操作，<0.05amu；（3）同位素比精度< 0.08 % 107Ag/109Ag 的同位素比，使用25mg/L的溶液。410300/600上海光機(jī)所24高精密平坦化與外延鍍膜系統(tǒng)極限真空度6.7×10-5Pa；恢復(fù)真空時(shí)間：從 1×10 5 Pa抽至5×10 -3 Pa20min；MFC和微機(jī)控制；樣品加熱溫度可達(dá)到 800

18、 ；真空系統(tǒng)配置分子泵和機(jī)械泵。180協(xié)商上海光機(jī)所25全自動(dòng)大尺寸晶體生長(zhǎng)爐冷爐極限真空度<6.7´10-3Pa；晶體直徑Æ2² Æ4² ；籽晶在爐內(nèi)有效行程450mm。150協(xié)商上海光機(jī)所26高精度下降法晶體生長(zhǎng)爐800型；最高溫度21000C；真空度<5.0´10-3Pa；爐內(nèi)有效行程450mm。120協(xié)商上海光機(jī)所27真空壓力燒結(jié)爐最高工作溫度20000C；真空度<5.0´10-2Pa；樣品尺寸：ø100x120mm100協(xié)商上海光機(jī)所28外場(chǎng)作用下材料結(jié)構(gòu)的掃描探針顯微鏡實(shí)時(shí)原

19、位觀察系統(tǒng)臺(tái)階儀測(cè)薄膜厚度；AFM測(cè)薄膜表面形貌；MFM觀察磁性薄膜材料的磁疇；STM在原子尺度觀察材料的結(jié)構(gòu)；在外場(chǎng)（包括激光、高溫、磁場(chǎng)及電場(chǎng)）作用下材料的微觀結(jié)構(gòu)的實(shí)時(shí)原位觀察及光、電、磁性能測(cè)量；180200/500上海光機(jī)所29變溫全自動(dòng)橢圓偏振光譜儀長(zhǎng)范圍：260-1700nm；光斑尺寸人工可調(diào)0.1-0.2-1nm; 樣品水平放置；入射角可以0.01度步長(zhǎng)在45-90度范圍內(nèi)自動(dòng)改變；8英寸自動(dòng)XY移動(dòng)臺(tái)150100/200上海光機(jī)所30ExciPro fs泵浦-光譜探測(cè)系統(tǒng)輸入光技術(shù)指標(biāo)：1、波長(zhǎng)范圍：780nm820nm2、脈寬：50200fs3、重復(fù)頻率：10Hz1Kz，單

20、脈沖4、單脈沖能量：>200mJ/脈沖標(biāo)準(zhǔn)的泵浦光指標(biāo)：390410nm標(biāo)準(zhǔn)的探測(cè)光指標(biāo)：4001000nm190200/400上海光機(jī)所31Wyko光學(xué)輪廓儀XY測(cè)量范圍：600nm-4mm；縱向（Z）測(cè)量范圍：0.1nm-1mm；試樣尺寸：<200mm10080/160上海光機(jī)所32D3100原子力顯微鏡XY掃描范圍：90um*90um*6um；縱向掃描范圍:5um；XY平面分辨率:1埃；Z垂直分辨率:0.1埃；試樣范圍:150mm*150mm*12mm。180100/200上海光機(jī)所33固態(tài)核磁共振儀(NMR)400 MHz磁體：7.0T(300MH2)89mm寬腔超導(dǎo)磁體磁場(chǎng)漂移3HZ/h譜儀：1H/19F 100W功放、X核1000W功放、相位分辨率0.25度、頻率分辨率0.1HZ、采樣速率8MHZ 、發(fā)射/接收切換0.1s450300/600上海有機(jī)所34高級(jí)差示掃描量熱儀溫度范圍（配低溫系統(tǒng)）：-180到725 量熱動(dòng)態(tài)范圍：±500mW 量熱精度（金屬標(biāo)樣）：±1%溫度準(zhǔn)確度：±0.1靈敏度：0.2µW 基線重現(xiàn)性：±10µW基線彎曲度（-50300）：10µW相對(duì)解析度：2.910080/160上海有機(jī)