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文檔簡介
1、 理想晶體: 質(zhì)點嚴(yán)格按照空間點陣排列的晶體。(理想晶體中的勢場也具有嚴(yán)格的周期性) 晶體缺陷: 指實際晶體中與理想的點陣結(jié)構(gòu)發(fā)生偏差的區(qū)域。 一般地來說,這些偏差區(qū)域的存在并不會嚴(yán)重影響晶體結(jié)構(gòu)的基本特性,僅是晶體中少數(shù)原子的排列特征發(fā)生了改變,相對于晶體結(jié)構(gòu)的周期性和穩(wěn)定性而言,晶體缺陷區(qū)域顯得十分活躍,它的狀態(tài)容易受外界條件的影響,因而它們的存在(數(shù)量、分布等)對材料的行為起著十分重要的作用。第二章 晶體結(jié)構(gòu)與缺陷51 晶體結(jié)構(gòu)缺陷的類型 511 按幾何形態(tài)的分類 (1)點缺陷 (2)線缺陷 (3)面缺陷 (2)線缺陷: 一維缺陷,是質(zhì)點在一維方向上偏離理想晶體中的周期性、規(guī)則性排列所產(chǎn)
2、生的缺陷,這種缺陷的尺寸在一維方向上較長,而在另外的二維方向上很短。線缺陷的最具體的形式是各種類型的位錯,它們的產(chǎn)生及運動與材料的韌性、脆性等有密切的關(guān)系。 線缺陷是一維缺陷 (3)面缺陷是一種二維缺陷,它的質(zhì)點在二維方向上偏離理想晶體中的周期性、規(guī)律性排列等,這種缺陷的尺寸在二維方向上延伸,在第三維方向上很小。常見于晶體中的晶界、表面、相界、堆積層錯等部位。 面缺陷是二維缺陷。由一系列刃位錯構(gòu)成的小角傾側(cè)晶界面缺陷密堆積形成的層錯面缺陷孿晶造成的面缺陷第二章 晶體結(jié)構(gòu)與缺陷 512 按產(chǎn)生原因的分類 (1) 熱缺陷 (2) 雜質(zhì)缺陷 (3) 非化學(xué)計量缺陷 (4)電荷缺陷 (5)輻射缺陷 熱
3、缺陷當(dāng)晶體的溫度高于0K時, 由于晶格上質(zhì)點熱振動,使一部分能量較高的質(zhì)點離開平衡位置而造成缺陷。所以熱缺陷是晶體的本征缺陷,是由于熱起伏的熱缺陷是晶體的本征缺陷,是由于熱起伏的原因所產(chǎn)生的空位或(和)間隙質(zhì)點。原因所產(chǎn)生的空位或(和)間隙質(zhì)點。 熱缺陷的主要類型:(1)弗侖克爾缺陷)弗侖克爾缺陷 (a)(Frenkel)(2)肖特基缺陷)肖特基缺陷 (b)(Schottky) (1)弗侖克爾缺陷: 在晶格熱振動時, 一些能量較大的質(zhì)點 離開平衡位置后,進(jìn) 入到間隙位置,形成間隙質(zhì)點,而在原來位置上形成空位 特點: 間隙質(zhì)點與空位總是成對出現(xiàn) 正離子弗侖克爾缺陷 負(fù)離子弗侖克爾缺陷 二者之間沒
4、有直接聯(lián)系。 影響因素: 與晶體結(jié)構(gòu)有很大關(guān)系 NaCl型晶體中間隙較小,不易產(chǎn)生弗侖克爾缺陷; 螢石型結(jié)構(gòu)中存在很大間隙位置,相對而言比較容易生成填隙離子。 (2)肖特基缺陷: 如果正常格點上的 質(zhì)點,在熱起伏過程中 獲得能量離開平衡位置遷移到晶體的表面,而在晶體內(nèi)部正常格點上留下空位 特點: 肖特基缺陷的生成需要一個像晶界、位錯或者表面之類的晶格排列混亂的區(qū)域;正離子空位和負(fù)離于空位按照分子式同時成對產(chǎn)生,伴隨晶體體積增加. 產(chǎn)生 復(fù)合 濃度是溫度溫度的函數(shù) 隨著溫度升高,缺陷濃度呈指數(shù)上升,對于某一特定材料,在定溫度下,熱缺陷濃度是恒定的。 動平衡 雜質(zhì)缺陷 也稱為組成缺陷,是由于外來雜
5、質(zhì)的引入所產(chǎn)生的缺陷。 雖然雜質(zhì)摻雜量一般較小( 0.1%),進(jìn)入晶體后無論位于何處,均因雜質(zhì)質(zhì)點和原有的質(zhì)點性質(zhì)不同,故它不僅破壞了質(zhì)點有規(guī)則的排列,而且在雜質(zhì)質(zhì)點周圍的周期勢場引起改變,因此形成種缺陷。 溶劑:原晶體 溶質(zhì):溶質(zhì) 晶體中雜質(zhì)含量在未超過其固溶度時,雜質(zhì)缺陷的濃度與溫度無關(guān);這點是與熱缺陷是不同的。 應(yīng)用:在某些情況下,晶體中可以溶入較大量的雜質(zhì),如制造固體氧化物燃料電池電介質(zhì)材料,使用810(mol)Y2O3溶入ZrO2中,Y3置換Zr4,形成大量氧空位缺陷,可傳導(dǎo)氧離子,起到離子導(dǎo)電的作用。 非化學(xué)計量缺陷定比定律:指化合物分子式具有固定的正負(fù)離子數(shù)比,且其比值不會隨外界
6、條件的變化而變化,此類化合物稱為計量化合物;一些化合物的化學(xué)組成會明顯地隨著周圍氣氛的性質(zhì)、壓力大小的變化而發(fā)生組成偏離計量化合物的現(xiàn)象,由此產(chǎn)生的晶體缺陷稱為非化學(xué)計量缺陷。所以對于一些變價元素的人工合成晶體尤其容易形成非計量化合物。 非化學(xué)計量化合物的特點: (1)產(chǎn)生的原因及其濃度與氣氛性質(zhì)、壓力等有關(guān),這是有別于其他缺陷; (2)可以看成是高價化合物與低價化合物之間的固溶體,即不等價置換是發(fā)生在同一種離子中的高價態(tài)與低價態(tài)之間的相互置換;(如,四氧化三鐵) (3)缺陷的濃度與溫度有關(guān)生成 n 型或 p 型半導(dǎo)體的重要基礎(chǔ)(Si中摻P為n型,Si或Ge等中摻B為P型)例: TiO2-x(
7、x=01),n型半導(dǎo)體(金屬離子過剩,n型)點缺陷對材料性能的影響 (1)點缺陷引起晶格畸變,使材料內(nèi)部的能量提高,系統(tǒng)不穩(wěn)定,容易發(fā)生晶型轉(zhuǎn)變等。 (2)點缺陷的存在容易引起材料物理性能的變化,如比容、電阻率、擴(kuò)散系數(shù)、內(nèi)耗、介電常數(shù)等; 說明: 在一般情形下,點缺陷對金屬力學(xué)性能的影響較小,它只是通過和位錯交互作用,阻礙位錯運動而使晶體強(qiáng)化。但在高能粒子輻照的情形下,由于形成大量的點缺陷和擠塞子,會引起晶體顯著硬化和脆化。這種現(xiàn)象稱為輻照硬化。 2.5.2 熱缺陷的濃度計算 2.5.3 線缺陷 (位錯)位錯及其相關(guān)理論的研究是上世紀(jì)材料科學(xué)研究中的最杰出的成果之一。位錯的類型:刃位錯、螺旋
8、位錯、混合位錯晶體中的柏格斯氏矢量 (方向表示滑移、大小為原子間距) 1 刃位錯 (1)產(chǎn)生原因 (2)刃型位錯圖示:刃型位錯圖示: 刃型位錯線:多余半原子面與滑移面的交線。刃型位錯線:多余半原子面與滑移面的交線。 (3)刃型位錯特征:)刃型位錯特征: 刃型位錯有一個額外的(多余)半原子面。正刃型刃型位錯有一個額外的(多余)半原子面。正刃型位錯用位錯用“”表示,負(fù)刃型位錯用表示,負(fù)刃型位錯用“”表示;其正負(fù)只是表示;其正負(fù)只是相對而言。相對而言。 刃型位錯具有柏氏矢量刃型位錯具有柏氏矢量b,它的方向表示滑移方向,其,它的方向表示滑移方向,其大小為一個原子間距。大小為一個原子間距。 滑移面必須是
9、同時包含有位錯線和滑移矢量的平面?;泼姹仨毷峭瑫r包含有位錯線和滑移矢量的平面。位錯線與滑移矢量互相垂直位錯線與滑移矢量互相垂直,它們構(gòu)成平面只有一個。它們構(gòu)成平面只有一個。 晶體中存在刃位錯后晶體中存在刃位錯后,位錯周圍的點陣發(fā)生彈性畸變位錯周圍的點陣發(fā)生彈性畸變,既有正應(yīng)變既有正應(yīng)變,也有負(fù)應(yīng)變。點陣畸變相對于多余半原子面也有負(fù)應(yīng)變。點陣畸變相對于多余半原子面是左右對稱的,其程度隨距位錯線距離增大而減小。就正是左右對稱的,其程度隨距位錯線距離增大而減小。就正刃型位錯而言刃型位錯而言,上方受壓上方受壓,下方受拉。下方受拉。 位錯在晶體中引起的畸變在位錯線處最大,離位錯線位錯在晶體中引起的畸變
10、在位錯線處最大,離位錯線越遠(yuǎn)的晶格畸變越小,原子嚴(yán)重錯排的區(qū)域只有幾個原子越遠(yuǎn)的晶格畸變越小,原子嚴(yán)重錯排的區(qū)域只有幾個原子間距,因而,位錯是沿位錯線為中心的一個狹長的管道。間距,因而,位錯是沿位錯線為中心的一個狹長的管道。 晶體局部滑移造成的螺旋位錯螺旋位錯的特點:(1)柏格斯矢量與螺旋位錯線平行;(2)螺旋位錯分為左旋和右旋。根據(jù)螺旋面旋轉(zhuǎn)方向,符合右手法則(即以右手拇指代表螺旋面前進(jìn)方向,其他四指表示螺旋面的旋轉(zhuǎn)方向)的稱為右旋螺旋位錯,符合左手法則的稱為左旋螺旋位錯;(3)螺旋位錯只引起剪切畸變,而不引起體積膨脹和收縮。因為存在晶體畸變,所以在位錯線附近也形成應(yīng)力場。同樣地,離位錯線距離越遠(yuǎn),晶格畸變越小。螺旋位錯也只包含幾個原子寬度的線缺陷。 結(jié)論: 研究表明:晶體的實際強(qiáng)度與理論強(qiáng)度相差幾個數(shù)量級,就是因為晶體中存在著位錯的缺陷,由于它的運動引起晶體的永久變形。位錯的基本性質(zhì) (1)位錯試晶體中原子排列的線缺陷,并非幾何意義上的線,位錯是有一定尺寸的管道; (2)在滑移過程中,位錯線是已經(jīng)形成的部分和沒有形變辦法的分界線; (3)位錯附近有很高的應(yīng)力集中,處于這些地區(qū)的原子的平均能量要比其它理想晶格位置上的高。因而有利于材料的燒結(jié)和固相反應(yīng),但也是材料的實際強(qiáng)度低于理論強(qiáng)度的一個主要原因;
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