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文檔簡(jiǎn)介
1、半導(dǎo)體物理-緒論半導(dǎo)體物理聯(lián)想?定位 課程介紹法國(guó)科學(xué)家阿爾貝費(fèi)爾德國(guó)科學(xué)家彼得格林貝格爾巨磁電阻效應(yīng),是指磁性材料的電阻率在有外磁場(chǎng)作用時(shí)較之無(wú)外磁場(chǎng)作用時(shí)存在巨大變化的現(xiàn)象。根據(jù)這一效應(yīng)開(kāi)發(fā)的小型大容量計(jì)算機(jī)硬盤(pán)已得到廣泛應(yīng)用。(2007年)近年諾貝爾物理學(xué)獎(jiǎng)高錕、威拉德博伊爾和喬治史密斯(2009年) 高錕在“有關(guān)光在纖維中的傳輸以用于光學(xué)通信方面”取得了突破性成就,獲得物理學(xué)獎(jiǎng)一半的獎(jiǎng)金,共500萬(wàn)瑞典克朗(約合70萬(wàn)美元);博伊爾和史密斯發(fā)明了半導(dǎo)體成像器件電荷耦合器件(CCD)圖像傳感器,將分享另一半獎(jiǎng)金。英國(guó)曼徹斯特大學(xué)物理學(xué)家安德烈海姆和康斯坦丁諾沃肖洛夫 (2010年)“研究
2、二維材料石墨烯的開(kāi)創(chuàng)性實(shí)驗(yàn)”而共享。2004年制成的石墨烯已迅速成為物理學(xué)和材料學(xué)的熱門(mén)話題,現(xiàn)在是世界上最薄的材料,僅有一個(gè)原子厚。在改良后,石墨烯致力于塑造低功率電子元件,如晶體管。相比之下,銅線和半導(dǎo)體都會(huì)產(chǎn)生電腦芯片75%的能量消耗,人們確定了石墨烯擁有取代硅留名史冊(cè)的本事。 科學(xué):2009年十大科學(xué)突破石墨烯微觀結(jié)構(gòu):六角型呈蜂巢晶格的平面薄膜貝爾實(shí)驗(yàn)室John Bardeen, Walter Brattain和William Shockley三人于1947年發(fā)明了三極管,因此獲得1956年諾貝爾物理獎(jiǎng) 1947年 三極管 1958年 集成電路IC 1963年 CMOS IC半導(dǎo)體器
3、件的發(fā)展進(jìn)程1952年5月,英國(guó)科學(xué)家G. W. A. Dummer第一次提出了集成電路的設(shè)想。1958年以(德州儀器公司)TI的科學(xué)家基爾比(Clair Kilby)為首的研究小組研制出了世界上第一塊集成電路,并于1959年公布了該結(jié)果。Intel公司諾宜斯(Robert Noyce)同時(shí)間發(fā)明了IC的單晶制造概念。Robert Noyce(Intel)Clair Kilby (TI)集成電路的發(fā)明集成電路【Integrated Circuit:IC】 通過(guò)一系列特定的平面制造工藝,將晶體管、二極管等有源器件和電阻、電容等無(wú)源器件,按照一定的電路互連關(guān)系,“集成”在一塊半導(dǎo)體單晶片上,并封裝
4、在一個(gè)保護(hù)外殼內(nèi),能執(zhí)行特定的功能復(fù)雜電子系統(tǒng)。 公元半導(dǎo)體器件作者/發(fā)明者1874金屬半導(dǎo)體接觸Braun1970發(fā)光二極管(LED)Round1947雙極型晶體管(BJT)Bardeen、Brattain及Shochley1949p-n結(jié)Shockley1952可控硅器件(thyristor)Ebers1954太陽(yáng)能電池Chapin、Fuller及Pearson1957異質(zhì)結(jié)雙極型晶體管(HBT) Kroemer1958隧道二極管(tunnel diode) Esaki1960金氧半場(chǎng)效應(yīng)晶體管(MOSFET) Kahng及Atalla1962激光Hall, et al.1963異質(zhì)結(jié)激光
5、Kroemer、Alferov及 Kazarinov1963轉(zhuǎn)移電子二極管(TED)Gunn1965碰撞電離雪崩渡越時(shí)間二極管(IMPATT diode)Johnston、Deloach及Cohen1966金半場(chǎng)效應(yīng)晶體管(MESFET)Mead1967非揮發(fā)性半導(dǎo)體存儲(chǔ)器(NVSM)Kahng及施敏1970電荷耦合元件(CCD)Boyle及Smith1974共振隧道二權(quán)管張立綱、Esaki及Tsu1980調(diào)制摻雜場(chǎng)效應(yīng)晶體管(MODFET)Mimura,et al.1994室溫單電子存儲(chǔ)器(SEMC)Yano, et al.200115nm金氧半場(chǎng)效應(yīng)晶體管Yu, et a1.主要半導(dǎo)體器件
6、列表Semiconductor has become a non-separable part of our world半導(dǎo)體物理半導(dǎo)體材料 / 半導(dǎo)體器件集成電路半導(dǎo)體工業(yè)的核心 微電子工藝固體物理學(xué)、量子力學(xué)地位 以晶體結(jié)構(gòu)學(xué)和點(diǎn)陣動(dòng)力學(xué)為基礎(chǔ),研究半導(dǎo)體中的原子狀態(tài);并以固體電子論和能帶理論為基礎(chǔ),研究半導(dǎo)體中的電子狀態(tài)以及各種半導(dǎo)體器件內(nèi)部電子過(guò)程。半導(dǎo)體物理學(xué)是固體物理學(xué)的一個(gè)分支,其發(fā)展不僅使人們對(duì)半導(dǎo)體有了深入的了解,而且由此而產(chǎn)生的各種半導(dǎo)體器件、集成電路和半導(dǎo)體激光器等已得到廣泛的應(yīng)用。 半導(dǎo)體物理學(xué)研究什么? 身為一個(gè)電子、光電子、電子材料專業(yè)的學(xué)生,你可能會(huì)問(wèn):為什么要學(xué)
7、習(xí)這門(mén)課程?為什么要學(xué)習(xí)該課程? 自1998年以來(lái),電子工業(yè)是世界上規(guī)模最大的工業(yè),其全球銷(xiāo)售量超過(guò)一萬(wàn)億美元。而半導(dǎo)體工業(yè)正是此工業(yè)的基礎(chǔ)。要更深入地了解電子學(xué)的相關(guān)課程,擁有半導(dǎo)體物理的基礎(chǔ)知識(shí)是必要的,它也可以使你對(duì)現(xiàn)代這個(gè)由電子技術(shù)發(fā)展而來(lái)的信息時(shí)代有所貢獻(xiàn)。19802000年的全球國(guó)民生產(chǎn)總值(WGP)及電子、汽車(chē)、半導(dǎo)體和鋼鐵工業(yè)的銷(xiāo)售量,并外插此曲線到2010年止 理由很簡(jiǎn)單 電子工業(yè)和半導(dǎo)體工業(yè)已經(jīng)超過(guò)傳統(tǒng)的鋼鐵工業(yè)、汽車(chē)工業(yè),成為21世紀(jì)的高附加值、高科技的產(chǎn)業(yè)。電子工業(yè)的高速發(fā)展依賴于半導(dǎo)體工業(yè)的快速提高,而在半導(dǎo)體工業(yè)中其核心是集成電路(電集成、光集成、光電集成),集成電
8、路在性能、集成度、速度等方面的快速發(fā)展是以半導(dǎo)體物理、半導(dǎo)體器件、微電子工藝的發(fā)展為基礎(chǔ)的。從上圖中可以得知:半導(dǎo)體物理學(xué)為其提供了基礎(chǔ)知識(shí),是半導(dǎo)體工業(yè)的理論平臺(tái)。太陽(yáng)能電池、LED,半導(dǎo)體制冷、IC設(shè)計(jì)現(xiàn)實(shí)需要1、學(xué)生考研需要:清華、北大、復(fù)旦、中科院及本校,特別是本校學(xué)生的面試。2009北大面試題: (1)假設(shè)有一nMOS結(jié)構(gòu),其金屬功函數(shù)為m,半導(dǎo)體功函數(shù)為s,: 且m s,畫(huà)出其低頻C-V曲線,并說(shuō)明如何確定平帶電壓。 如果增大該MOS結(jié)構(gòu)的襯底摻雜濃度Na,其C-V曲線將發(fā)生怎樣的變化? (2)解釋費(fèi)米能級(jí)。 (3)摻雜半導(dǎo)體電阻率、遷移率隨溫度的變化。 (4)什么是歐姆接觸,怎樣
9、實(shí)現(xiàn)歐姆接觸,然后偏襯效應(yīng)的影響 (5)解釋歐姆接觸,產(chǎn)生歐姆接觸的方法,然后被追問(wèn)Al和硅會(huì)形成什么接觸,既然不能直接形成歐姆接觸,為什么集成電路中可以用Al做布線。支支吾吾了一分鐘,然后被提示是在硅中重?fù)诫s (6)柵控二極管的橫向和縱向能帶圖 (橫向就是畫(huà)柵和襯底的MIS能帶圖,縱向就是畫(huà)源漏和襯底的PN結(jié)能帶圖 )2、了解最新發(fā)展?fàn)顩r:熟悉本專業(yè)特色,為今后學(xué)習(xí)、工作做好準(zhǔn)備(有關(guān)單位的筆試及面試,中芯國(guó)際、凹凸、富士康、華燦、宜昌硅片、天馬微電子等),特別是課外科研組、大學(xué)生創(chuàng)新計(jì)劃、課程設(shè)計(jì)是有關(guān)實(shí)驗(yàn)經(jīng)驗(yàn)的基礎(chǔ)。(美國(guó)常綠與中國(guó)珈偉,光谷500兆瓦太陽(yáng)能項(xiàng)目,投資4.5億美元)3、出
10、國(guó),杜絕要分現(xiàn)象。4、其他:了解科技成果及應(yīng)用水立方多晶陶瓷的微觀結(jié)構(gòu) 奧運(yùn)會(huì)開(kāi)幕式舞臺(tái)和道具的技術(shù)應(yīng)用是一個(gè)較大的亮點(diǎn)。場(chǎng)地中央出現(xiàn)的LED屏幕長(zhǎng)147米、寬22米,是歷屆開(kāi)幕式科技含量最高的一個(gè)舞臺(tái)。該屏幕上共鋪設(shè)4.4萬(wàn)顆LED。LED制造的光影效果幻化出各種圖案,將觀眾引入夢(mèng)幻般的世界中。在大量的測(cè)試試驗(yàn)后,高科技材料的LED地面完全經(jīng)得住演員踩踏、水浸等考驗(yàn)。在視覺(jué)上,兩個(gè)卷軸在緩慢地轉(zhuǎn)動(dòng)著,實(shí)際它們沒(méi)有旋轉(zhuǎn),只是平移,像兩扇門(mén)一樣。為了造成旋轉(zhuǎn)的效果,技術(shù)人員通過(guò)不同線束在不同狀態(tài)下發(fā)光的原理,用LED燈漸次熄滅和點(diǎn)亮的原理,制造成旋轉(zhuǎn)的效果。2008年奧運(yùn)開(kāi)幕式的科技解讀量子點(diǎn)太
11、陽(yáng)能電池:高效率,低成本(唐江)高效率:禁帶寬度可調(diào);多激子產(chǎn)生 MEG效應(yīng)突破單 結(jié)電池31% 理論極限。低成本:溶液室溫成膜,可以與各種基底結(jié)合。1半導(dǎo)體中的電子狀態(tài)3載流子輸運(yùn)4非平衡載流子5pn結(jié)6半導(dǎo)體表面與MIS結(jié)構(gòu)7金屬和半導(dǎo)體的接觸9半導(dǎo)體的光電性質(zhì)8異質(zhì)結(jié)2半導(dǎo)體中載流子的統(tǒng)計(jì)分布本課程主要內(nèi)容主要涉及半導(dǎo)體中的電子狀態(tài)和能帶、半導(dǎo)體中的雜質(zhì)和缺陷能級(jí)、半導(dǎo)體中載流子的統(tǒng)計(jì)分布、半導(dǎo)體的導(dǎo)電性、半導(dǎo)體中的非平衡載流子、金屬-半導(dǎo)體接觸、半導(dǎo)體表面及MIS結(jié)構(gòu)、異質(zhì)結(jié)、半導(dǎo)體的光電效應(yīng)等物理現(xiàn)象。理論教學(xué)與實(shí)踐教學(xué)相結(jié)合,注重培養(yǎng)學(xué)生理論聯(lián)系的實(shí)際能力、科學(xué)研究的思想方法、創(chuàng)新
12、能力以及工程實(shí)踐能力等。為畢業(yè)生從事微電子、集成電路設(shè)計(jì)、光電子、電子材料及其相關(guān)學(xué)科的科學(xué)研究、工程設(shè)計(jì)奠定扎實(shí)的理論與實(shí)踐基礎(chǔ)。主要內(nèi)容 教學(xué)大綱四、先修課程: 高等數(shù)學(xué)、工程數(shù)學(xué)、普通物理學(xué)、 固體電子學(xué)基礎(chǔ)() 五、課程教學(xué)目標(biāo): 通過(guò)本課程的學(xué)習(xí),使學(xué)生熟悉半導(dǎo)體物理的基本概念、掌握半導(dǎo)體中微觀粒子的基本運(yùn)動(dòng)規(guī)律及半導(dǎo)體材料的基本性能,了解半導(dǎo)體器件的基本工作原理及其應(yīng)用,提高分析問(wèn)題和解決問(wèn)題的能力,能夠用相關(guān)理論分析和解決問(wèn)題,并為后續(xù)專業(yè)課程打下扎實(shí)理論基礎(chǔ)。專業(yè)基礎(chǔ)課六、適用學(xué)科專業(yè) :集成電路設(shè)計(jì)與集成系統(tǒng)、材料七、基本教學(xué)內(nèi)容與學(xué)時(shí)安排: 緒論 學(xué)時(shí)第1章 半導(dǎo)體中的電子
13、狀態(tài)(4學(xué)時(shí))1、半導(dǎo)體的晶格結(jié)構(gòu)和結(jié)合性質(zhì)(1學(xué)時(shí))2、半導(dǎo)體中的電子狀態(tài)和能帶(2學(xué)時(shí))3、半導(dǎo)體中的雜質(zhì)和缺陷能級(jí) (1學(xué)時(shí)) 第2章 半導(dǎo)體中載流子的統(tǒng)計(jì)分布(4學(xué)時(shí))1、費(fèi)米能級(jí)和載流子的統(tǒng)計(jì)分布(2學(xué)時(shí))2、半導(dǎo)體的載流子濃度(2學(xué)時(shí))第3章 半導(dǎo)體載流子輸運(yùn)(6學(xué)時(shí))1、載流子的漂移運(yùn)動(dòng)和遷移率、散射(3學(xué)時(shí))2、電阻率及其與雜質(zhì)濃度和溫度的關(guān)系(3學(xué)時(shí))第4章 非平衡載流子(4學(xué)時(shí))1、復(fù)合理論(2學(xué)時(shí))2、愛(ài)因斯坦關(guān)系式及連續(xù)性方程式(2學(xué)時(shí))第5章 pn結(jié)(4學(xué)時(shí))1、pn結(jié)及其能帶圖(2學(xué)時(shí))2、pn結(jié)特性(2學(xué)時(shí))第6章 金屬和半導(dǎo)體的接觸(4學(xué)時(shí))1、金屬半導(dǎo)體接觸及
14、其能級(jí)圖(2學(xué)時(shí))2、金屬半導(dǎo)體接觸整流理論(2學(xué)時(shí))第7章 半導(dǎo)體表面與MIS結(jié)構(gòu)(3學(xué)時(shí))1、表面態(tài)及表面電場(chǎng)效應(yīng)(1學(xué)時(shí))2、MIS結(jié)構(gòu)的電容電壓特性(2學(xué)時(shí))第8章 半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)構(gòu)(3學(xué)時(shí))1、半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)及其能帶圖(2學(xué)時(shí))2、半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)在光電子器件中的應(yīng)用(1學(xué)時(shí))第9章 半導(dǎo)體的光電、熱電效應(yīng)及應(yīng)用(4學(xué)時(shí))1、半導(dǎo)體的光吸收、光電導(dǎo)(1學(xué)時(shí))2、光生伏特效應(yīng)、半導(dǎo)體光電探測(cè)、發(fā)光(2學(xué)時(shí))3、三大熱電效應(yīng)(1學(xué)時(shí))總復(fù)習(xí)、請(qǐng)名家講課等(4學(xué)時(shí))八、教材及參考書(shū)半導(dǎo)體物理學(xué)(第7版),劉恩科等編著,電子工業(yè)出版社,2011.10固體物理學(xué),方俊鑫,陸棟 ,上??茖W(xué)技術(shù)出版社半導(dǎo)體器件物理(第3版),(美)施敏,(美)伍國(guó)鈺著,耿莉、張瑞智譯,西安交通大學(xué)出版
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