光刻膠-國產化重大機遇開啟

1、 光刻膠：國產化重大機遇開啟 ? 歡迎探索:行行查（行業(yè)數(shù)據庫）：樂晴智庫（深度研報精選）：據財政部網站信息，財政部等四部委于16日發(fā)布關于促進集成電路產業(yè)和軟件產業(yè)高質量發(fā)展企業(yè)所得稅政策的公告，明確對有關企業(yè)所得稅進行減免。國產芯片和軟件行業(yè)重磅利好落地，最高可享10年免所得稅，追溯至今年1月1日起施行。此外，南大光電官宣公司研發(fā)的ArF光刻膠已獲得客戶使用通過認證，機構稱國產替代迎來前所未有的發(fā)展機遇。光刻膠成本約占整個芯片制造工藝的30%，耗費時間約占整個芯片制造工藝的40%-60%，是半導體制造中最核心的工藝，決定了半導體圖形工藝的精密程度和良率。在光刻工藝中，光刻膠被涂抹在襯底上，

2、光照或輻射通過掩膜板照射到襯底后，光刻膠在顯影溶液中的溶解度便發(fā)生變化，經溶液溶解可溶部分后，光刻膠層形成與掩膜版上完全相同的圖形，再通過刻蝕在襯底上完成圖形轉移。光刻膠下游應用主要為PCB、顯示面板、LED和半導體，集成電路光刻對線寬、設備和材料要求最高，PCB要求最低。從全球光刻膠的市場競爭格局來看，由于技術壁壘和客戶壁壘高，光刻膠市場主要由日美企業(yè)主導。全品類光刻膠市場中，全球前五大廠商就占據了光刻膠市場87%的份額。其中，日本四家廠商東京應化、JSR、信越化學、富士膠片占據了72%的市場份額。先進的高分辨率KrF和ArF半導體光刻膠已占全球半導體光刻膠的63%，該核心技術亦被日本和美國

3、企業(yè)壟斷，其中日本廠商占KrF光刻膠的市場份額達到了83%，占ArF光刻膠的市場份額達到了91%。在EUV光刻膠方面，日本公司富士膠片、信越化學、住友化學專利數(shù)排名前三位，前十大企業(yè)中七席被日本公司占據。日本光刻膠企業(yè)在全球光刻膠市場中占據絕對的支配地位。光刻膠隨著半導體市場規(guī)模的擴張保持著同比例變動，隨著半導體制程節(jié)點不斷縮小，光刻工藝對光刻膠要求越來越高，需求量也越來越大。2019年全球半導體光刻膠的市場規(guī)模達到17.7億美元，隨著下游應用功率半導體、傳感器、存儲器等需求的擴大，預計2022年全球半導體光刻膠的市場規(guī)模將達到18億美元。從全球市場來看，LCD光刻膠占比較高，為26.6%，但

4、中國光刻膠市場集中于技術水平較低的PCB領域，占比達94.4%，LCD光刻膠和半導體光刻膠所占份額非常低；高端半導體光刻膠占比最小，僅為1.6%。目前國內光刻膠自給率僅10%，主要集中于技術含量相對較低的PCB領域。G線、I線光刻膠的自給率約為20%，KrF光刻膠的自給率不足5%，12寸硅片的ArF光刻膠目前尚無國內企業(yè)可以大規(guī)模生產。國內光刻膠主要企業(yè)包括南大光電、晶瑞股份、上海新陽、北京科華等。KrF光刻膠僅北京科華實現(xiàn)量產，晶瑞股份完成中試，上海新陽處于研發(fā)階段。極紫外EUV光刻膠僅北京科華研發(fā)，通過02專項驗收。ArF光刻膠材料是集成電路制造領域的重要關鍵材料，可以用于90nm-14nm甚至7nm技術節(jié)點的集成電路制造工藝，廣泛應用于高端芯片制造。ArF光刻膠北京科華和上海新陽處于研發(fā)階段。南大光電12月17日公告稱，公司控股子公司寧波南大光電自主研發(fā)的ArF光刻膠產品近日成功通過客戶的使用認證，這標志著“ArF光刻膠產品開發(fā)和產業(yè)化”項目取得了關鍵性的突破，成為國內通過產品驗證的第一只國產ArF光刻膠。中國光刻膠市場本土供應量增速高于全球平均水平，發(fā)展空間巨大。受益于本土半導體產能持續(xù)擴大和集成電路大基金的支持，國產光刻膠正在迎來前所未有的發(fā)展機遇。行業(yè)研