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文檔簡介
1、電子產(chǎn)業(yè)鏈的地基,光刻工藝的“底片”承載核心電路圖形,半導(dǎo)體行業(yè)不可或缺的耗材掩膜版(Photomask)又稱為光掩模、光罩、光刻掩膜版,作為微電子制造過程中的圖形轉(zhuǎn) 移工具或者母版,承載著圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)信息,被認(rèn)為是光刻工藝的“底片”。下游企 業(yè)利用成品掩膜版,將設(shè)計(jì)好的電路圖形通過曝光光源(透光或非透光)的方式印刻在下游 制程材料上。下游企業(yè)由此可以復(fù)制掩膜版上承載的圖形設(shè)計(jì)以及工藝技術(shù)信息并實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),因此該技術(shù)對下游產(chǎn)品的質(zhì)量和精度產(chǎn)生重要影響。掩膜版應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片(IC)、平板 顯示(FPD)、觸控(TP)、電路板(PCB)等行業(yè)。圖 1:掩膜版工作原理圖 2:半導(dǎo)體芯片(IC)
2、掩膜版示意圖清溢光電招股書,路維光電招股書,掩膜版主要由基板和遮光膜兩個(gè)部分組成?;宸譃闃渲搴筒AЩ澹AЩ宓闹髁鳟a(chǎn)品為石英基板和蘇打基板。遮光膜分為乳膠和硬質(zhì)遮光膜兩種。掩膜版按照產(chǎn)品可分為 4 類,分別為鉻版、干版、菲林和液體凸版。其中,鉻版的精度最高,耐用性更好,廣泛應(yīng)用于 IC、FPD、PCB 等行業(yè);而干版、液體凸版和菲林主要應(yīng)用于中低精度的行業(yè)。目前,石英掩膜版和蘇打掩膜版是最常見的兩種主流產(chǎn)品,均屬于玻璃基板。石英掩膜版使用石英玻璃作為基板材料,光學(xué)透過率高,熱膨脹率低,相比蘇打玻璃更為平整和耐磨,使用壽命長,主要用于高精度掩膜版。蘇打掩膜版使用蘇打玻璃作為基板材料,光
3、學(xué)透過率較高,熱膨脹率相對高于石英玻璃,平整度和耐磨性相對弱于石英玻璃,主要用于中低精度掩膜版。除此之外,凸版和菲林產(chǎn)品根據(jù)需求也偶爾被使用。凸版使用不飽和聚丁二烯樹脂作為基板材料,主要用于液晶顯示器(LCD)制造過程中定向材料移??;菲林使用 PET 作為基板材料,主要應(yīng)用于電路板掩膜。圖 3:掩膜版工作原理圖 4:半導(dǎo)體芯片(IC)掩膜版示意圖清溢光電招股書,清溢光電招股書,表 1:掩膜版的不同分類方式按組成方式按基板分類樹脂基板菲林等玻璃基板石英玻璃、硼硅玻璃、鈉鈣玻璃等按遮光膜分類乳膠遮光膜干版等硬質(zhì)遮光膜鉻、硅、硅化鉬、氧化鐵等按產(chǎn)品分類鉻版、菲林、干版、液體凸版等按應(yīng)用領(lǐng)域分類 半導(dǎo)
4、體芯片(IC)、平板顯示(FPD)、電路板(PCB)、觸控(TP)等資料來源:清溢光電招股書、整理表 2:掩膜版的下游細(xì)分領(lǐng)域產(chǎn)品名稱細(xì)分應(yīng)用領(lǐng)域掩膜版的世代劃分集成電路(IC)制造;集成電路(IC)封裝;半導(dǎo)體掩膜版平板顯示掩膜版半導(dǎo)體器件制造,包括分立器件、光電子器件、傳感器及微機(jī)電(MEMS)等;LED 芯片外延片制造。薄膜晶體管液顯示器(TFT-LCD)制造;包括 TFT-Array制程和 CF 制程有源矩陣有機(jī)發(fā)光二極管顯示器(AMOLED)制造;扭曲/超扭曲向列型液晶顯示器(TN/STN-LCD)制造。無世代劃分根據(jù)掩膜版的尺寸不同, 掩膜版可劃分為不同的世代, 主要有 G4 及以
5、下、G5、G6、 G8.5、G8.6、G11觸控掩膜版用于觸控屏的制造過程無世代劃分電路板掩膜版用于 PCB 及 FPC 的制造國程無世代劃分資料來源:路維光電招股書、整理上下游涉及廣泛,多方技術(shù)的結(jié)晶上游:掩膜版設(shè)備、掩膜基板、遮光膜、化學(xué)試劑;供應(yīng)商如日本東曹、日本越信化學(xué)、日本尼康、菲力華、石英股份等。中游:掩膜版制造;主要企業(yè)包括日本 HOYA、日本 DNP、韓國 LG-IT、日本 SKE、清溢光電、路維光電。下游:IC 制造、FPD 平板顯示、觸控(TP)、電路板(PCB);主要企業(yè)為臺積電、英特爾等半導(dǎo)體廠商;以及、天馬、TCL 等平板顯示廠商。圖 5:掩膜版產(chǎn)業(yè)鏈上下游資料來源:
6、整理制造工藝復(fù)雜,光刻技術(shù)為核心掩膜版的生產(chǎn)流程為(1)在基底材料上鍍一層金屬鉻和感光膠,成為一種感光材料,也就是空白掩膜版(掩膜基板)。(2)把根據(jù)不同下游應(yīng)用需求所設(shè)計(jì)的電路圖用激光設(shè)備曝光在感光膠上,在金屬鉻上被顯影出來,再將不需要的金屬層和膠層洗去,得到成品掩膜版。(3)下游晶圓廠通過光刻機(jī)將掩膜版上的電路圖形印制在晶圓(或其他襯底)上,從而生產(chǎn)出芯片。圖 6:掩膜版生產(chǎn)工序清溢光電招股書,整理主要工藝流程為:圖形設(shè)計(jì):收到客戶圖形后,通過專業(yè)設(shè)計(jì)軟件對客戶的圖形做二次編輯處理與檢查。圖形轉(zhuǎn)換:將客戶要求的版圖設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)分層,運(yùn)算。再按照相應(yīng)的工藝參數(shù)將文件格式轉(zhuǎn)換為光刻設(shè)備專用的數(shù)據(jù)形
7、式。圖形光刻:通過光刻機(jī)進(jìn)行激光光束直寫完成客戶圖形曝光。掩膜版制造都是采用正性光刻膠,通過激光作用使需要曝光區(qū)域的光刻膠內(nèi)部發(fā)生交聯(lián)反應(yīng),從而產(chǎn)生性能改變。顯影:將曝光完成后的掩膜版顯影,以便進(jìn)行蝕刻。在顯影液的作用下,經(jīng)過激光曝光區(qū)域的光刻膠會溶解,而未曝光區(qū)域則會保留并繼續(xù)保護(hù)鉻膜。蝕刻:對鉻層進(jìn)行蝕刻,保留圖形。在蝕刻液的作用下,沒有光刻膠保護(hù)的區(qū)域會被腐蝕溶解,而有光刻膠保護(hù)的區(qū)域的鉻膜則會保留。脫膜:光刻膠的保護(hù)功能已經(jīng)完成,脫膜工序通過脫膜液去除多余光刻膠。清洗:將掩膜版正、反面的污染物清洗干凈,為缺陷檢驗(yàn)做準(zhǔn)備。尺寸測量:按照品質(zhì)協(xié)議對掩膜版關(guān)鍵尺寸(CD 精度)和圖形位臵(T
8、P 精度)進(jìn)行測量,判定尺寸的準(zhǔn)確程度。缺陷檢查:對照客戶技術(shù)/品質(zhì)指標(biāo)檢測掩膜版制版過程產(chǎn)生的缺陷并記錄坐標(biāo)及相關(guān)信息。掩膜版的基本檢查主要有:基板、名稱、版別、圖形、排列、膜層關(guān)系、傷痕、圖形邊緣、微小尺寸、絕對尺寸、缺陷檢查等。缺陷修補(bǔ):對檢驗(yàn)發(fā)現(xiàn)缺陷進(jìn)行修補(bǔ)。修補(bǔ)包括對丟失的細(xì)微鉻膜進(jìn)行 LCVD 沉積補(bǔ)正以及對多余的鉻膜進(jìn)行激光切除等。清洗:再次清洗為貼合掩膜版 Pellicle 做準(zhǔn)備。貼膜:將 Pellicle 貼合在掩膜版之上,降低下游客戶制造過程中灰塵造成的不良率。檢查:對掩膜版作最后檢測工作,以確保掩膜版符合品質(zhì)指標(biāo)。出貨:對掩膜版進(jìn)行包裝,然后發(fā)貨。光刻是掩膜版制造的重要
9、環(huán)節(jié),主要的技術(shù)分為激光直寫法和電子束直寫法,激光直寫法將較高波長的連續(xù)或者脈沖激光光源,整形精縮為 200-500nm 的激光點(diǎn)在掩膜光刻膠上畫出電路圖案后,通過顯影刻蝕獲得電路圖案。該寫法的優(yōu)勢為(1)光刻速度可以達(dá)到數(shù)百至數(shù)千 mm2/min,寫法速度顯著更快;(2)適用于大尺寸掩膜版,能夠提高下游廠商光刻工序的效率,同時(shí)降低了下游廠商的生產(chǎn)成本。電子束直寫法以小至納米級的電子束為筆,在掩膜光刻膠上刻畫電路圖案,在曝光顯影后,通過濕法或干法刻蝕獲得電路圖形。這種寫法精度更高,可達(dá)到納米級。但是由于制作速度較慢,僅適合應(yīng)用于小尺寸掩膜版。精細(xì)+大尺寸為技術(shù)發(fā)展方向,廠商向上游布局自 90
10、年代以來,投影式曝光成為了光刻技術(shù)的主流。隨著線寬的縮小以及光刻技術(shù)的提升,掩膜版的復(fù)雜程度和所需數(shù)量快速增加。當(dāng)線寬達(dá)到 32nm 時(shí),傳統(tǒng)光刻受到物理規(guī)律的限制必須采用其他的輔助技術(shù)繼續(xù)提升其分辨率;而當(dāng)線寬小于 28nm 時(shí),需要運(yùn)用多重曝光技術(shù)將掩膜版拆分成多個(gè),分別進(jìn)行曝光。與此同時(shí),掩膜版的制造與維護(hù)成本也有所提升,制造周期延長。掩膜版是光刻工序的費(fèi)用支出中重要的一部分。掩膜線寬18013090654522成本 2687150300600900-1,400表 3:掩膜線寬對應(yīng)的成本( nm)($10,000)IBS,整理在消費(fèi)電子領(lǐng)域,顯示產(chǎn)品的性能要求逐步提高,手機(jī)、電腦等電子設(shè)
11、備追求著更高清、色彩更飽和、更輕薄的發(fā)展方向。下游的需求向上傳遞,對 IC 和FPD 掩膜版的精度與技術(shù)要求越愛越高,促進(jìn)了掩膜版行業(yè)近些年的新技術(shù)誕生。比如低溫多晶硅(LTPS)、金屬氧化物(Oxide)、有機(jī)發(fā)光半導(dǎo)體顯示(AMOLED)等悉尼帶顯示技術(shù)均需要相應(yīng)的掩膜版產(chǎn)品與之配套。精細(xì)化:根據(jù) IHS 預(yù)測,未來顯示屏的顯示精度將從 450PPI(Pixel Per Inch,即每英寸像素)逐步提高到 650PPI 以上,對 FPD 掩膜版的半導(dǎo)體層、光刻分辨率、最小過孔、CD 均勻性、套合精度、缺陷大小、潔凈度均提出了更高的技術(shù)要求。圖 7:平面顯示用掩膜技術(shù)路線預(yù)測圖圖 8:電視面
12、板尺寸預(yù)測(單位:百萬臺)IHS,清溢光電招股書,IHS,清溢光電招股書,大型化:自 2007 年液晶電視開始占據(jù)主流市場后,其平均尺寸大約按照每年增加 1 英寸的速度平穩(wěn)增長。根據(jù) HIS 統(tǒng)計(jì)和預(yù)測,43 英寸、55 英寸、65 英寸、70 英寸等大尺寸電視出貨量逐年增長。一般 6 代線以上成為高世代線,主要用于生產(chǎn) 32 英寸以上的大尺寸液晶面板。產(chǎn)業(yè)鏈向上游拓展:掩膜版的主要原材料為掩膜基板。同時(shí),隨著掩膜版行業(yè)下游客戶對其最終產(chǎn)品的品質(zhì)要求不斷提升,促使掩膜版企業(yè)不斷追求產(chǎn)品品質(zhì)上的突破,而掩膜基板的質(zhì)量對掩膜版成品的質(zhì)量有決定性的影響。因此,從降低原材料采購成本和控制終端產(chǎn)品質(zhì)量出
13、發(fā),掩膜版行業(yè)中的主要廠商陸續(xù)向上游行業(yè)延申,部分企業(yè)已具備研磨、拋光、鍍鉻、涂膠等掩膜基板全產(chǎn)業(yè)鏈的生產(chǎn)能力。降低原材料采購成本的同時(shí),有效的縱向把控了整個(gè)生產(chǎn)工序的質(zhì)量,保證了成品的高品質(zhì)。當(dāng)少部分企業(yè)達(dá)到了上游延申的戰(zhàn)略布局之后,其他企業(yè)將受到降價(jià)以及質(zhì)量要求的壓力。因此,我們認(rèn)為當(dāng)掩膜版企業(yè)具備足夠?qū)嵙Φ那闆r下,將逐步向上游產(chǎn)業(yè)鏈拓展。表 4:業(yè)內(nèi)主要企業(yè)向上游布局情況項(xiàng)目日本 HOYA韓國 LG-IT日本 SKE日本 DNP日本TOPPAN韓國 PKL清溢光電基板研磨拋光鍍鉻涂膠資料來源:清溢光電招股書,清溢光電年報(bào),整理國產(chǎn)+產(chǎn)品創(chuàng)新雙輪驅(qū)動,下游發(fā)展促進(jìn)國內(nèi)廠商成長下游用途廣泛,
14、IC+FPD 領(lǐng)域撐起半壁江山根據(jù) SEMI 的數(shù)據(jù),全球半導(dǎo)體材料市場規(guī)模呈現(xiàn)穩(wěn)步增長態(tài)勢,從 2017 年 469 億美元增長至 2021 年 643 億美元。其中,掩膜版作為半導(dǎo)體材料重要的一部分,2020 年占比 12%。由此推算,我們估算 2021 年全球 IC 掩膜版市場規(guī)模為 77.16 億美元。掩膜版主要應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片(IC)以及平板顯示(FPD)兩大下游領(lǐng)域,也有客戶采購空白掩膜版進(jìn)行定制。根據(jù) Omdia 的數(shù)據(jù),2021 年全球平板顯示掩膜版的市場規(guī)模預(yù)計(jì)為 60 億元,中國大陸占比約 52%。2016-2019 年的復(fù)合增速高達(dá) 13.43%,隨著面板行業(yè)高速發(fā)展以及
15、國產(chǎn)供應(yīng)商話語權(quán)不斷增加,全球市場規(guī)模的高增速有望維持,同時(shí)中國大陸的市場份額呈上升趨勢。圖 9:2017-2021 年全球半導(dǎo)體材料市場規(guī)模及增速圖 10:2020 全球半導(dǎo)體材料結(jié)構(gòu)占比70060050040030020010002017201820192020202118%市場規(guī)模(億美元)同比64352952155546912.8%15.9%5.9%6.5%-1.5%16%14%12%10%8%6%4%2%0%-2%-4%511%12%2%7%3%112%38%掩膜版硅片光刻膠及相關(guān)試劑電子特氣工藝化學(xué)品 CMP材料 靶材其他SEMI,整理SEMI,整理晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)全球第一,大陸 IC
16、掩膜版市場份額增長可期根據(jù) SEMI 的數(shù)據(jù),2019 年全球 IC 掩膜版的市場規(guī)模達(dá)到 41 億美元;The Insight Partners預(yù)計(jì) 2027 年市場規(guī)模達(dá)到 59 億美元,2019-2027 年的復(fù)合增速為 4.65%。根據(jù) SEMI 的數(shù)據(jù) 2019 年中國 IC 掩膜版的市場規(guī)模為 1.44 億美元,預(yù)計(jì)于 2021 年達(dá)到 1.92 億美元,復(fù)合增速高達(dá) 16.32%。截止 2019 年,全球前三大的 IC 掩膜版市場依次是中國臺灣(37.92%)、韓國(20.91%)、北美(19.33%),中國大陸僅占比 0.6%。隨著下游大幅擴(kuò)產(chǎn)、技術(shù)水平提升等行業(yè)發(fā)展因素,IC
17、 掩膜版的需求有望被帶動,參考 FPD 掩膜版行業(yè)的發(fā)展歷程,我們預(yù)計(jì)中國大陸的市場規(guī)模占比將迅速提升。圖 11:2012-2021 全球 IC 掩膜版市場規(guī)模及地區(qū)分布SEMI,近些年的缺芯行情+半導(dǎo)體逆全球化引發(fā)了全球晶圓廠的大幅擴(kuò)產(chǎn),而下游產(chǎn)能的提升將帶來更大的 IC 掩膜版的需求。SEMI 預(yù)計(jì)從 2021 年下半年到 2024 年,將有 25 家新建的 8 英寸晶圓廠投入運(yùn)營,其中中國大陸 14 家,預(yù)計(jì)全球 8 英寸產(chǎn)能將增加 18%。隨著 12 英寸硅片的普及,新增擴(kuò)建的 60 家 12 英寸晶圓廠將投入運(yùn)營,其中中國大陸 15 家。全球晶圓廠的快速擴(kuò)張促進(jìn)了半導(dǎo)體芯片掩膜版市場
18、規(guī)模的增長,高增速有望維持。面板行業(yè)下游話語權(quán)不斷增加助力國內(nèi)供應(yīng)商成長,大陸 FPD 掩膜版市場占比超一半 Omdia 的研究報(bào)告顯示:2019 年全球FPD 掩膜版的市場規(guī)模達(dá)到 58 億元,2016-2019 年復(fù)合增長率高達(dá) 13.43%。2020 年受新冠疫情影響同比下降 6.9%,但 FPD 掩膜版市場自 2020 下半年開始逐漸回暖,2021 年預(yù)計(jì)增長至 60 億元。中國約占比 52%,復(fù)合增速 20%。近些年隨著國家的投入以及日韓廠商的退出,以、TCL 為首的中國企業(yè)以高增速搶占全球市場份額。中國也成為了全球光電顯示行業(yè)的中心。受益于下游產(chǎn)業(yè)的高速發(fā)展,中國 FPD 掩膜版的
19、需求占全球的 52%。平板顯示行業(yè)長期呈現(xiàn)像素高精度化、大尺寸化、產(chǎn)品定制化等發(fā)展趨勢,2C 端電子設(shè)備的屏幕尺寸不斷增加,例如電視、手機(jī)、車載顯示、公共顯示等。根據(jù) Omdia 于 2021 年 9月的預(yù)測,2025 年全球平板顯示需求將達(dá)到 3 億平方米。圖 12:2018-2027 年全球平板顯示需求及預(yù)測(百萬平方米)Omdia,路維光電招股書,經(jīng)過多年的持續(xù)投資,我國平板顯示行業(yè)已成為國際供應(yīng)鏈重要的一部分,進(jìn)入了高速增長階段。首先,國內(nèi)平板顯示產(chǎn)業(yè)規(guī)模不斷擴(kuò)張,自給率穩(wěn)步提升,中國大陸地區(qū)的面板產(chǎn)能已經(jīng)位居世界第一。根據(jù) Omdia 的數(shù)據(jù),2021 年中國大陸6 代以上產(chǎn)能占比全
20、球超過70%; 6 代及以下產(chǎn)能占比 32.3%,預(yù)計(jì) 2026 年產(chǎn)能占比達(dá)到 43.6%。其次,在已有產(chǎn)能的基礎(chǔ)上,國內(nèi)面板廠商仍在進(jìn)行大幅擴(kuò)產(chǎn),多條 AMOLED/LTPS 生產(chǎn)線建設(shè)進(jìn)程順利;根據(jù)清溢光電 2021 年年報(bào),預(yù)計(jì) 2023 年有 18 條 8.5/8.6 代高精度 TFT 產(chǎn)線,以及 22 條 6 代及以下高精度線完成建設(shè)并投產(chǎn)。下游行業(yè)的大局?jǐn)U產(chǎn)將促進(jìn)上游配套體系的完善,隨著中國大陸的顯示面板行業(yè)在全球占比穩(wěn)步提升,國內(nèi)的 FPD 掩膜版行業(yè)將迎來紅利。上游空白掩膜版的國內(nèi)自給規(guī)模進(jìn)入高增長階段,2030 年自給率有望超60%空白掩膜版又叫做掩膜基板,是在基底材料上鍍
21、一層金屬鉻和感光膠后的產(chǎn)品,用于刻印圖形設(shè)計(jì)或電子信息的材料,屬于掩膜版的上游。隨著中國掩膜版行業(yè)的發(fā)展,國內(nèi)空白掩膜版的需求逐步提升。掩膜版廠商就近配套的戰(zhàn)略傾向,以及國產(chǎn)+產(chǎn)業(yè)鏈自主供應(yīng)的大趨勢下,自給率有望大幅提升。根據(jù)中研網(wǎng)的數(shù)據(jù)及預(yù)測,2019 年中國空白掩膜版的市場規(guī)模約為 5.1 億美元(35 億元),其中自給規(guī)模僅為 1.14 億美元,自給率 22.4%左右。2030年預(yù)計(jì)需求規(guī)模達(dá)到 11.5 億美元,同時(shí)自給規(guī)模達(dá)到 7.12 美元(48.8 億元),自給規(guī)模復(fù)合增長率高達(dá) 18.1%,自給率 61.9%。圖 13:2019-2030 年中國空白掩膜版市場規(guī)模預(yù)測中研網(wǎng),整
22、理掩膜版為高壁壘行業(yè),國外企業(yè)占據(jù)主導(dǎo)地位縱觀整個(gè)掩膜版產(chǎn)業(yè)鏈(設(shè)備、材料、制造等等),我國仍處于產(chǎn)業(yè)鏈的低端位臵,相應(yīng)配套企業(yè)較少。FPD 平板顯示領(lǐng)域:近些年國內(nèi) FPD 需求持續(xù)增長,但是能夠配套 FPD 掩膜版的國產(chǎn)供應(yīng)商少之又少,以路維光電和清溢光電為首,主要針對 G8.5 以下的掩膜版。AMOLED、 Grey-tone、Half-tone 等掩膜版基本依賴進(jìn)口。根據(jù) Omdia 統(tǒng)計(jì),2020 年全球平板顯示領(lǐng)域前五廠商分別為 Photronics、SKE、HOYA、LG- IT、清溢光電;銷售規(guī)模分別為 13.05 億元、11.78 億元、11.47 億元、11.42 億元和
23、3.87 億元,合計(jì)占全球銷售規(guī)模的 88%。國內(nèi)第二的路維光電以 2.76 億元銷售額、4.6%的市占率位居全球第八名。清溢光電主要聚焦在 G8.5 及以下,而路維光電在 G11 超高世代的細(xì)分領(lǐng)域頗具規(guī)模,以 13.97%的市占率位居全球第四名。即便如此,國產(chǎn)廠商的規(guī)模跟國際龍頭相比有一定距離,在市場上缺乏定價(jià)權(quán),受國際龍頭競爭策略的影響較大。SKE 22%LG-IT 21%清溢光電7%HOYA21%Photronics24%路維光電5%其他18%DNP23%Toppan 27%Photronics 32%圖 14:2020 年全球掩膜版廠商市場份額圖 15:2020 年半導(dǎo)體芯片掩膜版第
24、三方廠商市場份額Omdia,整理華經(jīng)產(chǎn)業(yè)研究院,半導(dǎo)體芯片掩膜版領(lǐng)域:在獨(dú)立的第三方市場中,IC 掩膜版主要由美國 Photronics、日本 DNP 和 Toppan 掌握。市場高度集中,呈現(xiàn)壟斷格局。表 5:掩膜版行業(yè)國際龍頭企業(yè)公司公司簡介福尼克斯成立于 1969 年,于 1987 年在美國納斯達(dá)克市場(NASDAQ)上市,股票代碼 PLAB。福尼克斯目前在全PhotronicsSKE球范圍內(nèi)擁有十一家工廠,主要產(chǎn)品為集成電路和平板顯示用掩膜版,公司擁有全球領(lǐng)先的 IC 和 FPD 掩膜版技術(shù)。 SKE 成立于 2001 年,由 SHASHIN KAGAKU 的電子部門拆分而來,股票代碼
25、 6677。SKE 的主要產(chǎn)品為平板顯示用掩膜版,擁有 G10 和 G11 掩膜版生產(chǎn)線。除掩膜版外,SKE 的產(chǎn)品還包括印刷電子、射頻識別產(chǎn)品和醫(yī)療電子。臺灣光罩臺灣光罩成立于 1988 年,于 1995 年在臺灣證券交易所上市,股票代碼 2338。公司的主要產(chǎn)品為半導(dǎo)體芯片掩膜版,目前可以量產(chǎn) 0.18、0.15、0.11 及 0.09 微米的光罩。DNP 成立于 1876 年,在東京證券交易所上市,股票代碼 7912。公司業(yè)務(wù)由出版印刷和商業(yè)印刷逐漸擴(kuò)展到包裝、建DNPToppanHOYA材、顯示器相關(guān)產(chǎn)品和電子器件等領(lǐng)域。顯示器相關(guān)產(chǎn)品包括液晶彩色濾光片、掩膜版、觸控面板感應(yīng)片、顯示器
26、用光學(xué)薄膜等;電子器件業(yè)務(wù)包括半導(dǎo)體芯片掩膜版、硬盤驅(qū)動器用引線框架、LED 用金屬板、相機(jī)模塊、圖像處理系統(tǒng) LSI、電子紙顯示系統(tǒng)、微機(jī)電產(chǎn)品等。公司成立于 1900 年,在東京證券交易所上市,股票代碼 7911。Toppan 是一家多元化的大型集團(tuán)公司,其業(yè)務(wù)分為以下八個(gè)模塊:內(nèi)容創(chuàng)作、安防解決方案、紙質(zhì)包裝、阻隔薄膜、裝飾材料、顯示元器件(彩色濾光片、金屬掩膜版等)以及半導(dǎo)體解決方案(包括半導(dǎo)體用掩膜版、半導(dǎo)體封裝等)。HOYA 成立于 1941 年,在東京證券交易所上市,股票代碼 7741。HOYA 聚焦生產(chǎn)光學(xué)玻璃,主要應(yīng)用于信息技術(shù)和醫(yī)療保健領(lǐng)域,產(chǎn)品涵蓋眼鏡、醫(yī)用內(nèi)窺鏡、眼內(nèi)透
27、鏡、光學(xué)透鏡以及電子器件(包括半導(dǎo)體掩膜版及其基板、平板顯示用掩膜版以及硬盤用玻璃磁盤)。公司為福布斯全球 2000 強(qiáng)公司和產(chǎn)業(yè)活動周 1000 強(qiáng)公司。LG-ITLG-IT 成立于 1970 年,為韓國 LG 集團(tuán)子公司,在韓國證券交易所上市,股票代碼 011070。LG-IT 主要為汽車、移動、物聯(lián)網(wǎng)、顯示器、半導(dǎo)體、LED 等行業(yè)開發(fā)關(guān)鍵材料和組件,其產(chǎn)品包括攝像頭模組、掩膜版和膠帶基材等。資料來源:南方財(cái)富網(wǎng),整理掩膜版材料長期依賴進(jìn)口:掩膜版的原材料和中間材料為玻璃基板、鍍鉻膜層、光刻膠、遮光膜等。石英掩膜版憑借著高精密度的優(yōu)勢成為了行業(yè)主流的選擇。全球龍頭廠商均以石英掩膜版產(chǎn)品為
28、主。由于石英基材的生產(chǎn)難度極高,我國尚未實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)化,長期以來依靠進(jìn)口。掩膜版的上游材料供應(yīng)商集中在日韓,國內(nèi)主要有菲利化、石英股份兩家廠商在供應(yīng) FPD掩膜版的原材料。IC 掩膜版用的高精度材料基本被日韓企業(yè)壟斷。相關(guān)標(biāo)的路維光電(688401):FPD 掩膜版全世代產(chǎn)線覆蓋,G11 技術(shù)引領(lǐng)國產(chǎn)路維光電自 1997 年成立,一直致力于掩膜版的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售,產(chǎn)品主要用于平板顯示、半導(dǎo)體、觸控和電路板等行業(yè)。經(jīng)過多年技術(shù)積累和自主創(chuàng)新,公司在 G11 超高世代掩膜版、高世代高精度半色調(diào)掩膜版和光阻涂布等產(chǎn)品和技術(shù)方面,打破了國外廠商的長期壟斷。公司擁有國內(nèi)首條 G11 超高世代掩膜版產(chǎn)線,是
29、國內(nèi)唯一一個(gè)覆蓋 G2.5-G11 全世代產(chǎn)線的國產(chǎn)廠商。公司 G11 掩膜版產(chǎn)品的下游客戶主要為和華星光電。同時(shí),公司實(shí)現(xiàn)了250nm制程節(jié)點(diǎn)半導(dǎo)體掩膜版量產(chǎn),并掌握了 180nm/150nm 節(jié)點(diǎn)半導(dǎo)體掩版制造核心技術(shù),滿足先進(jìn)半導(dǎo)體芯片封裝和器件等應(yīng)用需求。公司在平板顯示領(lǐng)域的主要客戶為、華星光電、中電熊貓、天馬等公司;在半導(dǎo)體領(lǐng)域,公司已有客戶士蘭微、晶方科技、華天科技、通富微電等。圖 16:路維光電大尺寸掩膜版圖 17:路維光電中小尺寸掩膜版路維光電官網(wǎng),路維光電官網(wǎng),根據(jù)路維光電官網(wǎng),公司大尺寸掩膜版主要應(yīng)用于(1)TFT LCD、OLED 等顯示面板行業(yè);(2)TP 觸控屏行業(yè);
30、(3)FPC/PCB 線路板行業(yè)。公司中小尺寸掩膜版主要應(yīng)用于(1)IC/IC bumping 行業(yè);(2)MEMS、LED、分立器件行業(yè);(3)光器件、光通訊行業(yè)。圖 18:2016-2022H1 路維光電營業(yè)收入及增速圖 19:2016-2022H1 路維光電歸母凈利潤及增速營業(yè)收入(億元)同比(%)84.01% 4.9364.0171.052 1.06850.55%35.77% 2.1831.452.92343.47%10.62%22.88%1.52%654390%80%70%60%50%40%0.60.50.40.30.20.182歸母凈利潤(億元)同比(%)518.03% 0.523
31、1 0.46080.3246151.98%0.1179600%500%400%300%200%100%2102016201820202022H130%20%10%0%0.10-0.1-0.270.49%20160.0658-35.22%-44.19%20182020-0.07765-218.01%61.15%2022H10%-100%-200%-300%路維光電招股書,整理路維光電招股書,整理從財(cái)務(wù)數(shù)據(jù)來看,2016-2021 年公司營業(yè)收入保持了較高的增速,從 2016 年 1.052 億元增長到 2021 年 4.94 億元,2021 年同比增長 22.88%。公司歸母凈利潤從 2016
32、年的 1820 萬增長到 2021 年的 5231 萬,2021 年同比增長 61.15%。2022H1 公司實(shí)現(xiàn)了高增長,營業(yè)收入達(dá)到 2.92 億元,同比增長 43.47%;同期歸母凈利潤達(dá)到 4608 萬元,同比增長 151.98%。公司主營業(yè)務(wù)收入的增長動力主要在于高世代掩膜版量產(chǎn)、56 代線掩膜版以及半導(dǎo)體掩膜版產(chǎn)能、銷售規(guī)模持續(xù)增長,與主要客戶的合作規(guī)模進(jìn)一步提升。公司毛利率與凈利率水平從 2019 開始持續(xù)提升,目前分別為 29.21%和 15.76%。圖 20:2016-2022H1 路維光電利潤率水平圖 21:2021 年路維光電下游領(lǐng)域占比觸控6%電路板1%半導(dǎo)體芯片(IC
33、)行業(yè)20%平板顯示(FPD)行業(yè) 73%毛利率凈利率44.09%36.98% 39.65%17.30%29.21%21.42% 23.15% 26.26%15.76%11.04%4.54%8.08% 10.60%-3.56%201620172018201920202021 2022H150%40%30%20%10%0%-10%路維光電招股書,整理路維光電招股書,整理圖 22:2018-2021 年路維光電分業(yè)務(wù)毛利率圖 23:2021 年路維光電分業(yè)務(wù)毛利占比石英掩膜版 82.25%其他0.13%蘇打掩膜版 17.63%石英掩膜版蘇打掩膜版其他201820192020202150%40%30
34、%20%10%0%-10%-20%路維光電招股書,整理路維光電招股書,整理公司主營業(yè)務(wù)收入結(jié)構(gòu)方面,平板顯示領(lǐng)域占比 72.66%,半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域占比 19.68%,觸控領(lǐng)域占比 6.11%。電路板領(lǐng)域占比 1.55%。公司以平板顯示為主要業(yè)務(wù),半導(dǎo)體芯片作為增量市場。在平板顯示領(lǐng)域內(nèi),G6 占比最高,達(dá)到了 30.47%。2021 年 G8.6 的銷售規(guī)模實(shí)現(xiàn)了高速增長,從 2020 年的 378 萬至 2021 年的 5282 萬,同比增速高達(dá) 1295.75%。值得關(guān)注的是,公司超高世代 G11 產(chǎn)品銷售規(guī)模為 6286 萬元,占比 17.69%,是公司平板顯示領(lǐng)域第三大產(chǎn)品,代表了公司
35、在超高世代領(lǐng)域的量產(chǎn)、規(guī)模銷售能力。 表 6:2021 年路維光電平板顯示領(lǐng)域產(chǎn)品占比2021(萬元)2020(萬元)同比2021 結(jié)構(gòu)占比G116,285.828,016.04-21.58%17.69%G8.65,282.49378.471,295.75%14.87%G8.54,634.243,489.7832.79%13.04%G610,824.727,772.4139.27%30.47%G57,173.246,985.692.68%20.19%G4 及以下1,328.25973.4536.45%3.74%資料來源:路維光電招股書,公司將持續(xù)投入研發(fā),母公司和路維科技研發(fā)團(tuán)隊(duì)主要的研發(fā)領(lǐng)域
36、為 G6 及以下TFT 掩膜版及半導(dǎo)體掩膜版光刻精度及效率提升、高效脫膜技術(shù)、掩膜版表面防護(hù)技術(shù)、電子束光刻及干法制程研究等;成都路維研發(fā)團(tuán)隊(duì)主要的研發(fā)領(lǐng)域?yàn)?G8.5 及以上 TFT 掩膜版高精度光刻工藝開發(fā)、掩膜版涂布工藝開發(fā)、高世代掩膜版光學(xué)膜貼附工藝開發(fā)等。清溢光電(688138):二十年磨一劍,國內(nèi)最大掩膜版廠商深圳清溢光電創(chuàng)立于 1997 年,從事于掩膜版的研發(fā)、設(shè)計(jì)、制造和銷售業(yè)務(wù),是中國大陸成立最早、規(guī)模最大的掩膜版廠商之一。提高二十多年的努力,公司產(chǎn)品完成了從低精度、小尺寸到高進(jìn)度、大尺寸的跨越。目前,公司客戶包含了國內(nèi)外的領(lǐng)軍企業(yè),比如 FPD 領(lǐng)域的、天馬、華星光電、群創(chuàng)
37、光電、瀚宇彩晶、龍騰光電、維信諾等等;IC 領(lǐng)域的客戶包括中芯國際、英特爾、艾克爾、顧邦科技、長電科技、士蘭微等等。圖 24:2016-2022H1 清溢光電營業(yè)收入及增速圖 25:2012-2022H1 清溢光電歸母凈利潤及增速營業(yè)收入(億元)同比(%)65.4460%0.9歸母凈利潤(億元)同比(%)62.05% 0.7028 0.76290.626588.30%0.45740.38660.44538.55%12.18%0.3899-17.92%-15.48%-41.63%100%54.0744.804.8750.22%50%40%0.80.70.680%60%3.153.19321.49
38、%1 -5.82%027.55%17.75%1.56%3.4211.64%30%20%10%0%-10%0.50.40.30.20.1040%20%0%-20%-40%-60%2016201820202022H12016201820202022H1清溢光電年報(bào),整理清溢光電年報(bào),整理從財(cái)務(wù)數(shù)據(jù)來看,2016-2021 年公司營業(yè)收入穩(wěn)步增長,從 2016 年 3.15 億元增長到 2021年 5.44 億元,2021 年同比增長 11.64%。歸母凈利潤從 2016 年 4574 萬元增長到 2020 年的 7629 萬元,2021 年凈利潤為 4453 萬元,同比下降 41.63%。2022
39、H1 公司營業(yè)收入為3.419 億元,同比增長 50.22%;同期歸母凈利潤為 0.3899 萬元,同比增長 88.30%。根據(jù)公司 2021 年年報(bào),公司利潤率同比下降幅度較大,主要是因?yàn)楹戏首庸救蕴幱诋a(chǎn)能爬坡階段,整體產(chǎn)銷規(guī)模較小,而折舊等固定成本相對較大,加之公司研發(fā)費(fèi)用、財(cái)務(wù)費(fèi)用等同比增加,最終導(dǎo)致凈利潤下降。根據(jù)公司 2022 半年報(bào),2022H1 合肥子公司產(chǎn)能釋放,產(chǎn)銷規(guī)模迅速增長,因此公司營收實(shí)現(xiàn)較高增長。圖 26:2016-2022H1 清溢光電利潤率水平40%35%30%25%20%15%10%5%0%毛利率凈利率33.46%31.12%31.47%33.56%30.64
40、%25.03%23.70%14.53%12.10%15.38%14.65%15.66%8.19%11.40%2016201820202022H1清溢光電年報(bào),整理石英掩膜版蘇打掩膜版其他產(chǎn)品(凸版&菲林)圖表標(biāo)題圖 27:2016-2021 年清溢光電分業(yè)務(wù)毛利率圖 28:2021 年清溢光電分業(yè)務(wù)毛利占比60%蘇打掩膜版 19.86%其他業(yè)務(wù)收入9.18%石英掩膜版70.97%50%40%30%20%10%0%201620172018201920202021清溢光電年報(bào),整理清溢光電年報(bào),整理從公司的下游領(lǐng)域來看,2021 年平板顯示占比營收 70.33%,半導(dǎo)體芯片占比 16.68%,其他
41、行業(yè)占比 13%。半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域?yàn)楣景l(fā)展最快的業(yè)務(wù),增速高達(dá) 39.42%,有望成為新的增量業(yè)務(wù)。從公司的產(chǎn)品角度,石英產(chǎn)品占比 83.76%,蘇打產(chǎn)品占比 15.39%,其他產(chǎn)品(包括凸版和菲林)占比 0.85%。圖 29:2021 年清溢光電下游領(lǐng)域占比圖 30:2021 年清溢光電產(chǎn)品占比平板顯示(FPD)行業(yè) 70.33%半導(dǎo)體芯片(IC)行業(yè)16.68%其他行業(yè)13.00%石英產(chǎn)品83.76%蘇打產(chǎn)品15.39%類別名稱百分比清溢光電年報(bào),整理清溢光電年報(bào),整理根據(jù)公司 2021 年年報(bào),在平板顯示用掩膜版技術(shù)方面,已實(shí)現(xiàn) 8.5 代高精度 TFT 用掩膜版以及 6 代中精度 AM
42、OLED/LTPS 用掩膜版的量產(chǎn),并完成了掩膜基板涂膠工藝的試產(chǎn),推動半透膜掩膜版(HTM)產(chǎn)品的逐步量產(chǎn)。正在研發(fā) 8.6 代高精度 TFT 用掩膜版和 6 代高精度 AMOLED/LTPS 用掩膜版,已規(guī)劃 6 代超高精度 AMOLED/LTPS 用掩膜版和高規(guī)格半透膜掩膜版(HTM)開發(fā)計(jì)劃。半導(dǎo)體芯片掩膜版技術(shù)方面,已實(shí)現(xiàn) 250nm 工藝節(jié)點(diǎn)的 6 英寸和 8英寸半導(dǎo)體芯片用掩膜版的量產(chǎn),正在推進(jìn) 180nm 半導(dǎo)體芯片用掩膜版的客戶測試認(rèn)證,同步開展130nm-65nm半導(dǎo)體芯片用掩膜版的工藝研發(fā)和28nm半導(dǎo)體芯片所需的掩膜版工藝開發(fā)規(guī)劃。菲利華(300395):專注石英玻璃領(lǐng)
43、域數(shù)十年,多家國際龍頭企業(yè)認(rèn)證菲利華成立于 1966 年,立足于石英玻璃領(lǐng)域,專注開發(fā)氣熔石英玻璃、合成石英玻璃、電 熔石英玻璃與石英玻璃纖維及制品,主導(dǎo)產(chǎn)品有石英玻璃錠、筒、管、棒、板、片,光學(xué)用 合成石英玻璃,石英玻璃器件,石英玻璃纖維系列產(chǎn)品,石英玻璃纖維立體編織預(yù)制件,以 石英玻璃纖維為基材的復(fù)合材料。公司產(chǎn)品應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片制造、航空航天、光學(xué)、光通 訊等領(lǐng)域。半導(dǎo)體領(lǐng)域作為公司最重要的下游市場之一,公司持續(xù)投入研發(fā)以及客戶開發(fā);公司是國內(nèi)首家獲得國際領(lǐng)先半導(dǎo)體設(shè)備商認(rèn)證的供應(yīng)商,其氣熔石英玻璃材料于 2011 年 通過了日本東京電子株式會社(TEL)半導(dǎo)體材料認(rèn)證,之后又獲得了泛林
44、研發(fā)(Lam Research)和應(yīng)用材料公司(AMAT)等半導(dǎo)體設(shè)備商的認(rèn)證。同時(shí),電熔石英玻璃材料研 發(fā)成功送樣客戶并得到客戶認(rèn)可,上海石創(chuàng)的石英玻璃器件加工通過上海中微半導(dǎo)體的認(rèn)證。圖 31:2016-2022H1 菲利華營業(yè)收入以及增速圖 32:2016-2022H1 菲利華歸母凈利潤以及增速營業(yè)收入(億元)同比(%)歸母凈利潤(億元)同比(%)1412.241257.04% 60%50%43.580%3.770.49%2.382.51.921.611.081.2255.46%37.05%31.97%19.25%23.96%12.96%70%10829.55%64.4145.4523.
45、58%7.227.7932.48%7.89%8.6441.67%8.5540%30%20%32.521.5160%50%40%30%20%210.91%0201620172018201920202021 2022H110%0%0.502016201820202022H110%0%菲利華年報(bào),整理菲利華年報(bào),整理從財(cái)務(wù)數(shù)據(jù)來看,2016-2021 年公司營業(yè)收入規(guī)??焖僭鲩L,從 2016 年 4.41 億元增長到2021 年 12.24 億元,2021 年同比增長 41.67%。同期,公司歸母凈利潤從 2016 年 1.08 億元增長至 2021 年 3.7 億元,2021 年同比增長 55.4
46、6%。公司 2022H1 繼續(xù)保持了業(yè)績的高增速,實(shí)現(xiàn)營業(yè)收入 8.55 億元,同比增長 57.04%;同時(shí),歸母凈利潤為 2.5 億元,同比增長 37.05%。公司利潤率從 2018 年開始穩(wěn)步提升,目前維持在較高水平,2022H1 毛利率高達(dá) 53.53%,凈利率為 29.24%。2021 年公司半導(dǎo)體領(lǐng)域石英材料銷售額同比增長 29%。在光學(xué)領(lǐng)域,公司于 2021 年推出了國內(nèi)首創(chuàng)的 8.5 代 TFT-LCD 光掩?;逡约昂铣墒⒐鈻欧瓷溏R、大規(guī)格高均勻高能激光透鏡用合成石英玻璃材料。圖 33:2016-2022H1 菲利華利潤率水平60%50%40%30%20%10%0%毛利率凈利
47、率48.09% 47.92%45.42%49.73% 52.07% 50.79% 53.53%24.49%22.39% 22.30%24.65% 27.55% 30.23% 29.24%201620172018201920202021 2022H1菲利華年報(bào),整理3.4. 石英股份(603688):半導(dǎo)體級石英促進(jìn)業(yè)務(wù)增量,利潤率穩(wěn)步提升石英股份成立于 1992 年,經(jīng)過二十多年的發(fā)展,公司已成為中國石英材料行業(yè)中的標(biāo)桿企業(yè)。公司主要使用天然石英礦石材料,專注于研發(fā)、生產(chǎn)與銷售。主導(dǎo)產(chǎn)品有高純石英砂、石英管(棒)、大口徑石英擴(kuò)散管、石英筒、石英錠、石英板等及多種石英器件,主要應(yīng)用于光源、光伏、半導(dǎo)體、光纖光學(xué)等領(lǐng)域。圖 34:2016-2022H1 石英股份營業(yè)收入及增速圖 35:2016-2022H1 石英股
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