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1、材料測(cè)試技術(shù)第六章第1頁(yè),共33頁(yè),2022年,5月20日,4點(diǎn)18分,星期四6-1 引 言內(nèi)應(yīng)力是指產(chǎn)生應(yīng)力的各種外部因素撤除之后材料內(nèi)部依然存在、并自身保持平衡的應(yīng)力。通常分為三類:第一類內(nèi)應(yīng)力;第二類內(nèi)應(yīng)力;第三類內(nèi)應(yīng)力。第一類內(nèi)應(yīng)力又稱宏觀應(yīng)力,在工程上常把宏觀應(yīng)力稱為殘余應(yīng)力。第2頁(yè),共33頁(yè),2022年,5月20日,4點(diǎn)18分,星期四類型名稱平衡范圍衍射效應(yīng)產(chǎn)生原因第一類內(nèi)應(yīng)力宏觀內(nèi)應(yīng)力在物體內(nèi)部相當(dāng)大(眾多晶粒)范圍內(nèi)使譜線位移熱處理、表面處理、機(jī)加工等第二類內(nèi)應(yīng)力微觀內(nèi)應(yīng)力晶粒、亞晶粒內(nèi)部使譜線寬化或衍射強(qiáng)度降低晶格的彈性彎曲、扭轉(zhuǎn)或均勻壓縮、拉伸第三類內(nèi)應(yīng)力超微觀內(nèi)應(yīng)力位錯(cuò)線
2、附近、析出相周圍、晶界附近、復(fù)合材料界面等若干個(gè)原子尺度范圍內(nèi)不同種類的原子移動(dòng)、擴(kuò)散和原子重新排列使晶格產(chǎn)生畸變第3頁(yè),共33頁(yè),2022年,5月20日,4點(diǎn)18分,星期四 構(gòu)件中的宏觀殘余應(yīng)力與其疲勞強(qiáng)度,抗應(yīng)力腐蝕能力以及尺寸穩(wěn)定性等有關(guān),并直接影響其使用壽命。如焊接構(gòu)件中的殘余應(yīng)力會(huì)使其變形,因而應(yīng)當(dāng)予以消除。而承受往復(fù)載荷的曲軸等零件在表面存在適當(dāng)壓應(yīng)力又會(huì)提高其疲勞強(qiáng)度。因此測(cè)定殘余內(nèi)應(yīng)力對(duì)控制加工工藝,檢查表面強(qiáng)化或消除應(yīng)力工序的工藝效果有重要的實(shí)際意義。 測(cè)定宏觀應(yīng)力的方法很多,有電阻應(yīng)變片法,小孔松弛法,超聲波法,和X射線衍射法等等。除了超聲波法以外,其它方法的共同特點(diǎn)都是測(cè)
3、定應(yīng)力作用下產(chǎn)生的應(yīng)變,再按彈性定律計(jì)算應(yīng)力。第4頁(yè),共33頁(yè),2022年,5月20日,4點(diǎn)18分,星期四為什么X射線可以測(cè)定宏觀應(yīng)力?X射線應(yīng)力測(cè)量法特點(diǎn):有效的無(wú)損檢測(cè)方法;X射線照射面積可以小到12mm直徑,因此可測(cè)定小區(qū)域的局部應(yīng)力;只能得到表面 (1030m深 )應(yīng)力,但精度受組織因素影響很大。第5頁(yè),共33頁(yè),2022年,5月20日,4點(diǎn)18分,星期四6-2 單軸應(yīng)力測(cè)定原理在拉應(yīng)力y的作用下應(yīng)變:應(yīng)力:X射線不能直接測(cè)量y但對(duì)均質(zhì)物質(zhì),有 (為泊松比)第6頁(yè),共33頁(yè),2022年,5月20日,4點(diǎn)18分,星期四對(duì)于多晶體試樣,總可以找到若干個(gè)晶粒的(hkl)晶面與試樣表面平行,這
4、些晶面的晶面間距變化是可測(cè)的: 因此第7頁(yè),共33頁(yè),2022年,5月20日,4點(diǎn)18分,星期四6-3 平面應(yīng)力測(cè)定原理由于X射線的穿透能力有限,只能測(cè)到1030m的深度,此時(shí)垂直于表面的應(yīng)力分量近似為零,即測(cè)得的是接近二維平面應(yīng)力。根據(jù)彈性力學(xué)原理,在一個(gè)受力物體內(nèi)任一單元體上,應(yīng)力在各個(gè)方向上可分解為正應(yīng)力和切應(yīng)力,而且適當(dāng)調(diào)整單元體方位,總可以找到合適的方向,使得各平面上切應(yīng)力為零,僅存在三個(gè)相互垂直的主應(yīng)力1、 2 、3。第8頁(yè),共33頁(yè),2022年,5月20日,4點(diǎn)18分,星期四在二維應(yīng)力下主應(yīng)力1、 2與試樣表面平行,表層主應(yīng)力30,但在1和 2 的作用下,垂直于試樣表面的應(yīng)變3并
5、不為零,當(dāng)材料各向同性時(shí):3可由平行于表面的某晶面間距d值的變化測(cè)量,即第9頁(yè),共33頁(yè),2022年,5月20日,4點(diǎn)18分,星期四求某方向上應(yīng)力的方法1、測(cè)定垂直表面的應(yīng)變3:2、測(cè)定與表面呈 的應(yīng)變 :3、由3、 計(jì)算 :第10頁(yè),共33頁(yè),2022年,5月20日,4點(diǎn)18分,星期四 將3、 代入 得若d0不知,則用dn代替d0 ,得即第11頁(yè),共33頁(yè),2022年,5月20日,4點(diǎn)18分,星期四 法基本原理(6-13)對(duì)(6-13)求偏導(dǎo):或第12頁(yè),共33頁(yè),2022年,5月20日,4點(diǎn)18分,星期四因?yàn)閼?yīng)變 是通過(guò)測(cè)量2實(shí)現(xiàn)的,因此將上述方程化成2形式令第13頁(yè),共33頁(yè),2022年
6、,5月20日,4點(diǎn)18分,星期四K1屬于材料晶體學(xué)特性參數(shù),同一晶體不同衍射面K1不同,一般通過(guò)查表可以得到。測(cè)試時(shí)使X射線先后從幾個(gè)不同的角人射,并分別測(cè)取各自的2角,因每次反射都是由與試樣表面呈不同取的同種(hkl)所產(chǎn)生的2的變化反應(yīng)了與試樣表面處于不同方位上的同種(hkl)晶面的面間距的改變。根據(jù)測(cè)試結(jié)果作2sin2的關(guān)系圖,將各個(gè)測(cè)試值連成直線,并用最小二乘法求斜率M,再利用上式求得 。當(dāng)M 0,表面為壓應(yīng)力。則由于K1 0,所以第14頁(yè),共33頁(yè),2022年,5月20日,4點(diǎn)18分,星期四若2 sin2 關(guān)系失去線性,說(shuō)明材料的狀態(tài)偏離應(yīng)力公式推導(dǎo)的假說(shuō)條件,即在X射線穿透深度范圍
7、內(nèi)有明顯的應(yīng)力梯度、非平面應(yīng)力狀態(tài)(三維應(yīng)力狀態(tài))或材料內(nèi)存在織構(gòu)(擇優(yōu)取向)。 第15頁(yè),共33頁(yè),2022年,5月20日,4點(diǎn)18分,星期四第16頁(yè),共33頁(yè),2022年,5月20日,4點(diǎn)18分,星期四6-4 試驗(yàn)方法原則上可采用照相法和衍射儀法來(lái)測(cè)定宏觀應(yīng)力,但照相法效率低、誤差大,現(xiàn)在一般不使用,多用衍射法。衍射法通常包括衍射儀法和應(yīng)力儀法,其中應(yīng)力儀可對(duì)工件進(jìn)行現(xiàn)場(chǎng)檢測(cè)。衍射儀法是通用的方法,主要掌握其測(cè)量步驟、幾何原理和實(shí)施方法。第17頁(yè),共33頁(yè),2022年,5月20日,4點(diǎn)18分,星期四衍射儀法測(cè)量步驟1、測(cè)定0 0時(shí)的202、測(cè)定為任意角時(shí)的2 ;3、用2 sin2 作圖,求
8、出直線斜率M;4、求應(yīng)力常數(shù)K1;5、計(jì)算 K1M第18頁(yè),共33頁(yè),2022年,5月20日,4點(diǎn)18分,星期四以低碳鋼為例,為CrK, 0.22909nm1、測(cè)定0 0時(shí)的20,試樣表面法線Ns與反射晶面(hkl)法線Np重合。測(cè)鐵素體的(211)衍射線,d=0.117nm由得出 0 =78.2則計(jì)算管在78.25掃描第19頁(yè),共33頁(yè),2022年,5月20日,4點(diǎn)18分,星期四2、測(cè)定為任意角時(shí)的2 如要實(shí)現(xiàn) ,將樣品臺(tái)繞測(cè)角儀軸旋轉(zhuǎn) ,而入射線和計(jì)算器固定不動(dòng),這樣與試樣表面成 的(211)符合衍射條件,產(chǎn)生衍射束,其幾何關(guān)系如圖。第20頁(yè),共33頁(yè),2022年,5月20日,4點(diǎn)18分,
9、星期四3、用2 sin2 作圖,求出直線斜率M選取 0 ,15, 30 ,45 進(jìn)行測(cè)量,結(jié)果如下: 用最小二乘法求得斜率M1.965,查P106表并計(jì)算得K1=-318.1MPa/ 第21頁(yè),共33頁(yè),2022年,5月20日,4點(diǎn)18分,星期四sin2 法:一般測(cè)4點(diǎn)或4點(diǎn)以上的方法叫sin2 法,優(yōu)點(diǎn)是測(cè)量精確,缺點(diǎn)是測(cè)量次數(shù)較多。0 45 法:只測(cè)量?jī)蓚€(gè)方向的應(yīng)變,直線的斜率由首尾兩點(diǎn)決定。該法只適用晶粒較細(xì)小、無(wú)織構(gòu)、微應(yīng)力不嚴(yán)重的情況。第22頁(yè),共33頁(yè),2022年,5月20日,4點(diǎn)18分,星期四當(dāng)用通用型衍射儀時(shí),聚焦幾何會(huì)發(fā)生變化計(jì)算管要能夠沿測(cè)角儀半徑移動(dòng),以達(dá)到聚焦的目的。第
10、23頁(yè),共33頁(yè),2022年,5月20日,4點(diǎn)18分,星期四應(yīng)力儀法適用于大型構(gòu)件,試樣不動(dòng),通過(guò)改變X射線入射的方向獲得不同的方位, 0即入射線與試樣表面法線的夾角。 0+(90-)第24頁(yè),共33頁(yè),2022年,5月20日,4點(diǎn)18分,星期四6-試驗(yàn)精度的保證及測(cè)試原理的適用條件 樣品制備 輻射的選擇吸收因子和角因子的校正 衍射峰位置的確定 測(cè)試原理的適用條件 第25頁(yè),共33頁(yè),2022年,5月20日,4點(diǎn)18分,星期四樣品制備加工切割至合適尺寸,表面磨平;表面深腐蝕去除機(jī)加工層;表面清洗、干燥;對(duì)于測(cè)量因加工、表面處理所引起的表面殘余應(yīng)力,應(yīng)保留表面狀態(tài),不作破壞性處理。第26頁(yè),共3
11、3頁(yè),2022年,5月20日,4點(diǎn)18分,星期四輻射的選擇反射晶面(hkl)盡量選擇角接近90 (一般應(yīng)在75以上);衍射背底強(qiáng)度較低,衍射峰較尖銳。 根據(jù)上述原則和試樣材料,選擇合適的陽(yáng)極靶和反射晶面(hkl)。第27頁(yè),共33頁(yè),2022年,5月20日,4點(diǎn)18分,星期四吸收因子和角因子的校正當(dāng)衍射峰寬化和不對(duì)稱時(shí),需用吸收因子和角因子對(duì)峰形進(jìn)行修正:當(dāng)0 時(shí),入射線和衍射線在試樣中所經(jīng)歷的路程不同,吸收因子不僅與角有關(guān),而且與角有關(guān),從而造成衍射峰不對(duì)稱。當(dāng)衍射峰半高寬大于6且應(yīng)力較大時(shí),有必要考慮吸收修正因子:當(dāng)衍射峰半高寬在3.5 4以上時(shí),有必要進(jìn)行角因子()修正;修正方法:采用拋
12、物線法定峰位,將所選點(diǎn)的強(qiáng)度進(jìn)行校正,校正強(qiáng)度等于實(shí)測(cè)強(qiáng)度除以該點(diǎn)處的()R()。第28頁(yè),共33頁(yè),2022年,5月20日,4點(diǎn)18分,星期四衍射峰位置的確定定峰方法有重心法、切線法、半高寬法、中點(diǎn)連接法、三點(diǎn)拋物線法。1、半高寬法:以峰高1/2處的峰寬的中點(diǎn)作為峰的位置。第29頁(yè),共33頁(yè),2022年,5月20日,4點(diǎn)18分,星期四2、拋物線法式中第30頁(yè),共33頁(yè),2022年,5月20日,4點(diǎn)18分,星期四應(yīng)力常熟K值測(cè)定晶體存在各向異性的,而X射線應(yīng)力測(cè)定是基于某一反射面的。因此不能直接應(yīng)用多晶體的彈性常數(shù)計(jì)算應(yīng)力常數(shù)K,而需用實(shí)驗(yàn)方法測(cè)定。 已知第31頁(yè),共33頁(yè),2022年,5月20日,4點(diǎn)18分,星期四測(cè)試原理的適用條件適用條件:試樣材
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