刻蝕工序培訓(xùn)課件_第1頁
刻蝕工序培訓(xùn)課件_第2頁
刻蝕工序培訓(xùn)課件_第3頁
刻蝕工序培訓(xùn)課件_第4頁
刻蝕工序培訓(xùn)課件_第5頁
已閱讀5頁,還剩35頁未讀 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡介

全球領(lǐng)先的光伏一體化產(chǎn)品制造商和服務(wù)商浙江晶科能源有限公司電池制造部培訓(xùn)內(nèi)容:刻蝕工序講師:劉自龍2010年9月9日晶科能源有限公司全球領(lǐng)先的光伏一體化產(chǎn)品制造商和服務(wù)商浙江晶科能源有限公司1多晶電池片生產(chǎn)過程原硅片制絨擴(kuò)散刻蝕和去磷硅玻璃PECVD分類檢測包裝絲網(wǎng)印刷背電極絲網(wǎng)印刷背電場絲網(wǎng)印刷正電極多晶電池片生產(chǎn)過程原硅片制絨擴(kuò)散刻蝕和去磷硅玻璃PECVD2刻蝕的目的和原理刻蝕原理:①4HNO3+3Si=3SiO2+4NO+2H2O②SiO2+6HF=H2[SiF6]+2H2O去PSG(磷硅玻璃)原理:刻蝕目的:去除邊緣PN結(jié),防止短路刻蝕的目的和原理刻蝕原理:刻蝕目的:去除邊緣PN結(jié),防止短路3什么是磷硅玻璃在擴(kuò)散過程中發(fā)生如下反應(yīng):POCl3分解產(chǎn)生的P2O5淀積在硅片表面,P2O5與Si反應(yīng)生成SiO2和磷原子。這樣就在硅片表面形成一層含有磷元素的SiO2,稱之為磷硅玻璃。什么是磷硅玻璃在擴(kuò)散過程中發(fā)生如下反應(yīng):4Rena水平刻蝕機(jī)1.冷水機(jī);5.上料臺(tái);2.控制電腦;6.rena柱式指示燈及其急停開關(guān);3.抽風(fēng)管及其調(diào)節(jié)閥;7.前玻璃窗.4.集中供液柱式指示燈及其急停開關(guān);1532674Rena水平刻蝕機(jī)1.冷水機(jī);5Rena水平刻蝕機(jī)8.電柜;12.排放管道;9.后玻璃蓋板;13.自動(dòng)補(bǔ)液槽;10.下料臺(tái);14.集中供液管路;11.供氣,供水管道;15.傳送滾軸.89101112131415Rena水平刻蝕機(jī)8.電柜;6生產(chǎn)流程1.上料臺(tái)放片

2.刻蝕槽刻邊結(jié)3.洗槽去殘液

6.HF槽去磷硅玻璃5.洗槽去殘液4.KOH噴淋去多孔硅7.洗槽去殘液8.風(fēng)刀吹干9.下料臺(tái)插片生產(chǎn)流程7注意事項(xiàng)1全過程戴口罩,完全遮住口鼻;必須戴乳膠手套或一次性手套進(jìn)行操作;整個(gè)操作過程中衣服,皮膚不可接觸硅片。2每次只從傳遞窗里取一批片子,傳遞窗兩側(cè)的門不能同時(shí)打開3

擴(kuò)散面朝上,千萬不要防反4控制放片間距和角度,放置卡片5下料要挑出色差片,水痕片等注意事項(xiàng)1全過程戴口罩,完全遮住口鼻;必須戴乳膠手套或一次性8注意事項(xiàng)6發(fā)現(xiàn)問題要快速上報(bào),不得私自處理7刻蝕后的硅片留存不能超過1h8必須按時(shí)還液;配液之前要把槽里的碎片清理干凈,槽內(nèi)嚴(yán)禁有銹跡和有機(jī)物9嚴(yán)禁有金屬及其他雜質(zhì)進(jìn)入各槽內(nèi),否則更換槽液10及時(shí)清理地面的堿液或酸液11提高安全意意識(shí)注意事項(xiàng)6發(fā)現(xiàn)問題要快速上報(bào),不得私自處理9注意事項(xiàng)12NaOH、HCl、HF都是強(qiáng)腐蝕性的化學(xué)藥品,其溶液、蒸汽會(huì)傷害到人的皮膚、眼睛、呼吸道,所以操作人員要按照規(guī)定穿戴防護(hù)服、防護(hù)面具、防護(hù)眼鏡、長袖膠皮手套。一旦有化學(xué)試劑傷害了員工的身體,馬上用純水沖洗30分鐘,送醫(yī)院就醫(yī)。

注意事項(xiàng)12NaOH、HCl、HF都是強(qiáng)腐蝕性的化學(xué)藥品10刻蝕工序培訓(xùn)課件11刻蝕工序培訓(xùn)課件12刻蝕工序培訓(xùn)課件131刻蝕液不能上涌過多

檢測方法:目視,刻蝕完畢不能有黑邊工藝控制指標(biāo)發(fā)現(xiàn)黑邊片必須挑出做返工處理通知工藝人員解決

1刻蝕液不能上涌過多工藝控制指標(biāo)發(fā)現(xiàn)黑邊片必須挑出做返工處142減重量符合工藝要求檢測方法:每批取5片,分別測試刻蝕前和刻蝕后的重量并記錄??涛g減重量須在0.04-0.09g范圍內(nèi)。工藝控制指標(biāo)發(fā)現(xiàn)不符合要求的硅片時(shí):必須馬上停止該臺(tái)設(shè)備的生產(chǎn);正在生產(chǎn)的硅片不能流入下工序;通知工藝人員處理。2減重量符合工藝要求檢測方法:工藝控制指標(biāo)發(fā)現(xiàn)不符合要求153冷熱探針測試邊緣PN結(jié)去除干凈檢測方法:確認(rèn)萬用表工作正常,量程置于200mV。冷探針連接電壓表的負(fù)電極,熱探針與電壓表的正極相連。萬用表顯示數(shù)值小于“-30”即認(rèn)為去除干凈工藝控制指標(biāo)發(fā)現(xiàn)不符合要求的硅片時(shí):必須馬上停止該臺(tái)設(shè)備的生產(chǎn);正在生產(chǎn)的硅片不能流入下工序;通知工藝人員處理。3冷熱探針測試邊緣PN結(jié)去除干凈檢測方法:工藝控制指標(biāo)發(fā)164

方阻上升符合工藝要求檢測方法:每批取5片,分別測試刻蝕前和刻蝕后中心點(diǎn)的方阻并記錄。方阻上升必須小于6。工藝控制指標(biāo)發(fā)現(xiàn)不符合要求的硅片時(shí):必須馬上停止該臺(tái)設(shè)備的生產(chǎn);正在生產(chǎn)的硅片不能流入下工序;通知工藝人員處理。4方阻上升符合工藝要求檢測方法:工藝控制指標(biāo)發(fā)現(xiàn)不符合要17刻蝕間化學(xué)品的種類刻蝕間主要使用的化學(xué)的種類有:HF(氫氟酸)HNO3(硝酸)NaOH(氫氧化鈉)H2SO4(硫酸)刻蝕間化學(xué)品的種類刻蝕間主要使用的化學(xué)的種類有:HF(氫氟酸18氫氟酸HF特性:

無色透明至淡黃色冒煙液體、有刺激性、揮發(fā)性氣味。弱酸。危害:

對(duì)皮膚和呼吸道有強(qiáng)烈的刺激性和腐蝕性。濺入眼內(nèi)會(huì)迅速形成白色假膜樣混濁,處理不及時(shí)可引起角膜穿孔。皮膚接觸會(huì)造成表皮、真皮、皮下組織乃至肌層液化壞死。吸入1.5g可導(dǎo)致立即死亡。吸入高濃度HF酸霧,引起支氣管和出血性肺水腫。防護(hù)措施:生產(chǎn)過程中應(yīng)密閉,全面通風(fēng)。手動(dòng)添加時(shí)需佩戴防毒面具、長橡膠手套以及防護(hù)服。并確保該產(chǎn)品附近有安全淋浴及洗眼器。氫氟酸HF特性:19特性:

無色透明至淡黃色冒煙液體、有刺激性、揮發(fā)性氣味。危害:其蒸汽有刺激作用,引起眼和上呼吸道刺激癥狀,如流淚、咽喉刺激感、嗆咳,并伴有頭痛、胸悶等。口服引起腹部劇痛,嚴(yán)重者可有胃穿孔、腹膜炎、喉痙攣、腎損害、休克以及窒息。皮膚接觸引起灼傷。防護(hù)措施:生產(chǎn)過程中應(yīng)密閉,全面通風(fēng)。手動(dòng)添加時(shí)需佩戴防毒面具、長橡膠手套以及防護(hù)服。并確保該產(chǎn)品附近有安全淋浴及洗眼器。硝酸HNO3特性:20氫氧化鈉NaOH特性:

白色固體,強(qiáng)吸濕性。溶于水,并能放出大量熱使可燃物著火。有強(qiáng)腐蝕性。危害:

遇潮時(shí)對(duì)鋁、鋅、錫有腐蝕性,并放出易燃的氫氣,與酸類和銨鹽劇烈反應(yīng),強(qiáng)腐蝕性。能嚴(yán)重灼傷人體。防護(hù)措施:

生產(chǎn)過程中應(yīng)密閉,全面通風(fēng)。工作時(shí)需佩戴護(hù)目鏡、口罩、橡膠手套、防護(hù)服以及膠鞋。并確保該產(chǎn)品附近有安全淋浴及洗眼器。氫氧化鈉NaOH特性:21THANKYOU!THANKYOU!22演講完畢,謝謝觀看!演講完畢,謝謝觀看!23全球領(lǐng)先的光伏一體化產(chǎn)品制造商和服務(wù)商浙江晶科能源有限公司電池制造部培訓(xùn)內(nèi)容:刻蝕工序講師:劉自龍2010年9月9日晶科能源有限公司全球領(lǐng)先的光伏一體化產(chǎn)品制造商和服務(wù)商浙江晶科能源有限公司24多晶電池片生產(chǎn)過程原硅片制絨擴(kuò)散刻蝕和去磷硅玻璃PECVD分類檢測包裝絲網(wǎng)印刷背電極絲網(wǎng)印刷背電場絲網(wǎng)印刷正電極多晶電池片生產(chǎn)過程原硅片制絨擴(kuò)散刻蝕和去磷硅玻璃PECVD25刻蝕的目的和原理刻蝕原理:①4HNO3+3Si=3SiO2+4NO+2H2O②SiO2+6HF=H2[SiF6]+2H2O去PSG(磷硅玻璃)原理:刻蝕目的:去除邊緣PN結(jié),防止短路刻蝕的目的和原理刻蝕原理:刻蝕目的:去除邊緣PN結(jié),防止短路26什么是磷硅玻璃在擴(kuò)散過程中發(fā)生如下反應(yīng):POCl3分解產(chǎn)生的P2O5淀積在硅片表面,P2O5與Si反應(yīng)生成SiO2和磷原子。這樣就在硅片表面形成一層含有磷元素的SiO2,稱之為磷硅玻璃。什么是磷硅玻璃在擴(kuò)散過程中發(fā)生如下反應(yīng):27Rena水平刻蝕機(jī)1.冷水機(jī);5.上料臺(tái);2.控制電腦;6.rena柱式指示燈及其急停開關(guān);3.抽風(fēng)管及其調(diào)節(jié)閥;7.前玻璃窗.4.集中供液柱式指示燈及其急停開關(guān);1532674Rena水平刻蝕機(jī)1.冷水機(jī);28Rena水平刻蝕機(jī)8.電柜;12.排放管道;9.后玻璃蓋板;13.自動(dòng)補(bǔ)液槽;10.下料臺(tái);14.集中供液管路;11.供氣,供水管道;15.傳送滾軸.89101112131415Rena水平刻蝕機(jī)8.電柜;29生產(chǎn)流程1.上料臺(tái)放片

2.刻蝕槽刻邊結(jié)3.洗槽去殘液

6.HF槽去磷硅玻璃5.洗槽去殘液4.KOH噴淋去多孔硅7.洗槽去殘液8.風(fēng)刀吹干9.下料臺(tái)插片生產(chǎn)流程30注意事項(xiàng)1全過程戴口罩,完全遮住口鼻;必須戴乳膠手套或一次性手套進(jìn)行操作;整個(gè)操作過程中衣服,皮膚不可接觸硅片。2每次只從傳遞窗里取一批片子,傳遞窗兩側(cè)的門不能同時(shí)打開3

擴(kuò)散面朝上,千萬不要防反4控制放片間距和角度,放置卡片5下料要挑出色差片,水痕片等注意事項(xiàng)1全過程戴口罩,完全遮住口鼻;必須戴乳膠手套或一次性31注意事項(xiàng)6發(fā)現(xiàn)問題要快速上報(bào),不得私自處理7刻蝕后的硅片留存不能超過1h8必須按時(shí)還液;配液之前要把槽里的碎片清理干凈,槽內(nèi)嚴(yán)禁有銹跡和有機(jī)物9嚴(yán)禁有金屬及其他雜質(zhì)進(jìn)入各槽內(nèi),否則更換槽液10及時(shí)清理地面的堿液或酸液11提高安全意意識(shí)注意事項(xiàng)6發(fā)現(xiàn)問題要快速上報(bào),不得私自處理32注意事項(xiàng)12NaOH、HCl、HF都是強(qiáng)腐蝕性的化學(xué)藥品,其溶液、蒸汽會(huì)傷害到人的皮膚、眼睛、呼吸道,所以操作人員要按照規(guī)定穿戴防護(hù)服、防護(hù)面具、防護(hù)眼鏡、長袖膠皮手套。一旦有化學(xué)試劑傷害了員工的身體,馬上用純水沖洗30分鐘,送醫(yī)院就醫(yī)。

注意事項(xiàng)12NaOH、HCl、HF都是強(qiáng)腐蝕性的化學(xué)藥品33刻蝕工序培訓(xùn)課件34刻蝕工序培訓(xùn)課件35刻蝕工序培訓(xùn)課件361刻蝕液不能上涌過多

檢測方法:目視,刻蝕完畢不能有黑邊工藝控制指標(biāo)發(fā)現(xiàn)黑邊片必須挑出做返工處理通知工藝人員解決

1刻蝕液不能上涌過多工藝控制指標(biāo)發(fā)現(xiàn)黑邊片必須挑出做返工處372減重量符合工藝要求檢測方法:每批取5片,分別測試刻蝕前和刻蝕后的重量并記錄??涛g減重量須在0.04-0.09g范圍內(nèi)。工藝控制指標(biāo)發(fā)現(xiàn)不符合要求的硅片時(shí):必須馬上停止該臺(tái)設(shè)備的生產(chǎn);正在生產(chǎn)的硅片不能流入下工序;通知工藝人員處理。2減重量符合工藝要求檢測方法:工藝控制指標(biāo)發(fā)現(xiàn)不符合要求383冷熱探針測試邊緣PN結(jié)去除干凈檢測方法:確認(rèn)萬用表工作正常,量程置于200mV。冷探針連接電壓表的負(fù)電極,熱探針與電壓表的正極相連。萬用表顯示數(shù)值小于“-30”即認(rèn)為去除干凈工藝控制指標(biāo)發(fā)現(xiàn)不符合要求的硅片時(shí):必須馬上停止該臺(tái)設(shè)備的生產(chǎn);正在生產(chǎn)的硅片不能流入下工序;通知工藝人員處理。3冷熱探針測試邊緣PN結(jié)去除干凈檢測方法:工藝控制指標(biāo)發(fā)394

方阻上升符合工藝要求檢測方法:每批取5片,分別測試刻蝕前和刻蝕后中心點(diǎn)的方阻并記錄。方阻上升必須小于6。工藝控制指標(biāo)發(fā)現(xiàn)不符合要求的硅片時(shí):必須馬上停止該臺(tái)設(shè)備的生產(chǎn);正在生產(chǎn)的硅片不能流入下工序;通知工藝人員處理。4方阻上升符合工藝要求檢測方法:工藝控制指標(biāo)發(fā)現(xiàn)不符合要40刻蝕間化學(xué)品的種類刻蝕間主要使用的化學(xué)的種類有:HF(氫氟酸)HNO3(硝酸)NaOH(氫氧化鈉)H2SO4(硫酸)刻蝕間化學(xué)品的種類刻蝕間主要使用的化學(xué)的種類有:HF(氫氟酸41氫氟酸HF特性:

無色透明至淡黃色冒煙液體、有刺激性、揮發(fā)性氣味。弱酸。危害:

對(duì)皮膚和呼吸道有強(qiáng)烈的刺激性和腐蝕性。濺入眼內(nèi)會(huì)迅速形成白色假膜樣混濁,處理不及時(shí)可引起角膜穿孔。皮膚接觸會(huì)造成表皮、真皮、皮下組織乃至肌層液化壞死。吸入1.5g可導(dǎo)致立即死亡。吸入高濃度HF酸霧,引起支氣管和出血性肺水腫。防護(hù)措施:生產(chǎn)過程中應(yīng)密閉,全面通風(fēng)。手動(dòng)添加時(shí)需佩戴防毒面具、長橡膠手套以及防護(hù)服。并確保該產(chǎn)品附近有安全淋浴及洗眼器。氫氟酸HF特性:42特性:

無色透明至淡黃色冒煙液體、有刺激性、揮發(fā)性氣味。危害:其蒸汽有刺激作用,引起眼和上呼吸道刺激癥

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 人人文庫網(wǎng)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

最新文檔

評(píng)論

0/150

提交評(píng)論