液質(zhì)AB4500操作規(guī)程

一、開關(guān)機AA、開機翻開S電源，翻開氮氣發(fā)生器〔氣瓶，確認ns的輸入壓力為，gas1/20.7MPa，exhuast為0.4MPa。翻開機械泵電源開關(guān)〔5500系列直接翻開質(zhì)譜主機電源，儀器自動啟動機械泵〕30min翻開質(zhì)譜主機電源開關(guān)過夜抽真空BB、關(guān)機停頓輸液：關(guān)停針泵或液相泵，或斷開輸液管線〔一般質(zhì)譜主機Standby后液相系統(tǒng)也自動待機，輸液泵自動關(guān)停，但建議操作人員再次確認，必需保證沒有任何液體再泵入質(zhì)譜〕使儀器待機，并滅活配置關(guān)閉質(zhì)譜儀主機電源開關(guān)〔5500VENT按鍵排放真空〕30min關(guān)閉機械泵上的電源開關(guān)〔5500系列會自動關(guān)停機械泵，待機械泵停頓后即可關(guān)閉5500系列主機上的電源開關(guān)〕關(guān)閉氣體發(fā)生器或氣瓶二. 儀器校準與調(diào)諧本節(jié)包括如何在Analyst軟件中進展手動質(zhì)量校準，一般儀器在開關(guān)機后才需要做調(diào)諧或每個季度例行調(diào)諧。11analyst軟件，雙擊HardwareConfigure，在硬件配置HardwareConfigure菜單下單擊massSpecOnly(只連質(zhì)譜機)，單擊Activeprofile激活儀器。硬件配置表中massSpecOnly消滅綠勾后，表示質(zhì)譜儀主機與計算機通訊正常，關(guān)閉HardwareConfigurationEditor。3、雙擊左邊工具菜單NavigationBar中的ManualTuning，翻開一個空白質(zhì)譜參數(shù)設(shè)置及運行窗口，進入手動調(diào)諧模式：4、在project工具條中選擇installation--開頭的工程文件夾5、點擊Fileopen6、選擇AcquisitionMethod翻開四極桿校準方法文件列表(如：Q1PosPPG.dam，Q1NegPPG.dam，Q3PosPPG.dam，Q3NegPPG.dam方法文件，文件名有可能不同)。依據(jù)要校準的目標(Q1正離子、Q1負離子、Q3正離子、Q3負離子)選擇相應(yīng)的方法翻開。7 、該方法會出現(xiàn)在質(zhì)譜參數(shù)設(shè)置及運行窗口：8、用針泵進質(zhì)量校準溶液，調(diào)離子源噴霧針位置到5mm處。對于不同儀器、測定極性，PPG10ul/min9、采集PPGStart，數(shù)據(jù)采集時在窗口下部消滅兩個實時數(shù)據(jù)圖：左邊TIC(總離子流圖)，右邊質(zhì)譜圖。待采集完成后，點擊resolution，再點擊advanced，彈出區(qū)分率窗口，再在右邊質(zhì)譜圖中按鼠標右鍵消滅一菜單，選菜單中Openfile：fromspectrum按鈕〔〕10、單擊其中任一個PPG質(zhì)譜峰的圖(fromspectrum按鈕〔〕11、在消滅的MassCalibrationOptions窗口中，從Standard下拉菜單項選擇擇適宜的標準品類型：PPGsPos(正離子)或PPGsNeg(負離子)；然后點擊12、儀器校準結(jié)果圖中有三欄:上欄顯示此次校準與理論值的質(zhì)量偏差(massshift)，中欄顯示所有PPG校準峰的半峰寬(區(qū)分率PPG校準點峰強度變化的百分比。AA、手動調(diào)整區(qū)分率目標是讓每個數(shù)據(jù)點都應(yīng)當落在兩條虛線之間，假設(shè)某些PPG峰寬超出區(qū)分率范圍，應(yīng)進展手動調(diào)整。調(diào)整Offset值會影響區(qū)分率，以中心實線為基準，半峰寬偏大的調(diào)大offset值〔考慮正負，半峰寬偏小的調(diào)小t值〔考慮正負，對t值調(diào)整幅度為每次0.003，轉(zhuǎn)變offsetApply鈕。認要保存這些修改〕，認要保存這些修改〕，重復(fù)9-12 步直到全部點的區(qū)分率符合區(qū)分率范圍。B、質(zhì)量校正當offset值設(shè)定適宜，全部PPG離子的區(qū)分率在倆虛線范圍內(nèi)后，進展最終的質(zhì)量校準。再采集一次G數(shù)據(jù)〔重復(fù)9到1步；在snt按ecalibration 按鈕進展更，軟件系統(tǒng)會提示是否用的校準曲線替換已存在的校準曲線，當消滅提示時，答復(fù)“YES”三. 化合物參數(shù)優(yōu)化本節(jié)描述如何用針泵連續(xù)進樣(10ul/min)ManualTuning窗口下優(yōu)化化合物參數(shù)。1、找母離子：Q1MS全掃描A、選擇你的project；雙擊NavigationBar下的Manual--Tuning；從ScanType下拉菜單中選擇：Q1Scan(Q1)；選擇極性：Positive(正離子)、Negative〔負離子；勾選h選項；設(shè)置采集時間:n；在表格中〕欄填入待優(yōu)化化合物的分子量，With(Da)6，Time〔sec〕填1；左側(cè)Source/Gas項用以R)或〔負離子M120e；項用以下推舉值：DP60，EP10或默認值；B、運行針泵〔10ul/min〕,startTIC序號穩(wěn)定后再連續(xù)采1minstopTIC1min譜圖，再雙擊選中的譜圖，在下方彈出窗口記錄目標化合物峰的中心對應(yīng)的橫坐標分子量作為該化合物的準確分子量。、找子離子：ProductIonScan〔MS2〕A、在當前方法文件的ne下選擇tnn〔；去除h選項；在Productof欄填入上一步找到的母離子的準確分子量；在表格中start(Da)50，stop(Da)欄填入質(zhì)量大于母離子分子量即可，Time〔sec〕1；檢查Source/GasQ1〔CAD默認值即可)；CompoundDP60，EP10或默認值，CE5，CXP15或默認值；B、點擊t采集數(shù)據(jù)，手動調(diào)整E值〔每次增加5，直到右側(cè)質(zhì)譜圖中母離子的信號約1min，點擊stop，在左側(cè)TIC圖上按住鼠標左鍵托選最終1min譜圖，再雙擊選中的譜圖，在下方平均譜圖中記錄兩個最強的碎片離子分子量。3、優(yōu)化離子對參數(shù)：MRMAScanType下選擇MRMQ1欄填母離子分子量，Q3(Da)欄子離子分子量，Time〔msec〕填50，ID欄填化合物名稱〔信號強的離子對名稱后空格加1，信號弱的為，每個離子對填一行；檢查s項是否與1掃描時一樣D默認值即可)；B、點擊EditRampparameterDP,用默認值，點擊OK.C、點擊start開頭優(yōu)化，在右側(cè)質(zhì)譜圖上記錄峰輪廓最高的位置對應(yīng)的橫坐標的DP值，填CompoundDP項。D、點擊EditRampparameter下拉菜單里選擇CE,OK，點擊startCE值，再在上方表格內(nèi)點擊鼠標右鍵選擇CE單擊，表格中則會顯CECE,Filesave即可保持該化合物參數(shù)，填入方法名稱即可.四、建立LC--MS 方法〔以島津液相為例〕1、開HPLC電源，將HPLC系統(tǒng)接上柱子，將出口管線與離子源連好。調(diào)離子源噴霧2mmHardwareConfigure4000+LC(液相)Activeprofile激活儀器。2、選擇你的Project；雙擊Buildacquisitionmethod，彈出方法模板。在模板左側(cè)點acquisitionmethod，模板右邊顯示對應(yīng)的參數(shù)，確認synchronizationmode選擇LCSync。3MRM,在模板右側(cè)ScanType下選擇MRMpolarity下選擇化合〔負離子n處填寫與液相分別一樣的時間；在表格中Q1欄填母離子分子量，Q3(Da)欄子離子分子量，Time〔msec〕填50，ID欄填化合〔信號強的離子對名稱后空格加1、、CXPDP、CEEditparameter設(shè)置離子源參數(shù)：Source/GasR)或〔負離子M1555，iheon；4shimadzuLCsystempumpspumpingmodebinaryflow，total0.2-0.5timeprogram欄下設(shè)置液相梯度。最終點擊五、建立采樣列表ok。1Buildacquisitionbatchsampleaddset，再點擊addsample，在彈出的窗口內(nèi)的numberok。2samplename〔樣品名稱、rackcode〔樣品架類型