揮發(fā)性有機物逸散管制規(guī)范

揮發(fā)性有機物逸散管制規(guī)範李明遠揮發(fā)性有機物逸散管制法規(guī)美國聯(lián)邦法規(guī)EPA40CFRPart60SubpartVV(1983.1.4~2000.10.17)StandardsofPerformanceforEquipmentLeaksofVOCintheSyntheticOrganicChemicalsManufacturingIndustry;StandardsofPerformanceforEquipmentLeaksofVOCinPetroleumRefineriesNewSourcePerformanceStandard(NSPS)EPA40CFRPart61NationalEmissionstandardforHazardousAirPollutants(NESHAP)臺灣環(huán)保署法規(guī)揮發(fā)性有機物空氣污染管制及排放標準(1997.2.5~2005.9.12)揮發(fā)性有機物(VOC)定義與特性揮發(fā)性有機物(VolatileOrganicCompounds)簡稱VOC，(VaporPressure0.1mmHgat20C,760mmHg)。為有機碳氫化合物成分支總稱，但不含甲烷、一氧化碳、二氧化碳、碳酸、碳化物、碳酸鹽、碳酸銨等化合物。碳鏈長度大略為C2~C6。具高度光化學反應(yīng)性，在陽光下經(jīng)紫外線照射後易產(chǎn)生氧化反應(yīng)。氧化後所產(chǎn)生之自由基會與大氣中其他化學物質(zhì)反應(yīng)形成光化學煙霧和致癌性物質(zhì)。並會造成臭氧濃度累積。揮發(fā)性有機物(VOC)逸散排放源廢氣燃燒塔製程單元排放管道儲槽裝載操作設(shè)施廢水處理設(shè)施設(shè)備元件幫浦壓縮機釋壓裝置、安全閥取樣連接系統(tǒng)開口閥閥(含控制閥)法蘭其他連接頭廢氣燃燒塔管制規(guī)範1適用對象為石化製程設(shè)計條件應(yīng)符合下表之規(guī)定或能使導(dǎo)入之揮發(fā)性有機物削減率達百分之九十八。蒸氣輔助燃燒型式HT≧12MJ/Nm3

V≦Vmax≦114m/sec

空氣輔助燃燒型式HT≧12MJ/Nm3

V≦V‘max

無輔助燃燒型式HT≧8MJ/Nm3

V≦Vmax≦114m/sec廢氣燃燒塔管制規(guī)範2母火不可熄滅。應(yīng)設(shè)置感知器或監(jiān)視器，並於進廢氣管線設(shè)置廢氣流量指示器，且每年校正一次。應(yīng)記錄母火監(jiān)控情形、操作時間、廢氣流量、排放速度及廢氣流量指示器校正情形。每年一月、四月、七月及十月之月底前，申報前一季記錄資料。母火監(jiān)控紀錄應(yīng)保存二星期備查；操作時間、廢氣流量、排放速度及廢氣流量指示器校正紀錄應(yīng)保存五年備查。石油煉製製程廢氣排放速度大於設(shè)計值10%連續(xù)15min之異常狀況時，應(yīng)於30min內(nèi)完成進廢氣採樣，進行熱值分析。結(jié)果應(yīng)作成紀錄申報。製程單元排放管道管制規(guī)範1適用對象為石化製程。不適用製程：產(chǎn)製食用酒精之製程。石化中間產(chǎn)品為原料進行物理加工之製程。VOC排放量小於350mg/min之批次製程。排氣流量小於60Nm3/hr之連續(xù)製程。其他經(jīng)公告之製程。製程單元排放管道管制規(guī)範2密閉排氣系統(tǒng)收集，有困難者報主管機關(guān)核可。採密閉排氣系統(tǒng)者，應(yīng)適用排放削減率(R)之規(guī)定。1.空氣氧化單元及蒸餾操作單元排放削減率(R)達95%或排放濃度(C)100ppm以下2.其他石化製程單元

排放削減率(R)達95%或排放濃度(C)150ppm以下3.連通至鍋爐或加熱爐處理者，其負荷應(yīng)維持排放削

減率達95%4.採非破壞性物料回收處理方式者，排放削減率(R)達

85%或排放濃度(C)300ppm以下。製程單元排放管道管制規(guī)範3廢氣導(dǎo)入處設(shè)置流量監(jiān)測設(shè)備。有困難者，報請核可後，得以其他監(jiān)測方式替代。設(shè)置溫度連續(xù)監(jiān)測及記錄設(shè)施，設(shè)置位置如下：

1.熱焚化爐應(yīng)於爐膛內(nèi)設(shè)置。

2.觸媒焚化爐應(yīng)於觸媒床前後均設(shè)置。

3.冷凝器應(yīng)於冷凝液出口端設(shè)置。

使用以外之污染防制設(shè)備者，應(yīng)設(shè)置足以有效監(jiān)視其正常操作之連續(xù)監(jiān)測及記錄設(shè)施，並提出書面資料報經(jīng)主管機關(guān)核可。其溫度監(jiān)測設(shè)施所得之連續(xù)3小時平均溫度，不得低於標準操作溫度30oC以上。儲槽管制規(guī)範1適用對象具有下列情形之一者:1.單一儲槽容積15M3以上，且實際蒸氣壓170mmHg以

上者。2.單一儲槽容積100M3以上，且實際蒸氣壓210mmH以

上者。3.單一儲槽容積2000M3以上，且含二甲苯者。4.同一公私場所相同儲存物料實際蒸氣壓210mmHg以

上之總儲槽容積500M3以上者。不適用儲槽：1.大於1550mmHg之壓力槽，且正常無廢氣排放至大氣

者。2.食用酒精之儲槽。3.加油站之儲油槽。儲槽管制規(guī)範2實際蒸氣壓570mmHg以上者應(yīng)符合下列規(guī)定之一：1.採用壓力槽。2.非採用壓力槽者，應(yīng)裝設(shè)密閉排氣系統(tǒng)連通至鍋爐或

加熱爐之爐膛火焰區(qū)，或其他使排放削減率(R)達95%

或排放濃度(C)100ppm以下之污染防制設(shè)備。實際蒸氣壓小於570mmHg者應(yīng)符合下列規(guī)定之一：1.採用浮頂槽。2.採用固定頂槽者，應(yīng)裝設(shè)密閉排氣系統(tǒng)連通至鍋爐或

加熱爐之爐膛火焰區(qū)，或其他使排放削減率(R)達95%

或排放濃度(C)150ppm以下之污染防制設(shè)備。儲槽之排氣係採非破壞性物料回收處理方式，其揮發(fā)性有機

物排放削減率(R)達85%或排放濃度(C)300ppm以下者，得

不受前二項之限制。內(nèi)浮頂槽規(guī)定1.浮頂應(yīng)隨時保持浮於儲存物料之液面上。2.浮頂與槽壁間應(yīng)安裝下列之一封氣設(shè)備：液態(tài)鑲嵌式密封。雙封式密封。機械式鞋形密封。其他經(jīng)主管機關(guān)核可之封氣設(shè)備。3.非接觸式內(nèi)浮頂蓋之每個開口均應(yīng)伸入液面下。但自動洩氣閥及邊緣通氣孔，不在此限。4.浮頂上之開口於不使用時，應(yīng)以具襯墊之封蓋保持密閉狀態(tài)，人員進出口及計量井應(yīng)另加閂鎖。但支架襯套、自動洩氣閥、邊緣通氣孔、支柱井、樓梯井及取樣井，不在此限。5.自動洩氣閥應(yīng)具襯墊，於浮頂浮動時關(guān)閉，在浮頂下降至槽底受浮頂負載支架支持時開啟。6.邊緣通氣孔應(yīng)具襯墊，且僅於浮頂未浮動或在設(shè)定條件之狀況下開啟。7.取樣井應(yīng)具備縫隙開孔構(gòu)造之封蓋(SlitFabricCover)，該封蓋之覆蓋面積達開孔面積之90%。8.支柱井應(yīng)採具彈性構(gòu)造之襯套密封或具襯墊之滑動封蓋。9.樓梯井應(yīng)採具襯墊之滑動封蓋。外浮頂槽規(guī)定86.2.6前設(shè)立者，其浮頂與儲槽內(nèi)壁間之封氣設(shè)備可採單封式或雙封式密封；但單封式密封應(yīng)為液態(tài)鑲嵌式密封或機械式鞋形密封。

86.2.7後設(shè)立者，其浮頂與儲槽內(nèi)壁間之封氣設(shè)備應(yīng)採雙封式密封，初級密封應(yīng)為液態(tài)鑲嵌式密封、機械式鞋形密封或其他經(jīng)核可之封氣設(shè)備，且初級密封與二級密封應(yīng)裝入浮頂與槽壁間之環(huán)狀空間。封氣設(shè)備應(yīng)符合下列規(guī)定：1.初級密封

(a)任何地方之縫隙寬度不可大於3cm。

(b)當機械式鞋形密封的一端已浸在儲存液體中時，另一端應(yīng)離液

面60cm以上。

(c)機械式鞋形密封、密封構(gòu)造或密封物之外皮(Envelope)不可有

破洞、裂縫或任何開口。2.二級密封或單封式密封

(a)任何地方之縫隙寬度不可大於1cm。

(b)密封裝置不可有破洞、裂縫或任何開口。3.準用內(nèi)浮頂槽規(guī)定第1款、第3款至第6款。內(nèi)浮頂槽之檢查與修護規(guī)定1.首次進料前應(yīng)目視檢查浮頂及密封。2.液態(tài)鑲嵌式密封或機械式鞋形密封或其他單封式封氣設(shè)備之儲槽，自首次進料後每12個月應(yīng)目視檢查浮頂及密封；配備雙封式密封之儲槽應(yīng)每5年目視檢查一次。3.浮頂未浮在液面上、浮頂上有液體累積現(xiàn)象或密封上有破洞或裂縫者，應(yīng)自檢查發(fā)現(xiàn)日起90日內(nèi)完成修護或排空儲槽停止使用。無法於90日內(nèi)完成修護或排空儲槽者應(yīng)檢具文件說明無法取得替代儲槽及預(yù)定儘速修護或排空儲槽之時間表，經(jīng)核準後，始得展延修護或排空儲槽期限，展延期間不得超過180日。外浮頂槽之檢查與修護規(guī)定1.應(yīng)定期量測縫隙寬度並於量測30日前通知主管機關(guān)，其量測頻率如下：

a.初級密封縫隙寬度之初次量測應(yīng)在儲槽水壓測試期間或儲槽首次進料後60日內(nèi)進行，其後應(yīng)每5年量測一次。

b.二級密封或採單封式密封之縫隙寬度之初次量測應(yīng)在儲槽首次進料後60日內(nèi)進行，其後應(yīng)每年量測一次。

c.若儲槽停止儲存物料一年以上，俟其重新使用時視為首次進料，需進行前述1、2之量測。2.儲槽縫隙寬度及封氣設(shè)備，經(jīng)檢查或量測結(jié)果未能符合規(guī)定者，應(yīng)自檢查發(fā)現(xiàn)日起90日內(nèi)完成修護或排空儲槽停止使用。無法於90日內(nèi)完成修護或排空儲槽者，應(yīng)檢具文件說明無法取得替代儲槽及預(yù)定儘速修護或排空儲槽之時間表，經(jīng)核準後，始得展延修護或排空儲槽期限，展延期間不得超過180日。3.每次儲槽排空後，應(yīng)目視檢查浮頂及其封氣設(shè)備是否有任何缺陷、破洞、裂縫或開口。儲槽管理規(guī)定儲槽記錄、保存與申報規(guī)定如下：1.設(shè)備檢查或量測應(yīng)做成紀錄，包括儲槽編號、檢查或量測日期、

檢查或量測結(jié)果、設(shè)備受檢時之狀況。紀錄檔案應(yīng)保存五年。2.檢查或量測結(jié)果不符合規(guī)定者，應(yīng)將記載包括儲槽編號、檢查日

期、不符合規(guī)定情形、預(yù)定維修日期等相關(guān)資料於15日內(nèi)提報，

並在修護完成後30日內(nèi)通知該主管機關(guān)。清洗作業(yè)1.進行單一儲槽容積100M3以上且儲存物料實際蒸氣壓170mmHg

以上揮發(fā)性有機液體儲槽之清洗作業(yè)，應(yīng)排空後有效收集儲槽

內(nèi)氣體，且收集效率達95%；收集之氣體並應(yīng)有效處理，使排放

削減率(R)達90%時，始得開槽清洗。2.清洗作業(yè)之氣體收集、處理及其削減率應(yīng)作成紀錄，並保存五年

備查。執(zhí)行儲槽清洗作業(yè)日起5日前通知地方主管機關(guān)。裝載操作設(shè)施管制規(guī)範1適用對象具有下列情形之一者：1.單一裝載操作設(shè)施之年裝載量500M3以上，且裝載之物料實際蒸氣壓170mmHg以上者。2.單一裝載操作設(shè)施之年裝載量3500M3以上，且裝載之物料實際蒸氣壓21mmHg以上者。3.單一裝載操作設(shè)施之年裝載量3500M3以上，且裝載之物料含二甲苯者。不適用加油站內(nèi)以加油槍進行油箱注油作業(yè)者。裝載操作設(shè)施管制規(guī)範2應(yīng)配備蒸氣收集系統(tǒng)連通至下列設(shè)備之一：1.鍋爐或加熱爐之爐膛火焰區(qū)。2.具有符合規(guī)定之儲槽。3.能使排放削減率(R)達90%或排放濃度(C)200ppm以下之污染防制設(shè)備。裝載操作設(shè)施之排氣係採非破壞性物料回收處理方式，其揮發(fā)性有機物排放削減率(R)達85%或排放濃度(C)300ppm以下者，得不受前項之限制。廢水處理設(shè)施管制規(guī)範1適用對象為石化製程之廢水收集系統(tǒng)及廢水處理設(shè)施初級處理單元設(shè)備。不適用規(guī)定：

1.廢水處理設(shè)施設(shè)計最大每日廢水產(chǎn)生量小

於2,500M3者。

2.石化製程之廢水處理設(shè)施初級處理單元設(shè)

備進流廢水，VOC濃度小於10mg/L者。

3.廢水處理設(shè)施廢水實際最大廢水產(chǎn)生量持

續(xù)一年小於1,250M3/D者。廢水處理設(shè)施管制規(guī)範2廢水收集系統(tǒng)之廢水液面不得與大氣接觸。廢水處理設(shè)施初級處理單元設(shè)備應(yīng)符合下列規(guī)定之一：1.採用密閉排氣系統(tǒng)連通至污染防制設(shè)備，使排放削減率

(R)達85%或排放濃度(C)150ppm以下。2.設(shè)置符合排氣管規(guī)格(註)之固定頂蓋，且廢水直接進流

活性污泥處理單元處理。3.採用浮動式頂蓋。4採用其他經(jīng)證明符合排放削減率(R)或排放濃度(C)之防

制措施，並報經(jīng)核可者。註：排氣管規(guī)格＝(S×Z)/(A×H)×100%＜5%

S:排氣管徑面積(m2)Z：液面距設(shè)備上緣之最小距離(m)

A:設(shè)備液面面積(m2)

H:排氣管高度(m)設(shè)備元件管制規(guī)範1適用對象為石化製程及VOC液體儲槽之設(shè)備元件，包括泵浦、壓縮機、釋壓閥、安全閥等釋壓裝置、取樣連接系統(tǒng)、開口閥、閥、法蘭或與製程設(shè)備銜接之其他連接頭。不適用：1.VOC小於10%wt者。2.屬於真空設(shè)備元件者。3.設(shè)備元件埋於地下無法量測者。設(shè)備元件管制規(guī)範21.設(shè)備元件軸封處之製程流體包括重質(zhì)液及輕質(zhì)液，滴漏不得超過每分鐘3滴。2.設(shè)備元件之淨檢測值不得大於10,000ppm。3.設(shè)備元件之淨檢測值大於5,000ppm之比例不得大於2%。4.開口閥之下游端應(yīng)裝設(shè)栓蓋

(Cap)、盲法蘭

(BlindFlange)、栓塞(Plug)或二次閥

(SecondValve)以封止其開口端。5.輕質(zhì)液及氣體取樣連接系統(tǒng)應(yīng)符合下列規(guī)定之一：(a)取樣連接系統(tǒng)裝設(shè)有密閉排氣系統(tǒng)連通至污染防制設(shè)備。(b)採用密閉迴路式取樣連接系統(tǒng)。(c)採用線上取樣分析系統(tǒng)者。閥控制閥釋壓閥迷宮式軸封LabyrinthSeal機械軸封MechanicalSeal格蘭迫緊軸封

GlandPackingSeal離心式幫浦(渦卷、斜流)離心式(軸流、渦輪)旋轉(zhuǎn)式幫浦往復(fù)式幫浦設(shè)備元件洩漏檢查(測)1.輕質(zhì)液泵浦應(yīng)每週目視檢查其軸封處是否有製程流體滴漏。2.重質(zhì)液設(shè)備元件應(yīng)每3個月目視檢查或以嗅聞、聽覺等其它簡易

方法檢漏；發(fā)現(xiàn)有洩漏跡象者，應(yīng)於5日內(nèi)使用偵測儀器予以檢

測，以確認是否為洩漏源。3.輕質(zhì)液及氣體設(shè)備元件應(yīng)每3個月檢測一次。但符合下列規(guī)定之

一者，不在此限：

(a)設(shè)備元件為無洩漏型式且小於或等於未可檢出定義值者。

(b)設(shè)備元件裝設(shè)密閉排氣系統(tǒng)連通至鍋爐或加熱爐之爐膛火焰區(qū)或其

他使揮發(fā)性有機物排放削減率(R)達95%之污染防制設(shè)備。

(c)輕質(zhì)液泵浦、氣體壓縮機具止漏流體軸封系統(tǒng)，且該系統(tǒng)符合下列

規(guī)定者：

(1)止漏流體之操作壓力恆大於軸封填料箱(StuffingBox)壓力。

(2)裝設(shè)可監(jiān)測止漏流體軸封系統(tǒng)異?；蚴е瘓笱b置；未裝設(shè)警

報裝置者，應(yīng)每日檢查軸封系統(tǒng)並作成紀錄。

(3)軸封系統(tǒng)之設(shè)計具備可將止漏流體吹排回製程流體或密閉排氣系

統(tǒng)者設(shè)備元件洩漏檢查(測)4.屬於難以檢測之重質(zhì)液設(shè)備元件應(yīng)每4年檢查一次；屬於

難以檢測之輕質(zhì)液及氣體設(shè)備元件應(yīng)每2年檢測一次。5.輕質(zhì)液及氣體設(shè)備元件連續(xù)6個月洩漏比例均小於2%，

得每6個月檢測一次；連續(xù)1年洩漏比例均小於1%者，得

每1年檢測一次。但檢測發(fā)現(xiàn)其洩漏比例2%以上者，應(yīng)

每3個月檢測一次；洩漏比例1%以上且未達2%者，應(yīng)每6個月檢測一次。6.氣體釋壓裝置每3個月及每次釋壓排放後5日內(nèi)應(yīng)以偵測

儀器檢測一次，以判定其是否小於或等於未可檢出定義

值。但氣體釋壓裝置裝設(shè)有密閉排氣系統(tǒng)連通至污染防

制設(shè)備，且該污染防制設(shè)備符合規(guī)定者，或前端裝置破

裂盤者，可免除檢測。設(shè)備元件修護規(guī)定1經(jīng)發(fā)現(xiàn)為洩漏源者，除有特別規(guī)定其修護期限得予

展延外，應(yīng)依下列規(guī)定期限完成修護：

(1)洩漏源軸封處之製程流體包括重質(zhì)液及輕質(zhì)液，滴漏

每分鐘超過3滴者，應(yīng)自發(fā)現(xiàn)時起48小時內(nèi)完成修護。

(2)除開口閥、取樣連接系統(tǒng)及已依規(guī)定標示標籤者外之

設(shè)備元件，其每日隨機檢測之洩漏比例超過2%者，

應(yīng)自發(fā)現(xiàn)時起72小時內(nèi)完成修護。

(3)壓縮機淨檢測值達10,000ppm或其他洩