標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 15861-2012 離子束蝕刻機(jī)通用規(guī)范》相比于《GB/T 15861-1995 離子束蝕刻機(jī)通用技術(shù)條件》主要在以下幾個(gè)方面進(jìn)行了更新與調(diào)整:
-
技術(shù)內(nèi)容的擴(kuò)充與細(xì)化:2012版標(biāo)準(zhǔn)在原有基礎(chǔ)上,對(duì)離子束蝕刻機(jī)的技術(shù)要求進(jìn)行了更加詳盡的規(guī)定,包括設(shè)備的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、材料選擇、控制系統(tǒng)、安全性能等方面,以適應(yīng)技術(shù)進(jìn)步和行業(yè)發(fā)展的新需求。
-
性能指標(biāo)的提升:新版標(biāo)準(zhǔn)提高了對(duì)離子束蝕刻機(jī)的加工精度、穩(wěn)定性和效率等關(guān)鍵性能指標(biāo)的要求,確保設(shè)備能夠滿足更高質(zhì)量的加工需求,提升產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力。
-
安全與環(huán)保要求:隨著對(duì)安全生產(chǎn)和環(huán)境保護(hù)重視程度的增加,2012版標(biāo)準(zhǔn)加入了更多關(guān)于設(shè)備操作安全、輻射防護(hù)以及廢棄物處理的相關(guān)規(guī)定,確保生產(chǎn)過(guò)程中的人員安全和環(huán)境友好。
-
測(cè)試方法與檢驗(yàn)規(guī)則:對(duì)設(shè)備的測(cè)試方法和檢驗(yàn)規(guī)則進(jìn)行了修訂和完善,提供了更為科學(xué)、可操作性強(qiáng)的檢測(cè)手段,有助于統(tǒng)一檢驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn),保證產(chǎn)品質(zhì)量的可靠性。
-
兼容性與標(biāo)準(zhǔn)化:考慮到技術(shù)融合趨勢(shì),新標(biāo)準(zhǔn)加強(qiáng)了與其他相關(guān)國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)的接軌,提高了設(shè)備的國(guó)際兼容性,方便國(guó)內(nèi)外市場(chǎng)的交流與合作。
-
術(shù)語(yǔ)與定義的更新:根據(jù)技術(shù)發(fā)展,對(duì)一些專業(yè)術(shù)語(yǔ)和定義進(jìn)行了修訂或新增,以準(zhǔn)確反映當(dāng)前離子束蝕刻技術(shù)的特點(diǎn)和最新進(jìn)展。
-
維護(hù)與服務(wù)要求:增加了對(duì)售后服務(wù)、用戶手冊(cè)內(nèi)容、設(shè)備維護(hù)保養(yǎng)指導(dǎo)等方面的要求,強(qiáng)調(diào)了制造商需提供的全方位支持,以提升用戶體驗(yàn)和服務(wù)質(zhì)量。
這些變化旨在促進(jìn)離子束蝕刻機(jī)技術(shù)的規(guī)范化、高效化及可持續(xù)發(fā)展,為相關(guān)產(chǎn)品的設(shè)計(jì)、制造、使用和維護(hù)提供更為具體和先進(jìn)的指導(dǎo)。
如需獲取更多詳盡信息,請(qǐng)直接參考下方經(jīng)官方授權(quán)發(fā)布的權(quán)威標(biāo)準(zhǔn)文檔。
....
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2012-11-05 頒布
- 2013-02-15 實(shí)施
文檔簡(jiǎn)介
ICS31-550
L97
中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)
GB/T15861—2012
代替
GB/T15861—1995
離子束蝕刻機(jī)通用規(guī)范
Generalspecificationofionbeametchingsystem
2012-11-05發(fā)布2013-02-15實(shí)施
中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布
中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
GB/T15861—2012
前言
本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草
GB/T1.1—2009。
本標(biāo)準(zhǔn)代替離子束蝕刻機(jī)通用技術(shù)條件
GB/T15861—1995《》。
本標(biāo)準(zhǔn)與相比主要變化如下
GB/T15861—1995:
由代替由代替
———GBn193—1983GB/T13384—1992,SJ2573—1985SJ/T10674—1995;
環(huán)境溫度調(diào)整為見
———20℃±10℃[5.1a)];
束能量范圍調(diào)整為可調(diào)見
———0~2000eV,(5.4.1);
表中束流密度2調(diào)整為22調(diào)整為2見表
———10.5mA/cm≥0.3mA/cm,1mA/cm0.8mA/cm(1);
增加束能量為時(shí)束流密度2見表
2000eV≥1mA/cm(1);
有效束徑規(guī)格增加了?和?兩種去掉了?見
———50100,60(5.4.4);
中和方式增加了電子源中和器見
———“”(5.4);
對(duì)束流密度檢測(cè)方法進(jìn)行了更清楚的表述見
———(6.4.2);
膜厚均勻性為的蝕刻樣片改為膜厚均勻性優(yōu)于厚度制備了掩膜圖案的
———“±5%”“±2%、2μm、
蝕刻樣片見
”(6.4.10);
檢驗(yàn)規(guī)則去掉例行檢驗(yàn)項(xiàng)見
———(7);
增加包裝前檢查的條款見
———(8.2.1)。
本標(biāo)準(zhǔn)由中華人民共和國(guó)工業(yè)和信息化部提出
。
本標(biāo)準(zhǔn)由中國(guó)電子技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化研究所歸口
。
本標(biāo)準(zhǔn)起草單位中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十八研究所
:。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人陳特超周大良
:、。
本標(biāo)準(zhǔn)所代替標(biāo)準(zhǔn)的歷次版本發(fā)布情況為
:
———GB/T15861—1995。
Ⅰ
GB/T15861—2012
離子束蝕刻機(jī)通用規(guī)范
1范圍
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了離子束蝕刻機(jī)的術(shù)語(yǔ)產(chǎn)品分類技術(shù)要求試驗(yàn)方法檢驗(yàn)規(guī)則以及包裝運(yùn)輸
、、、、、、
貯存
。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于物理濺射腐蝕作用的通用離子束蝕刻機(jī)其他專用離子束蝕刻機(jī)亦可參照?qǐng)?zhí)行
。。
2規(guī)范性引用文件
下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文
。,
件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件
。,()。
包裝儲(chǔ)運(yùn)圖示標(biāo)志
GB/T191
包裝運(yùn)輸包裝件基本試驗(yàn)第部分正弦定頻振動(dòng)試驗(yàn)方法
GB/T4857.7—20057:
設(shè)備可靠性試驗(yàn)恒定失效率假設(shè)下的失效率與平均無(wú)故障時(shí)間的驗(yàn)證試
GB/T5080.7—1986
驗(yàn)方案
運(yùn)輸包裝收發(fā)貨標(biāo)志
GB/T6388—1986
機(jī)電產(chǎn)品包裝通用技術(shù)條件
GB/T13384—1992
電子工業(yè)專用設(shè)備通用規(guī)范
SJ/T142
金屬鍍層和化學(xué)處理層質(zhì)量檢驗(yàn)技術(shù)要求
SJ/T1276
涂料涂覆通用技術(shù)條件
SJ/T10674
3術(shù)語(yǔ)和定義
下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本文件
。
31
.
束能量beamenergy
表征離子束中離子的動(dòng)能
。
注單位為電子伏特
:(eV)。
32
.
束流密度beamcurrentdensity
離子束某一指定截面上單位面積所通過(guò)的電流強(qiáng)度
。
33
.
有效束徑effectivebeamdiameter
打到靶上的束流密度均勻性在要求值不低于以內(nèi)的束直徑范圍
(±5%)
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