GB/T 16841-2008能量為300 keV～25 MeV電子束輻射加工裝置劑量學(xué)導(dǎo)則

犐犆犛１７．２４０

犃５８

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

犌犅／犜１６８４１—２００８／犐犛犗／犃犛犜犕５１６４９：２００５

代替ＧＢ／Ｔ１６８４１—１９９７

能量為３００犽犲犞～２５犕犲犞電子束輻射

加工裝置劑量學(xué)導(dǎo)則

犌狌犻犱犲犳狅狉犱狅狊犻犿犲狋狉狔犻狀犪狀犲犾犲犮狋狉狅狀犫犲犪犿犳犪犮犻犾犻狋狔犳狅狉狉犪犱犻犪狋犻狅狀

狆狉狅犮犲狊狊犻狀犵犪狋犲狀犲狉犵犻犲狊犫犲狋狑犲犲狀３００犽犲犞犪狀犱２５犕犲犞

（ＩＳＯ／ＡＳＴＭ５１６４９：２００５，Ｓｔａｎｄａｒｄｐｒａｃｔｉｃｅｆｏｒ

ｄｏｓｉｍｅｔｒｙｉｎａｎｅｌｅｃｔｒｏｎｂｅａｍｆａｃｉｌｉｔｙｆｏｒｒａｄｉａｔｉｏｎ

ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇａｔｅｎｅｒｇｉｅｓｂｅｔｗｅｅｎ３００ｋｅＶａｎｄ２５ＭｅＶ，ＩＤＴ）

２００８０９１９發(fā)布２００９０８０１實(shí)施

中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局

發(fā)布

中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

書

犌犅／犜１６８４１—２００８／犐犛犗／犃犛犜犕５１６４９：２００５

目次

前言!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!Ⅲ

１范圍!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!１

２規(guī)范性引用文件!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!１

３術(shù)語(yǔ)與定義!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!２

４意義和用途!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!７

５輻射源特性!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!７

６輻照裝置的主要類型!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!８

７劑量測(cè)量系統(tǒng)!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!８

８加工參數(shù)!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!９

９安裝確認(rèn)!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!９

１０運(yùn)行確認(rèn)!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!１１

１１性能確認(rèn)!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!１２

１２日常生產(chǎn)加工!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!１３

１３測(cè)量不確定度!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!１４

１４證書!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!１４

１５關(guān)鍵詞!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!１５

附錄Ａ（資料性附錄）電子束深度劑量分布、材料加工產(chǎn)率和輻射加工期間的溫升!!!!!!１６

附錄Ｂ（資料性附錄）束寬度及束寬度劑量不均勻度的測(cè)量!!!!!!!!!!!!!!!!２５

附錄Ｃ（資料性附錄）通過(guò)深度劑量分布確定電子束能量!!!!!!!!!!!!!!!!!２６

附錄Ｄ（資料性附錄）能量大于３００ｋｅＶ的電子加速器的特性!!!!!!!!!!!!!!!３３

參考文獻(xiàn)!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!３５

Ⅰ

書

犌犅／犜１６８４１—２００８／犐犛犗／犃犛犜犕５１６４９：２００５

前言

本標(biāo)準(zhǔn)等同采用ＩＳＯ／ＡＳＴＭ５１６４９：２００５《能量為３００ｋｅＶ～２５ＭｅＶ電子束輻射加工裝置劑量學(xué)

導(dǎo)則》（英文版）。

為便于使用，本標(biāo)準(zhǔn)做了下列編輯性修改：

ａ）按照漢語(yǔ)習(xí)慣對(duì)一些編寫格式進(jìn)行了修改。

ｂ）對(duì)于ＩＳＯ／ＡＳＴＭ５１６４９：２００５引用的其他國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)中有被等同采用為我國(guó)標(biāo)準(zhǔn)的，本部分用

引用我國(guó)的這些國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)或行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)代替對(duì)應(yīng)的國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)，其余未有等效采用為我國(guó)標(biāo)準(zhǔn)的

國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)，在本標(biāo)準(zhǔn)中均被直接引用。

ｃ）原國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)中的附錄編號(hào)Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４改為附錄Ａ、附錄Ｂ、附錄Ｃ、附錄Ｄ。

本標(biāo)準(zhǔn)代替ＧＢ／Ｔ１６８４１—１９９７《能量為３００ｋｅＶ～２５ＭｅＶ電子束輻射加工裝置劑量學(xué)導(dǎo)則》。本

標(biāo)準(zhǔn)與ＧＢ／Ｔ１６８４１—１９９７相比主要變化如下：

———重新規(guī)定了標(biāo)準(zhǔn)的適用“范圍”（１９９７版的第１章；本版的第２章）；

———增加了部分術(shù)語(yǔ)，并對(duì)原標(biāo)準(zhǔn)的部分術(shù)語(yǔ)進(jìn)行了重新定義（本版第３章）；

———增加了“劑量計(jì)系統(tǒng)的校準(zhǔn)”條和具體的要求（見(jiàn)本版的７．３．１，７．３．２，７．３．３，注４）；

———用“安裝確認(rèn)”、“運(yùn)行確認(rèn)”、“性能確認(rèn)”和“日常生產(chǎn)加工”替代了“裝置確認(rèn)”、“加工確認(rèn)”和

“日常生產(chǎn)加工”（見(jiàn)１９９７版的第７章、第８章、第９章；本版的第９章、第１０章、第１１章、第１２

章）；

———增加了“加工參數(shù)”章和相關(guān)內(nèi)容（見(jiàn)本版第８章）；

———增加了不確定度的分類標(biāo)準(zhǔn)和評(píng)定準(zhǔn)則（見(jiàn)第１３章）；

———細(xì)化了用深度劑量分布方法確定電子束初始能量的方法和條件（見(jiàn)本版附錄Ａ）；

———重新描述了“微波功率加速器”和“射頻功率型加速器”的性能特征（見(jiàn)本版附錄Ｄ中Ｄ．１．２和

Ｄ．１．３）。

本標(biāo)準(zhǔn)的附錄Ａ、附錄Ｂ、附錄Ｃ和附錄Ｄ為資料性附錄。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)核能標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提出。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)核能標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)歸口。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位：中國(guó)計(jì)量科學(xué)研究院。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：張彥立、張輝、龔曉明、劉智綿、夏渲。

本標(biāo)準(zhǔn)所代替標(biāo)準(zhǔn)的歷次發(fā)布情況為：ＧＢ／Ｔ１６８４１—１９９７。

Ⅲ

犌犅／犜１６８４１—２００８／犐犛犗／犃犛犜犕５１６４９：２００５

能量為３００犽犲犞～２５犕犲狏電子束輻射

加工裝置劑量學(xué)導(dǎo)則

１范圍

１．１本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子束輻射加工中為保證全部產(chǎn)品接受到產(chǎn)生預(yù)期輻射效應(yīng)所需的劑量，在安裝確

認(rèn)、運(yùn)行確認(rèn)、性能確認(rèn)（ＩＱ、ＯＱ和ＰＱ）和日常加工中所涉及的劑量測(cè)量程序，以及有關(guān)可能影響這些

過(guò)程和用以監(jiān)控產(chǎn)品中吸收劑量的其他程序。

注１：劑量計(jì)選擇和校準(zhǔn)的指南見(jiàn)ＧＢ／Ｔ１６６４０；使用劑量測(cè)量系統(tǒng)的專用指南見(jiàn)ＧＢ／Ｔ１６６３９、ＩＳＯ／ＡＳＴＭ５１２７５

ＩＳＯ／ＡＳＴＭ５１２７６、ＩＳＯ／ＡＳＴＭ５１４３１、ＩＳＯ／ＡＳＴＭ５１６３１、ＩＳＯ／ＡＳＴＭ５１６５０和ＩＳＯ／ＡＳＴＭ５１９５６；對(duì)能量大

于５ＭｅＶ的電子束所用較大體積劑量計(jì)的劑量測(cè)量系統(tǒng)指南見(jiàn)ＡＳＴＭＥ１０２６、ＩＳＯ／ＡＳＴＭ５１２０５、ＩＳＯ／

ＡＳＴＭ５１４０１、ＩＳＯ／ＡＳＴＭ５１５３８、ＩＳＯ／ＡＳＴＭ５１５４０；有關(guān)脈沖輻射劑量學(xué)的論述見(jiàn)ＩＣＲＵ第３４號(hào)報(bào)告。

１．２本標(biāo)準(zhǔn)適用的電子束的能量范圍：３００ｋｅＶ～２５ＭｅＶ。

１．３劑量測(cè)量只是輻照加工全面質(zhì)量管理的一個(gè)組成部分，在醫(yī)療保健產(chǎn)品的輻射滅菌和食品保藏等

特別應(yīng)用中，除了劑量測(cè)量外，還需要進(jìn)行其他方面的測(cè)量。

１．４ＩＳＯ和ＡＳＴＭ已經(jīng)頒布了適用于食品輻照和醫(yī)療保健產(chǎn)品專用標(biāo)準(zhǔn)。食品輻照的專用標(biāo)準(zhǔn)見(jiàn)

ＩＳＯ／ＡＳＴＭ５１４３１，醫(yī)療保健產(chǎn)品的輻射滅菌的專用標(biāo)準(zhǔn)見(jiàn)ＧＢ１８２８０。在使用中ＧＢ１８２８０的規(guī)定優(yōu)

先于其他標(biāo)準(zhǔn)的規(guī)定。

１．５本標(biāo)準(zhǔn)不涉及與使用相關(guān)的安全問(wèn)題。本標(biāo)準(zhǔn)的使用者負(fù)責(zé)建立適用的安全和健康標(biāo)準(zhǔn)，并在使

用前確定其適用的限制范圍。

２規(guī)范性引用文件

下列文件中的條款通過(guò)本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款。凡是注日期的引用文件，其隨后所有

的修改單（不包括勘誤的內(nèi)容）或修訂版均不適用于本標(biāo)準(zhǔn)，然而，鼓勵(lì)根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達(dá)成協(xié)議的各方研究

是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。

ＧＢ／Ｔ１６５０