標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 22453-2008 硼酸鹽非線性光學(xué)單晶元件質(zhì)量測試方法》是一項(xiàng)國家標(biāo)準(zhǔn),該標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了用于評價(jià)硼酸鹽非線性光學(xué)單晶元件質(zhì)量的一系列測試方法。這些測試方法涵蓋了晶體的外觀、尺寸精度、表面質(zhì)量和內(nèi)部缺陷等多個(gè)方面,旨在為相關(guān)行業(yè)提供一套科學(xué)合理的檢測依據(jù)。
標(biāo)準(zhǔn)中明確了對于不同類型的硼酸鹽非線性光學(xué)單晶元件,在進(jìn)行質(zhì)量評估時(shí)所需遵循的具體步驟和技術(shù)要求。例如,對外觀檢查提出了詳細(xì)的標(biāo)準(zhǔn),包括但不限于裂紋、劃痕等可見缺陷的最大允許范圍;對尺寸測量給出了精確到微米級別的要求,并且指定了使用何種工具或設(shè)備來完成這一過程;此外,還涉及到了如何通過特定手段(如X射線衍射)來分析晶體結(jié)構(gòu)是否符合預(yù)期,以及利用激光散射技術(shù)檢測材料內(nèi)是否存在影響性能的雜質(zhì)顆粒等內(nèi)容。
針對表面處理及拋光質(zhì)量也有專門的規(guī)定,強(qiáng)調(diào)了表面粗糙度的重要性及其測量方法。同時(shí),標(biāo)準(zhǔn)還包括了一些關(guān)于抗損傷閾值測定的方法介紹,這對于確保晶體在實(shí)際應(yīng)用中的穩(wěn)定性和安全性至關(guān)重要。
該文件適用于從事硼酸鹽非線性光學(xué)單晶材料研究開發(fā)、生產(chǎn)和使用的單位和個(gè)人參考執(zhí)行。通過遵循此標(biāo)準(zhǔn)所列出的各項(xiàng)指導(dǎo)原則與操作流程,可以有效地提高產(chǎn)品質(zhì)量控制水平,促進(jìn)相關(guān)領(lǐng)域技術(shù)進(jìn)步與發(fā)展。
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2008-10-07 頒布
- 2009-04-01 實(shí)施
文檔簡介
犐犆犛17.180
犃60
中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)
犌犅/犜22453—2008
硼酸鹽非線性光學(xué)單晶元件
質(zhì)量測試方法
犖狅狀犾犻狀犲犪狉狅狆狋犻犮犪犾犫狅狉犪狋犲犮狉狔狊狋犪犾犱犲狏犻犮犲狊犿犲犪狊狌狉犻狀犵犿犲狋犺狅犱
20081007發(fā)布20090401實(shí)施
中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局
發(fā)布
中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會
書
犌犅/犜22453—2008
前言
本標(biāo)準(zhǔn)由全國光輻射安全和激光設(shè)備標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(SAC/TC284)提出并歸口。
本標(biāo)準(zhǔn)起草單位:中國科學(xué)院福建物質(zhì)結(jié)構(gòu)研究所、福建光電子材料工程技術(shù)研究中心和福建福晶
科技股份有限公司。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:蘭國政、吳少凡、林文雄、謝發(fā)利、吳季、李雄。
Ⅰ
書
犌犅/犜22453—2008
硼酸鹽非線性光學(xué)單晶元件
質(zhì)量測試方法
1范圍
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了硼酸鹽非線性光學(xué)單晶元件低溫相偏硼酸鋇(βBaB2O4,簡稱BBO)和三硼酸鋰
(LiB3O5,簡稱LBO)的質(zhì)量測試方法。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于BBO和LBO單晶元件。能滿足本標(biāo)準(zhǔn)要求的其他硼酸鹽非線性光學(xué)單晶元件也可
參照使用。
2規(guī)范性引用文件
下列文件中的條款通過本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款。凡是注日期的引用文件,其隨后所有
的修改單(不包括勘誤的內(nèi)容)或修訂版均不適用于本標(biāo)準(zhǔn),然而,鼓勵(lì)根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達(dá)成協(xié)議的各方研究
是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。
GB/T11297.1—2002激光棒波前畸變的測量方法
GB/T16601—1996光學(xué)表面激光損傷閾值測試方法第1部分:1對1測試(eqvISO/
DIS112541.2:1995)
JB/T9495.3—1999光學(xué)晶體透過率測量方法
3主要測試項(xiàng)目
3.1物理性能
散射、光學(xué)不均勻性、特定波長吸收、倍頻轉(zhuǎn)換效率、激光損傷閾值、減反膜剩余反射率、波前畸變。
3.2加工質(zhì)量
尺寸公差、角度偏差、不平行度、不平面度、不垂直度、有效通光孔徑、表面疵病。
4測試的環(huán)境要求
潔凈等級:10000級
溫度:(23±2)℃
相對濕度:(55±5)%
5測試方法
5.1散射
5.1.1測試原理
利用單晶元件內(nèi)部的包絡(luò)、氣泡等缺陷對激光束的散射作用,觀測單晶元件內(nèi)部質(zhì)量。當(dāng)激光通過
元件的光路被散射變粗或出現(xiàn)發(fā)散光,表明元件存在包絡(luò)、氣泡等缺陷。
5.1.2測試條件
樣品:單晶元件的激光入射面、出射面及觀測面拋光。
環(huán)境:在
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