標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 22453-2008 硼酸鹽非線性光學(xué)單晶元件質(zhì)量測(cè)試方法》是一項(xiàng)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn),該標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了用于評(píng)價(jià)硼酸鹽非線性光學(xué)單晶元件質(zhì)量的一系列測(cè)試方法。這些測(cè)試方法涵蓋了晶體的外觀、尺寸精度、表面質(zhì)量和內(nèi)部缺陷等多個(gè)方面,旨在為相關(guān)行業(yè)提供一套科學(xué)合理的檢測(cè)依據(jù)。
標(biāo)準(zhǔn)中明確了對(duì)于不同類(lèi)型的硼酸鹽非線性光學(xué)單晶元件,在進(jìn)行質(zhì)量評(píng)估時(shí)所需遵循的具體步驟和技術(shù)要求。例如,對(duì)外觀檢查提出了詳細(xì)的標(biāo)準(zhǔn),包括但不限于裂紋、劃痕等可見(jiàn)缺陷的最大允許范圍;對(duì)尺寸測(cè)量給出了精確到微米級(jí)別的要求,并且指定了使用何種工具或設(shè)備來(lái)完成這一過(guò)程;此外,還涉及到了如何通過(guò)特定手段(如X射線衍射)來(lái)分析晶體結(jié)構(gòu)是否符合預(yù)期,以及利用激光散射技術(shù)檢測(cè)材料內(nèi)是否存在影響性能的雜質(zhì)顆粒等內(nèi)容。
針對(duì)表面處理及拋光質(zhì)量也有專(zhuān)門(mén)的規(guī)定,強(qiáng)調(diào)了表面粗糙度的重要性及其測(cè)量方法。同時(shí),標(biāo)準(zhǔn)還包括了一些關(guān)于抗損傷閾值測(cè)定的方法介紹,這對(duì)于確保晶體在實(shí)際應(yīng)用中的穩(wěn)定性和安全性至關(guān)重要。
該文件適用于從事硼酸鹽非線性光學(xué)單晶材料研究開(kāi)發(fā)、生產(chǎn)和使用的單位和個(gè)人參考執(zhí)行。通過(guò)遵循此標(biāo)準(zhǔn)所列出的各項(xiàng)指導(dǎo)原則與操作流程,可以有效地提高產(chǎn)品質(zhì)量控制水平,促進(jìn)相關(guān)領(lǐng)域技術(shù)進(jìn)步與發(fā)展。
如需獲取更多詳盡信息,請(qǐng)直接參考下方經(jīng)官方授權(quán)發(fā)布的權(quán)威標(biāo)準(zhǔn)文檔。
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2008-10-07 頒布
- 2009-04-01 實(shí)施



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GB/T 22453-2008硼酸鹽非線性光學(xué)單晶元件質(zhì)量測(cè)試方法-免費(fèi)下載試讀頁(yè)文檔簡(jiǎn)介
犐犆犛17.180
犃60
中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)
犌犅/犜22453—2008
硼酸鹽非線性光學(xué)單晶元件
質(zhì)量測(cè)試方法
犖狅狀犾犻狀犲犪狉狅狆狋犻犮犪犾犫狅狉犪狋犲犮狉狔狊狋犪犾犱犲狏犻犮犲狊犿犲犪狊狌狉犻狀犵犿犲狋犺狅犱
20081007發(fā)布20090401實(shí)施
中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局
發(fā)布
中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
書(shū)
犌犅/犜22453—2008
前言
本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)光輻射安全和激光設(shè)備標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)(SAC/TC284)提出并歸口。
本標(biāo)準(zhǔn)起草單位:中國(guó)科學(xué)院福建物質(zhì)結(jié)構(gòu)研究所、福建光電子材料工程技術(shù)研究中心和福建福晶
科技股份有限公司。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:蘭國(guó)政、吳少凡、林文雄、謝發(fā)利、吳季、李雄。
Ⅰ
書(shū)
犌犅/犜22453—2008
硼酸鹽非線性光學(xué)單晶元件
質(zhì)量測(cè)試方法
1范圍
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了硼酸鹽非線性光學(xué)單晶元件低溫相偏硼酸鋇(βBaB2O4,簡(jiǎn)稱(chēng)BBO)和三硼酸鋰
(LiB3O5,簡(jiǎn)稱(chēng)LBO)的質(zhì)量測(cè)試方法。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于BBO和LBO單晶元件。能滿(mǎn)足本標(biāo)準(zhǔn)要求的其他硼酸鹽非線性光學(xué)單晶元件也可
參照使用。
2規(guī)范性引用文件
下列文件中的條款通過(guò)本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款。凡是注日期的引用文件,其隨后所有
的修改單(不包括勘誤的內(nèi)容)或修訂版均不適用于本標(biāo)準(zhǔn),然而,鼓勵(lì)根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達(dá)成協(xié)議的各方研究
是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。
GB/T11297.1—2002激光棒波前畸變的測(cè)量方法
GB/T16601—1996光學(xué)表面激光損傷閾值測(cè)試方法第1部分:1對(duì)1測(cè)試(eqvISO/
DIS112541.2:1995)
JB/T9495.3—1999光學(xué)晶體透過(guò)率測(cè)量方法
3主要測(cè)試項(xiàng)目
3.1物理性能
散射、光學(xué)不均勻性、特定波長(zhǎng)吸收、倍頻轉(zhuǎn)換效率、激光損傷閾值、減反膜剩余反射率、波前畸變。
3.2加工質(zhì)量
尺寸公差、角度偏差、不平行度、不平面度、不垂直度、有效通光孔徑、表面疵病。
4測(cè)試的環(huán)境要求
潔凈等級(jí):10000級(jí)
溫度:(23±2)℃
相對(duì)濕度:(55±5)%
5測(cè)試方法
5.1散射
5.1.1測(cè)試原理
利用單晶元件內(nèi)部的包絡(luò)、氣泡等缺陷對(duì)激光束的散射作用,觀測(cè)單晶元件內(nèi)部質(zhì)量。當(dāng)激光通過(guò)
元件的光路被散射變粗或出現(xiàn)發(fā)散光,表明元件存在包絡(luò)、氣泡等缺陷。
5.1.2測(cè)試條件
樣品:?jiǎn)尉г募す馊肷涿?、出射面及觀測(cè)面拋光。
環(huán)境:在
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