GB/T 31227-2014原子力顯微鏡測量濺射薄膜表面粗糙度的方法

ICS1704020

J04..

中華人民共和國國家標準

GB/T31227—2014

原子力顯微鏡測量

濺射薄膜表面粗糙度的方法

Testmethodforthesurfaceroughnessbyatomicforcemicroscope

forsputteredthinfilms

2014-09-30發(fā)布2015-04-15實施

中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局發(fā)布

中國國家標準化管理委員會

GB/T31227—2014

前言

本標準按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本標準由中國科學院提出

。

本標準由全國納米技術標準化技術委員會歸口

(SAC/TC279)。

本標準起草單位上海交通大學納米技術及應用國家工程研究中心

:、。

本標準起草人李慧琴梁齊路慶華何丹農(nóng)張冰

:、、、、。

Ⅰ

GB/T31227—2014

引言

濺射技術因其能夠使材料均勻致密并且大面積地按照合適的比例鍍在基體表面上而得到廣泛運

,

用形成的薄膜表面粗糙程度對其光電性能具有很大影響由于其粗糙度一般處于納米尺度但目前

,、。,

已有的國家標準和國際標準都是大于微米尺度的測量方法標準不適用這種材料表面粗糙度的測量

,。

原子力顯微鏡利用一尖銳探針接觸到樣品表面得到表面的高度信息達到了縱向上優(yōu)于橫向

,,0.1nm,

上優(yōu)于的分辨率用原子力顯微鏡來測量濺射薄膜的表面粗糙度平均標準偏差可以達到

1nm。,1nm,

因而適合這種薄膜表面粗糙度的測量

。

Ⅱ

GB/T31227—2014

原子力顯微鏡測量

濺射薄膜表面粗糙度的方法

1范圍

本標準規(guī)定了使用原子力顯微鏡測量表面粗糙度的方法

(AFM)。

本標準適用于測量濺射成膜方法生成的平均粗糙度Ra小于的薄膜

、100nm。

其他非濺射薄膜的表面粗糙度的測量可以參考此方法

。

2規(guī)范性引用文件

下列文件對于本文件的應用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

利用晶面原子臺階對原子力顯微鏡亞納米高度測量進行校準的方法

GB/T27760—2011Si(111)。

3術語和定義符號和縮略語

、

31術語和定義

.

界定的以及下列術語和定義適用于本文件

GB/T27760—2011。

311

..

原子力顯微鏡atomicforcemicroscope

利用晶面原子臺階對原子力顯微鏡亞納米高度測量進行校準的方法

Si(111)。

312

..

濺射薄膜sputteredthinfilms

利用濺射工藝在某種基體上形成的均勻的膜

。

313

..

探針污染tipcontaminated

探針針尖的表面吸附上了其他物質(zhì)造成了針尖的污染

,。

32符號和縮略語

.

下列符號和縮略語適用于本文件見表

(1)。

表1符號和縮略語

縮寫和符號說明單位

原子力顯微鏡

AFM(AtomicForceMicroscope)

云母片用于的方向的原子級分辨的校正

Mica,AFMx-y

Ra平均粗糙度