GB/T 32988-2016人造石英光學(xué)低通濾波器晶片

ICS31160

L21.

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T32988—2016

人造石英光學(xué)低通濾波器晶片

SntheticuartzcrstalwaferforoticallowassfilterOLPF

yqypp()

2016-10-13發(fā)布2017-09-01實施

中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局發(fā)布

中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會

GB/T32988—2016

目次

前言

…………………………Ⅲ

范圍

1………………………1

規(guī)范性引用文件

2…………………………1

術(shù)語和定義

3………………1

分級

4………………………3

要求

5………………………4

晶片

5.1…………………4

尺寸與角度

5.2…………………………4

晶片表面疵病

5.3………………………5

晶片的面形偏差

5.4……………………6

測試方法

6…………………6

包裹體和裂紋

6.1………………………6

條紋

6.2…………………6

尺寸

6.3…………………6

切向和角度偏差

6.4……………………6

倒角和倒邊

6.5…………………………6

垂直度

6.6………………7

6.7TV5…………………7

表面疵病

6.8……………7

面形偏差

6.9……………7

檢驗規(guī)則

7…………………8

抽樣方案

7.1……………8

判定規(guī)則

7.2……………8

型式檢驗

7.3……………8

包裝標(biāo)識交貨條件

8、、……………………8

包裝

8.1…………………8

標(biāo)識

8.2…………………8

交貨條件

8.3……………8

參考文獻(xiàn)

………………………9

Ⅰ

GB/T32988—2016

前言

本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

請注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專利本文件的發(fā)布機構(gòu)不承擔(dān)識別這些專利的責(zé)任

。。

本標(biāo)準(zhǔn)由中國建筑材料聯(lián)合會提出

。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國人工晶體標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會歸口

(SAC/TC461)。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位爍光特晶科技有限公司浙江水晶光電科技股份有限公司

:、。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人張紹鋒張璇孫志文王保新尚繼武邱歡華大辰

:、、、、、、。

Ⅲ

GB/T32988—2016

人造石英光學(xué)低通濾波器晶片

1范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了人造石英光學(xué)低通濾波器晶片術(shù)語和定義分級要求測試方法檢驗規(guī)則及包裝

、、、、、

標(biāo)識交貨條件

、。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于人造石英光學(xué)低通濾波器晶片

。

2規(guī)范性引用文件

下列文件對于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

光學(xué)零件表面疵病

GB/T1185

計數(shù)抽樣檢驗程序第部分按接收質(zhì)量限檢索的逐批檢驗抽

GB/T2828.1—20121:(AQL)

樣計劃

(ISO2859-1:1999)

光學(xué)零件的面形偏差

GB/T2831

硅片厚度和總厚度變化測試方法

GB/T6618—2009

人造光學(xué)石英晶體

GB/T7895

人造光學(xué)石英晶體試驗方法

GB/T7896—2008

3術(shù)語和定義

和界定的以及下列術(shù)語和定義適用于本文件為了便于使

GB/T7895、GB/T1185GB/T2831。

用以下重復(fù)列出了上述某些術(shù)語和定義

,。

31

.

光學(xué)低通濾波器晶片opticallow-passfilterwaferOLPFwafer

;

用石英晶體等材料制作其單片或多片組合并鍍膜后讓某一頻率以下的光信號分量通過而抑制

,,,

該頻率以上的光信號分量的光學(xué)基片

。

32

.

有效區(qū)域fixedqualityareaFQA

;

去除晶片邊緣特定距離X的晶體表面中心區(qū)域參考圖虛線所包含的區(qū)域

。1