標(biāo)準(zhǔn)解讀

《YS/T 363-2006 純銠中雜質(zhì)元素的發(fā)射光譜分析》相較于1994年的版本，在多個(gè)方面進(jìn)行了更新和改進(jìn)。首先，新標(biāo)準(zhǔn)對(duì)適用范圍進(jìn)行了更加明確的規(guī)定，指出適用于純銠材料中多種雜質(zhì)元素含量的測(cè)定，包括但不限于鐵、鎳、銅等，并且對(duì)于檢測(cè)限的要求也有所提高，以適應(yīng)更嚴(yán)格的質(zhì)量控制需求。

其次，在方法原理部分，《YS/T 363-2006》引入了更為先進(jìn)的技術(shù)手段來增強(qiáng)分析精度與準(zhǔn)確性，比如采用更高分辨率的光譜儀以及優(yōu)化后的樣品制備流程，從而能夠更好地分離復(fù)雜基體中的目標(biāo)元素信號(hào)，減少干擾，提高測(cè)試結(jié)果的可靠性。

此外，關(guān)于儀器設(shè)備的選擇與使用條件，《YS/T 363-2006》給出了更為詳細(xì)具體的指導(dǎo)建議，不僅列出了推薦使用的型號(hào)規(guī)格，還強(qiáng)調(diào)了操作環(huán)境的重要性，如溫度濕度控制、電源穩(wěn)定性等因素如何影響最終數(shù)據(jù)質(zhì)量。

在樣品處理環(huán)節(jié)，《YS/T 363-2006》增加了更多樣化的預(yù)處理方法介紹，針對(duì)不同形態(tài)（粉末、塊狀）或來源（回收料、新制備材料）的銠樣品提出了差異化的溶解策略，確保所有類型的樣本都能得到有效處理而不損失關(guān)鍵成分。

最后，新版標(biāo)準(zhǔn)還特別加強(qiáng)了對(duì)實(shí)驗(yàn)過程中可能遇到問題的解決指南及注意事項(xiàng)說明，幫助使用者避免常見錯(cuò)誤并快速定位故障原因，進(jìn)一步保證了分析工作的順利進(jìn)行。


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  • 2006-05-25 頒布
  • 2006-12-01 實(shí)施
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YS/T 363-2006純銠中雜質(zhì)元素的發(fā)射光譜分析_第1頁
YS/T 363-2006純銠中雜質(zhì)元素的發(fā)射光譜分析_第2頁
YS/T 363-2006純銠中雜質(zhì)元素的發(fā)射光譜分析_第3頁
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ICS77.040.30Y5H15中華人民共和國(guó)有色金屬行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)YS/T363-2006代替YS/T363-1994純銘中雜質(zhì)元素的發(fā)射光譜分析Determinationoftraceimpuritiesinpurityrhodiumbyatomicemissionspectrometric2006-05-25發(fā)布2006-12-01實(shí)施中華人民共和國(guó)國(guó)家發(fā)展和改革委員會(huì)發(fā)布

YS/T363—2006本標(biāo)準(zhǔn)是對(duì)YS/T363—1994純能中雜質(zhì)元素的發(fā)射光譜分析》的修訂本標(biāo)準(zhǔn)與YS/T363—1994相比,主要進(jìn)行了編輯性修改。本標(biāo)準(zhǔn)自實(shí)施之日起.同時(shí)代替YS/T363—1994.本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)有色金屬標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提出并歸口本標(biāo)準(zhǔn)由貴研鉑業(yè)股份有限公司負(fù)責(zé)起草。本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：文勁松、方衛(wèi)、李楷中本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)有色金屬標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)負(fù)責(zé)解釋本標(biāo)準(zhǔn)所代替標(biāo)準(zhǔn)的歷次版本發(fā)布情況為：-YB926-78：-YS/T363-1994。

YS/T363-2006純銘中雜質(zhì)元素的發(fā)射光譜分析范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了純錢中雜質(zhì)元素含量的測(cè)定方法本標(biāo)準(zhǔn)適用于純鎧中雜質(zhì)元素含量的測(cè)定.測(cè)定范圍應(yīng)符合表1的規(guī)定.測(cè)定范圍（質(zhì)量分?jǐn)?shù)）0.001~0.040.001~0.04AI.Pb、Fe、Sn、NiP0.0003~0.01Ag、Cu0.0001~0.004另選線可到0.03。方法提要樣品轉(zhuǎn)化成粉末(海綿).加石墨粉作緩沖劑.裝人杯狀石墨電極中，直流電弧陽極激發(fā).攝譜測(cè)定試劑和材料3.1二次蒸留水(離子交換后蒸館兩次）3.2二氧化硅粉.光譜純3.3石墨粉，光譜純。3.4鹽酸(pl.19g/mL），優(yōu)級(jí)純3.5硝酸(pl.42g/mL),優(yōu)級(jí)純。3.6光譜純氯化銨飽和溶液3.7光譜用錢基體3.8石墨電極，

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