YS/T 630-2007氧化鋁化學(xué)分析方法 氧化鋁雜質(zhì)含量的測定 電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法

ICS71.100.10Y5H12中華人民共和國有色金屬行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)YS/T630—2007氧化鋁化學(xué)分析方法氧化鋁雜質(zhì)含量的測定電感合等離子體原子發(fā)射光譜法Chemicalanalysismethodsofalumina-DeterminationofimpuritiesinaluminaInductivelycoupledplasmaatomicemissionnspectrometricmethod2007-04-13發(fā)布2007-10-01實(shí)施中華人民共和國國家發(fā)展和改革委員會發(fā)布

YS/T630—2007前本標(biāo)準(zhǔn)附錄A為資料性附錄本標(biāo)準(zhǔn)由全國有色金屬標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會提出并歸口本標(biāo)準(zhǔn)由中國鋁業(yè)股份有限公司河南分公司負(fù)責(zé)起草本標(biāo)準(zhǔn)由廣州有色金屬研究院、中國鋁業(yè)股份有限公司鄭州輕金屬研究院參加起草。本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：吳鋼、全玉、黃健、梁倩、魏明獻(xiàn)、董良、王振萍、王攀.本標(biāo)準(zhǔn)主要驗(yàn)證人：熊曉燕、李躍平。本標(biāo)準(zhǔn)由全國有色金屬標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會負(fù)責(zé)解釋。

YS/T630—2007氧化鋁化學(xué)分析方法氧化鋁雜質(zhì)含量的測定電感合等離子體原子發(fā)射光譜法1范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了氧化鋁中二氧化硅、三氧化二鐵、氧化鈉、氧化鉀、氧化銅、氧化鎂、氧化鈣、三氧化二格、五氧化二釩、氧化鋅、二氧化鈦、氧化錳、三氧化二家含量的測定方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于氧化鋁中二氧化硅、三氧化二鐵、氧化鈉、氧化鉀、氧化銅、氧化鎂、氧化鈣、三氧化二絡(luò)、五氧化二釩、氧化鋅、二氧化鈦、氧化錳、三氧化二鏢含量的測定。測定范圍見表1.表1雜質(zhì)測定范明/%雜質(zhì)測定范圍/%二氧化硅0.005~0.30三氧化二銘0.0003~0.10三氧化二鐵五氧化二機(jī)0.005~0.300.0002~0.10氧化鈉0.01~1.30氧化鋅0.0004~0.10氧化鉀0.004~0.30二氧化鈦0.0005~0.10氧化銅0.0005~0.10氧化錳0.0003~0.10氧化鐵0.0005~0.10三氧化二驚0.001~0.10氧化鈣0.005~0.302規(guī)范性引用文件下列文件中的條款通過本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款。凡是注日期的引用文件,其隨后所有的修改單(不包括勒誤的內(nèi)容)或修訂版均不適用于本標(biāo)準(zhǔn).然而，鼓勵根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達(dá)成協(xié)議的各方研究是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。GB/T602-2002化學(xué)試劑雜質(zhì)測定用標(biāo)準(zhǔn)溶液的制備（ISO6353-1：1982NEQ）方法原理在微波消解系統(tǒng)作用下.試料以硫酸高溫高壓消解,試液引入氬氣等離子體中.在選定的最佳操作條件下,用電感幫合等離子光譜儀測定，以基體匹配法校正基體對測定的影響4試劑氬氣（二99.99%）4.2硫酸(1十2):優(yōu)級純4.3硫酸(1十1）：優(yōu)級純4.4高純鋁(>99.999%)。4.5鋁基體溶液(20mg/mL):稱取5.2873g高純鋁(4.4)于1000mL燒杯中，加入400mL.硫酸（4.3).將燒杯置于電爐上緩慢加熱至溶解完全.冷卻.將溶液移入500mL容量瓶中.用水稀釋至刻度.混勺,置于聚乙烯瓶中存。此溶液