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2023/2/61第5章:光電成像技術(shù)5.2CCD與CMOS2023/2/621965年,氧化鉛管成功代替正析攝像管,廣泛應(yīng)用于彩色電視攝像機(jī)。1969年,美國BellLab.的Boyle&Smith發(fā)明電荷耦合器件(ChargeCoupledDevice,CCD)(09年諾貝爾物理獎)。1976年前后,相繼出現(xiàn)靈敏度更高、成本更低的硒像管、硅靶管及CMOS等。上節(jié)回顧--§1光電成像器件的發(fā)展2023/2/63CCD圖例2023/2/64本節(jié)內(nèi)容CCD與CMOS基本組成結(jié)構(gòu)?CCD的工作過程?重點(diǎn)電荷的轉(zhuǎn)移--
難點(diǎn)CMOS與CCD之間的相似與不同?重點(diǎn)2023/2/65§2固體攝像器件
分類:
CCD--電荷耦合器件(ChargeCoupledDevice)
CMOS--互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體圖像傳感器(Complementary
Metel-OxideSemiconductor)功能:
把入射到傳感器光敏面上的按空間分布的光強(qiáng)信息(可見光、紅外輻射等),轉(zhuǎn)換為按時序串行輸出的電信號
——
視頻信號,而視頻信號能再現(xiàn)入射的光輻射圖像。2023/2/66一、CCD基本功能CCD中是大量的獨(dú)立的光敏元件排列在一起,每個光敏元件稱為像素,它是圖像的基本單位和最小的視覺顯示單位;工作特點(diǎn)——以電荷作為信號工作過程——信號電荷的產(chǎn)生、存儲、轉(zhuǎn)移和檢測.2023/2/67二、CCD基本結(jié)構(gòu)
CCD的基本單元是金屬-氧化物-半導(dǎo)體(MOS)結(jié)構(gòu)。AlSiO2Si襯底MOS電容器在p型或n型的硅單晶襯底上生長一層厚度約0.12m的SiO2薄膜,薄膜上再蒸鍍一層金屬膜(通常為鋁)。經(jīng)過光刻,將鋁膜分割成間距很小的單元。每個鋁膜單元作為一個電極,與下面的SiO2層和Si單晶組成MOS結(jié)構(gòu),如同一個MOS
電容器。MOS電容器可以排成一維形式(線陣),或二維形式(面陣)。2023/2/68(a)耗盡層氧化層電極VG<Vth
在鋁膜電極上加上正電壓,襯底接負(fù)電壓,由于電場的感應(yīng)作用,使p
型半導(dǎo)體中的電荷分布發(fā)生變化。正電荷被排斥而遠(yuǎn)離Si
與
SiO2的界面,使得在接近界面的位置上出現(xiàn)耗盡層,如圖a所示。
耗盡層的出現(xiàn)使界面處的表面勢Es增加。隨著電極上的電壓增加,耗盡層加深,表面勢更高。表面勢對電子有吸引作用,因而Es高到一定程度,會將半導(dǎo)體內(nèi)的電子(少數(shù)載流子)吸引到表面,形成一層極薄(103m),但電荷濃度很高的反射層,如圖b所示,反射層又稱為n溝道。(b)反射層氧化層電極VG<Vth三、CCD電荷的存儲與轉(zhuǎn)移2023/2/69
由于電子出現(xiàn),使得表面勢下降,如果電子繼續(xù)被吸引過來,使耗盡層變淺,表面勢也進(jìn)一步降低。當(dāng)表面勢降到費(fèi)米電勢的兩倍,即:Es=2EF
時,相當(dāng)于電子已填充到最大限度,表面勢不再束縛多余電子,而會產(chǎn)生電子的溢出。
表面勢越高,即耗盡層越深,則表示能夠容納的電子數(shù)越多。電子落入這個區(qū)域如同落入井中,因此又把這種由于在電極上加上電壓后所形成表面勢壘區(qū)稱為勢阱,表面勢的大小可作為勢阱深度的量度。三、CCD電荷的存儲與轉(zhuǎn)移2023/2/610
如果在某一時刻,勢阱中存儲了部分電荷,通過改變電極上的電壓,使勢阱變淺,導(dǎo)致阱內(nèi)電荷趨于飽和并溢出,就可以實(shí)現(xiàn)電荷的轉(zhuǎn)移。CCD中電荷的轉(zhuǎn)移過程
電荷的轉(zhuǎn)移是通過在電極上施加按一定順序變化的脈沖驅(qū)動電壓,導(dǎo)致電荷耦合而實(shí)現(xiàn)。三、CCD電荷的轉(zhuǎn)移2V2V10V10V123(c)2V10V2V123存有電荷的勢阱(a)2V10-2V電荷移動2V2V10V123(d)2V2V2V10V123(e)2-10V新勢阱2V2V10V123(b)2023/2/611信號檢測——就是有效的收集和探測電荷。R輸出放大電荷檢測電路四、CCD信號檢測2023/2/612Photodiode—感光二極管;ShiftRegister—并行信號寄存器,
用于暫時儲存感光后產(chǎn)生的電荷;TransferRegister—串行信號寄
存器,用于暫時儲存并行寄存器的模擬信號并將電荷轉(zhuǎn)移放大;信號放大器-用于放大微弱電信號;數(shù)摸轉(zhuǎn)換器-將放大的電信號轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號。五、CCD工作原理Register2023/2/613六.CMOS與CCD器件的比較
CMOS是將信號電荷同步處理,CCD是將信號電荷先轉(zhuǎn)移再處理。2023/2/614六.CMOS與CCD器件的比較
信息讀取方式
CCD存儲的電荷信息需在同步信號控制下一位一位地實(shí)施轉(zhuǎn)移后讀取,整個電路較為復(fù)雜。CMOS經(jīng)光電轉(zhuǎn)換后直接產(chǎn)生電流(或電壓)信號,信號讀取十分簡單。信息輸出速度CCD需在同步時鐘的控制下,以行為單位一位一位地輸出信息,速度較慢;CMOS采集光信號的同時就可以取出電信號,還能同時處理各單元的圖像信息,速度比CCD電荷耦合器快很多。2023/2/615小結(jié)CCD與CMOS基本組成結(jié)構(gòu)均為金屬-氧化物-半導(dǎo)體(MOS)結(jié)構(gòu)CCD的工作過程
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