濺射靶材行業(yè)全球產(chǎn)業(yè)鏈轉(zhuǎn)移提供新機(jī)遇分析

濺射靶材行業(yè)全球產(chǎn)業(yè)鏈轉(zhuǎn)移提供新機(jī)遇分析濺射靶材行業(yè)全球產(chǎn)業(yè)鏈轉(zhuǎn)移提供新機(jī)遇由于我國(guó)大力發(fā)展平面顯示及集成電路半導(dǎo)體行業(yè)，出現(xiàn)了以京東方為代表的平面顯示行業(yè)巨頭以及以中芯國(guó)際為代表的集成電路芯片廠商，多條高世代線和大尺寸產(chǎn)線建成或在建，使得全球面板及半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)向國(guó)內(nèi)進(jìn)行大規(guī)模轉(zhuǎn)移。但與此同時(shí)，上游配套材料卻仍主要由以日本為代表的國(guó)際巨頭予以提供，由于西方國(guó)家持續(xù)升級(jí)對(duì)我國(guó)的科技發(fā)展限制，相關(guān)核心原材料的迫在眉睫。為解決問題，近年來，我國(guó)出臺(tái)了多項(xiàng)濺射靶材行業(yè)的支持政策，也涌現(xiàn)出一批包括本企業(yè)在內(nèi)的國(guó)內(nèi)高性能濺射靶材領(lǐng)先企業(yè)，在部分品種靶材的核心技術(shù)上相繼得以突破，并已進(jìn)入到下游知名客戶的供應(yīng)鏈體系。從而提升了我國(guó)在全球高性能濺射靶材行業(yè)的市場(chǎng)地位，也為國(guó)內(nèi)濺射靶材行業(yè)的進(jìn)一步發(fā)展提供了更為廣闊的市場(chǎng)空間。濺射靶材市場(chǎng)下游市場(chǎng)情況濺射靶材下游應(yīng)用領(lǐng)域廣泛，在平面顯示、信息存儲(chǔ)、光伏電池、半導(dǎo)體芯片等行業(yè)被廣泛應(yīng)用。其中平面顯示市場(chǎng)中，應(yīng)用最為廣泛，占比34%；其次為、信息存儲(chǔ)、光伏電池，占比分別為29%、21%。濺射靶材能夠提升平板顯示器中大面積膜層的均勻性，提高生產(chǎn)率并降低成本。2016-2020年我國(guó)大陸平板顯示產(chǎn)能從29%提升到51%，居全球首位，預(yù)計(jì)2022年將達(dá)到56%。從產(chǎn)品類別來看，2020年平板顯示產(chǎn)品中OLED占比約為29．3%，預(yù)計(jì)2022年將提升到33．9%。目前國(guó)內(nèi)平板顯示產(chǎn)能全球領(lǐng)先，預(yù)計(jì)隨著OLED技術(shù)不斷成熟和產(chǎn)能逐步釋放，預(yù)計(jì)未來將持續(xù)滲透，驅(qū)動(dòng)濺射靶材市場(chǎng)空間增長(zhǎng)。濺射靶材是制備集成電路的核心材料之一。有相關(guān)資料顯示，濺射靶材在晶圓制造材料和封裝測(cè)試材料中，市場(chǎng)分別占比為2．6%和2．7%。2021年是中國(guó)十四五開局之年，在國(guó)內(nèi)宏觀經(jīng)濟(jì)運(yùn)行良好的驅(qū)動(dòng)下，國(guó)內(nèi)集成電路產(chǎn)業(yè)繼續(xù)保持快速、平穩(wěn)增長(zhǎng)態(tài)勢(shì)，2021年中國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)首次突破萬億元。中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)統(tǒng)計(jì)，2021年中國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)銷售額為10458．3億元，同比增長(zhǎng)18．2%。隨著下游市場(chǎng)不斷發(fā)展，帶動(dòng)國(guó)內(nèi)集成電路材料需求持續(xù)提升。有數(shù)據(jù)顯示，2021年國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體材料市場(chǎng)規(guī)模達(dá)到650億元，預(yù)計(jì)2022年將增長(zhǎng)至665億元。而隨著國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體材料市場(chǎng)的進(jìn)一步增長(zhǎng)，濺射靶材需求將隨之繼續(xù)拉升，維系成長(zhǎng)。濺射靶材可用于薄膜太陽能電池的制備中。據(jù)了解，和傳統(tǒng)的晶體硅太陽能電池相比，薄膜太陽能電池大大減少了材料用量，從而大幅降低制造成本和產(chǎn)品價(jià)格，同時(shí)，薄膜太陽能電池還具有制造溫度低、應(yīng)用范圍大等特點(diǎn)，從市場(chǎng)前景來看，薄膜太陽能電池在光伏建筑一體化、大規(guī)模低成本發(fā)電站建設(shè)等方面比傳統(tǒng)的晶體硅太陽能電池具有更加廣闊的市場(chǎng)空間。由此隨著碳中和、碳達(dá)峰目標(biāo)的提出，光伏裝機(jī)量提升確定性強(qiáng)，光伏用濺射靶材市場(chǎng)將穩(wěn)步增長(zhǎng)。近年來隨著國(guó)內(nèi)光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅速，光伏電池規(guī)?？焖僭鲩L(zhǎng)。數(shù)據(jù)顯示，2021年我國(guó)光伏發(fā)電累計(jì)裝機(jī)容量為30656萬千瓦，較上年同比增長(zhǎng)21%，新增裝機(jī)容量為5493萬千瓦，較上年同比增長(zhǎng)14%；2022年1-6月我國(guó)光伏發(fā)電累計(jì)裝機(jī)容量為33677萬千瓦，較上年同比增長(zhǎng)25．8%，新增裝機(jī)容量為3088萬千瓦，較上年同比增長(zhǎng)137．4%。隨著全球經(jīng)濟(jì)的快速發(fā)展及相關(guān)技術(shù)創(chuàng)新的推動(dòng)下，近年來全球?yàn)R射靶材行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模穩(wěn)步增長(zhǎng)。據(jù)資料顯示，2021年全球?yàn)R射靶材行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模為213億美元，同比增長(zhǎng)8．7%。得益于政策利好以及在技術(shù)創(chuàng)新推動(dòng)下芯片、光伏高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)需求不斷釋放，我國(guó)濺射靶材行業(yè)規(guī)模不斷擴(kuò)大。據(jù)資料顯示，2021年我國(guó)建設(shè)靶材行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模為375．8億元，同比增長(zhǎng)11．5%。濺射靶材上游分析2021年國(guó)內(nèi)共生產(chǎn)高純鋁14．6萬噸，同比增長(zhǎng)9．77%，根據(jù)數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)，2016年中國(guó)的高純鋁產(chǎn)量為11．8萬噸，2020年增至13．3萬噸，年均復(fù)合增長(zhǎng)率為3．0%。2021年全球經(jīng)濟(jì)復(fù)蘇疊加新能源汽車需求爆發(fā)，下游需求旺盛，高純鋁產(chǎn)量再創(chuàng)新高。預(yù)計(jì)2022年高純鋁產(chǎn)量將繼續(xù)保持增長(zhǎng)，將達(dá)15．4萬噸。以純銅或銅合金制成各種形狀包括棒、線、板、帶、條、管、箔等統(tǒng)稱銅材。近年來中國(guó)銅材產(chǎn)量整體保持增長(zhǎng)趨勢(shì)，2022年9月中國(guó)銅材產(chǎn)量222．1萬噸，同比增長(zhǎng)9．5%；1-9月累計(jì)產(chǎn)量1636．6萬噸，同比下降0．5%。濺射靶材發(fā)展趨勢(shì)近年來我國(guó)對(duì)濺射靶材行業(yè)重視程度不斷提升，各類政策出臺(tái)推動(dòng)行業(yè)積極發(fā)展，明確對(duì)于國(guó)內(nèi)靶材企業(yè)進(jìn)口國(guó)內(nèi)不能生產(chǎn)、性能不滿足需求的自用生產(chǎn)性原材料及消耗品免征進(jìn)口關(guān)稅。在國(guó)內(nèi)良好的政策環(huán)境和各細(xì)分市場(chǎng)廣闊的市場(chǎng)空間下，國(guó)內(nèi)濺射靶材企業(yè)市占率提升空間大，機(jī)會(huì)逐步開啟。此外高性能濺射靶材是顯示面板、半導(dǎo)體、太陽能電池、記錄媒體不可缺少的原材料，進(jìn)而廣泛應(yīng)用于消費(fèi)電子、智能家電、通信照明、光伏、計(jì)算機(jī)、工業(yè)控制、汽車電子等多個(gè)下游應(yīng)用領(lǐng)域。我國(guó)是全球最大的消費(fèi)電子產(chǎn)品生產(chǎn)國(guó)、出口國(guó)和消費(fèi)國(guó)，也是全球最大的集成電路半導(dǎo)體消費(fèi)國(guó)和進(jìn)口國(guó)，在最終下游眾多生產(chǎn)及消費(fèi)領(lǐng)域的需求驅(qū)動(dòng)了我國(guó)高性能濺射靶材行業(yè)快速增長(zhǎng)。因此，未來高性能濺射靶材行業(yè)高速成長(zhǎng)的確定性較高，基本不會(huì)受到偶發(fā)性或突發(fā)性因素影響。隨著全球平面顯示、半導(dǎo)體、太陽能電池、記錄存儲(chǔ)等行業(yè)生產(chǎn)規(guī)模持續(xù)擴(kuò)張，直接帶動(dòng)了高性能濺射靶材行業(yè)的發(fā)展，使得中國(guó)國(guó)內(nèi)濺射靶材使用量快速增長(zhǎng)，給國(guó)內(nèi)濺射靶材廠商帶來良好的發(fā)展機(jī)遇。濺射靶材指采用物理氣相沉積技術(shù)在基材上制備薄膜的原材料，靶材是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料，更換不同的靶材可以得到不同的薄膜。濺射靶材是PVD（物理氣相沉積）領(lǐng)域內(nèi)應(yīng)用量最大的鍍膜材料。濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，它利用荷能粒子（通常是離子），在真空中經(jīng)過加速聚集，而形成高速度能的粒子束流，轟擊固體表面，粒子和固體表面原子發(fā)生動(dòng)能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基板表面，被轟擊的固體即為濺射靶材。濺射靶材的種類較多，即使相同材質(zhì)的濺射靶材也有不同的規(guī)格。按照不同的分類方法，可將濺射靶材分為不同的類別。濺射技術(shù)作為薄膜材料制備的主流工藝，其應(yīng)用領(lǐng)域廣泛，如平面顯示、集成電路半導(dǎo)體、太陽能電池、信息存儲(chǔ)、工具改性、光學(xué)鍍膜、電子器件、高檔裝飾用品等行業(yè)。濺射靶材產(chǎn)業(yè)集中度高、技術(shù)門檻高、設(shè)備投資大，具有規(guī)?；a(chǎn)能力的企業(yè)數(shù)量相對(duì)較少，國(guó)內(nèi)高性能濺射靶材市場(chǎng)尚處于發(fā)展初期，具有規(guī)?；a(chǎn)能力和較強(qiáng)研發(fā)能力的廠商數(shù)量仍然偏少，隨著全球分工及產(chǎn)業(yè)鏈轉(zhuǎn)移，國(guó)內(nèi)廠商正處于對(duì)國(guó)際廠商的加速替代過程中，已有如江豐電子、阿石創(chuàng)、有研新材、隆華科技、先導(dǎo)薄膜、歐萊新材以及映日科技等公司掌握了高性能濺射靶材研發(fā)及生產(chǎn)環(huán)節(jié)的相關(guān)技術(shù)并可以進(jìn)行批量生產(chǎn)。20世紀(jì)90年代以來，隨著消費(fèi)電子等終端應(yīng)用市場(chǎng)的高速發(fā)展，濺射靶材的市場(chǎng)規(guī)模日益擴(kuò)大，呈現(xiàn)高速增長(zhǎng)的勢(shì)頭。受到發(fā)展歷史及技術(shù)限制的影響，我國(guó)濺射靶材行業(yè)起步較晚，目前多數(shù)濺射靶材企業(yè)產(chǎn)品仍主要應(yīng)用于下游的中低端產(chǎn)品，高端濺射靶材產(chǎn)品則多為國(guó)外進(jìn)口。我國(guó)高性能濺射靶材行業(yè)在國(guó)家戰(zhàn)略政策支持以及下游眾多應(yīng)用領(lǐng)域需求的支撐下，行業(yè)技術(shù)不斷突破，產(chǎn)品性能不斷提升，帶動(dòng)高性能濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模不斷擴(kuò)大。濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈中國(guó)濺射靶材上游為各種原材料，包括金屬、合金、陶瓷化合物；中游主要為靶材制造、濺射鍍膜；下游廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片、平面顯示、信息存儲(chǔ)、太陽能電池、智能玻璃等。中國(guó)濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈上游金屬上市企業(yè)包括新疆眾和、天山鋁業(yè)、銅陵有色、安寧股份、中環(huán)股份等，合金企業(yè)包括江贛鋒鋰業(yè)、興業(yè)礦業(yè)、浙富控股、廈門鉤業(yè)、寒銳鉆業(yè)等。中游的濺射靶材企業(yè)主要為日礦金屬、霍尼韋爾、東曹、普萊克斯、有研新材、金鉬股份、新疆眾和、隆華科技、江豐電子、康達(dá)新材、阿石創(chuàng)、超卓航科等。下游集成電路企業(yè)包括中芯國(guó)際、長(zhǎng)電科技、韋爾股份、通富微電、華天科技等，太陽能電池企業(yè)包括通威股份、隆基綠能、天合光能、晶科能源、TCL中環(huán)等。記錄媒體靶材應(yīng)用場(chǎng)景數(shù)據(jù)存儲(chǔ)可分為光存儲(chǔ)、磁存儲(chǔ)與半導(dǎo)體存儲(chǔ)，近年來半導(dǎo)體存儲(chǔ)發(fā)展迅速。從數(shù)據(jù)存儲(chǔ)量來看，目前磁記錄仍然占據(jù)主導(dǎo)記錄。按記錄媒體的機(jī)械形狀和驅(qū)動(dòng)方式的不同，磁記錄可分為磁鼓、磁帶（錄音機(jī)、錄像機(jī)、數(shù)據(jù)記錄）、磁盤（硬盤、軟盤）、磁卡等，其中，高密度硬盤領(lǐng)域的磁性薄膜幾乎都是以濺射法制作的，這些磁記錄薄膜材料有很高的記錄密度。因此也要求濺射靶材具有高純度、低氣體含量、細(xì)晶微結(jié)構(gòu)、均勻的金相、高磁穿透和使用率、優(yōu)異的電性與機(jī)械特性等特點(diǎn)。磁記錄靶材常用材料為鈷（3N）/鎳/鐵合金/鉻/碲、硒（4N）/稀土-遷移金屬（3N）等，主要包括鉻靶、鎳靶、鈷靶。濺射靶材種類和規(guī)格按材質(zhì)可分為金屬靶材（純金屬鋁、鈦、銅、鉭等）、合金靶材（鎳鉻合金、鎳鈷合金等）、陶瓷化合物靶材（氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等）。按下游終端應(yīng)用可分為半導(dǎo)體靶材、平板顯示靶材、太陽能電池靶材、記錄存儲(chǔ)靶材等，四大板塊約合占比97%。按形狀分類可分為長(zhǎng)靶、方靶、圓靶和管靶。其中常見的靶材多為方靶、圓靶，均為實(shí)心靶材。近年來，空心圓管型濺射靶材由于具有較高的回收利用率，也在國(guó)內(nèi)外得到了一定推廣。在鍍膜作業(yè)中，圓環(huán)形的永磁體在靶材的表面產(chǎn)生的磁場(chǎng)為環(huán)形，會(huì)發(fā)生不均勻沖蝕現(xiàn)象，濺射的薄膜厚度均勻性不佳，靶材的使用效率大約只有20%