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TEM最新進展及發(fā)展趨勢主要內(nèi)容TEM發(fā)展概述TEM的最新發(fā)展TEM的發(fā)展趨勢

TEM的發(fā)展概述第一臺TEM由馬克斯·克諾爾和恩斯特·魯斯卡1931年研制，這個研究組于1933年研制了第一臺分辨率超過可見光的TEM，分辨率大約是50nm。我國電鏡研制起步較遲，1958年在長春中國科學(xué)院光學(xué)精密機械研究所生產(chǎn)了第一臺中型電鏡，到1977年生產(chǎn)的TEM分辨率為0.3nm的80萬倍的。TEM的最新發(fā)展功能完善超高壓TEM分辨本領(lǐng)高—在原子水平上直接觀察厚試樣三維結(jié)構(gòu)；試樣穿透能力強(1MV時約為100kV的3倍)；JEM-ARM1250／1000型超高壓原子分辨率電鏡點分辨本領(lǐng)已達0.1nm；日立公司3MV超高壓透射電鏡分辨本領(lǐng)為0.14nm；中等電壓200kV\300kVTEM：采用球差系數(shù)更小的物鏡和場發(fā)射電子槍；穿透能力分別為100kV的1.6和2.2倍；國際上常規(guī)200kVTEM的點分辨本領(lǐng)為0.2nm左右，放大倍數(shù)約為50倍～150萬倍；TEM面臨的重大技術(shù)突破—提高分辨率減小物鏡球差：80年代末期物鏡的球差降低到0.5mm。1990年，Rose提出由兩個六極校正器和四個電磁透鏡組鏡球差減小到0.05mm，因此電鏡分辨率0.24nm提高到優(yōu)于0.14nm；FEG-STEM的新型的球差校正器，球差系數(shù)Cs由3.5mm降低到0.1mm以下；STEM暗場像的分辨率提高到0.1nm。2提高自動化程度，簡化操作真空操作樣品更換及驅(qū)動，照相記錄，電鏡工作模式變換等復(fù)雜的工作均只需要一個啟動命令就能自動完成，尤其是引入電子計算機之后，使操作進一步自動化，而且還可以對圖像或譜線進行處理。

3向分析式電鏡發(fā)展電子顯微鏡把人們引入了千變?nèi)f化的微觀世界，使我們能在原子量級上來研究物質(zhì)的微觀結(jié)構(gòu)。4場發(fā)射槍透射電鏡場發(fā)射電子槍具有亮度高，交叉斑小，電子能量分散小及相干性好等優(yōu)點，正在日益受到重視。對透射電鏡開展微區(qū)衍射和微區(qū)分

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