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第十五章井田開拓方式第八節(jié)
井筒和工業(yè)場地保護煤柱留設(shè)一、巖層移動角井下保護煤柱邊界由巖層移動角來決定,移動角是從地表移動觀測成果中,根據(jù)對建筑物有害的臨界變形值確定的分基巖移動角和松散層移動角,后者與煤層傾角無關(guān)。相對于井下采空區(qū),基巖沿走向方向的移動角、上山方向的移動角γ,后者與煤層傾角β無關(guān)。如圖15-33所示一、巖層移動角
二、井筒和工業(yè)場地建筑物受保護面積
①工業(yè)場地內(nèi)建筑物的外邊界與煤層走向平行或正交,在建筑物外邊加維護帶,得到的受保護面積如圖15-34(a)②工業(yè)場地內(nèi)建筑物的外邊界與煤層走向斜交,通過建筑物外邊界的4個角點,作與煤層走向和傾向平行的直線各兩條,形成過4個角點的矩形,再增設(shè)維護帶,得到受保護面積如圖15-34(b)。③工業(yè)場地內(nèi)有多種建筑物,且延伸方向互不平行,過建筑物群的最外邊界角點,與煤層走向和傾向平行的直線各兩條,形成受保護工業(yè)場地矩形,再增設(shè)維護帶,受到保護面積如圖15-34(c)。二、井筒和工業(yè)場地建筑物受保護面積
三、垂直剖面法留設(shè)井筒和工業(yè)場地保護煤柱垂直剖面法是作圖法,作沿煤層走向和傾向的剖面,在剖面圖上由移動角確定煤柱寬度,并投影到平面圖上,得到保護煤柱邊界。以圖15-35為例,說明用垂直剖面法留設(shè)井筒和工業(yè)場地保護煤柱的步驟,圖中的煤層底板等高線標高是為了說明該方法所加的。①在煤層底板等高線圖上,過要保護的工業(yè)場地建筑物或建筑物群最外角點,分別作平行于煤層走向和傾向的各兩條直線,交a’、b’、c’和d’,形成矩形。二、井筒和工業(yè)場地建筑物受保護面積
三、垂直剖面法留設(shè)井筒和工業(yè)場地保護煤柱
剖面上,過m1和n1兩點按下山移動角β和上山移動角γ畫直線與煤層交于n2和m2。在Ⅱ—Ⅱ剖面上,過q1和k1點按走向移動角δ畫直線,與煤層相交于n2線同標高的q2和k2,與m2同標高的q3和k3。⑥將m2和n2及q2、q3、k2、和k3投影到煤層底板等高線圖上,得A、B、C、D4點,連接A、B、C和D,即得平面圖上的保護煤柱邊界。三、垂直剖面法留設(shè)井筒和工業(yè)場地保護煤柱
三、垂直剖面法留設(shè)井筒和工業(yè)場地保護煤柱
如圖15-36,為了提高精度,在沿煤層傾向的剖面上,垂直剖面法所留的保護煤柱尺寸還
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