DB1310T 227-2020電子專用材料單晶硅生長用石英坩堝工藝技術(shù)規(guī)范

ICS31.030L90廊DB1310坊市地方標(biāo)準(zhǔn)DB/T227—2020廊坊市市場監(jiān)督管理局發(fā)布IDB1310/T227—2020前言本標(biāo)準(zhǔn)按照GB/T1.1—2009給出的規(guī)則起草。本標(biāo)準(zhǔn)由大廠回族自治縣市場監(jiān)督管理局提出。本標(biāo)準(zhǔn)起草單位：廊坊赫爾勞斯太陽能光伏有限公司。本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：賈建亮、黃永恩、賈建恩、孫艷、關(guān)海華、李繼東。1DB1310/T227—2020電子專用材料單晶硅生長用石英坩堝工藝技術(shù)規(guī)范1范圍本文件規(guī)定了電子專用材料單晶硅生長用石英坩堝的術(shù)語和定義、從業(yè)人員、設(shè)備、原輔材料、工藝過程、環(huán)境要求和管理要求。本文件適用于電子專用材料單晶硅生長用石英坩堝工藝技術(shù)。2規(guī)范性引用文件下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的。凡是注日期的引用文件，僅所注日期的版本適用于本文件。凡是不注日期的引用文件，其最新版本(包括所有的修改單)適用于本文件。GB8978污水綜合排放標(biāo)準(zhǔn)GB12348工業(yè)企業(yè)廠界環(huán)境噪聲排放標(biāo)準(zhǔn)GB16297大氣污染物綜合排放標(biāo)準(zhǔn)GB18597危險(xiǎn)廢物貯存污染控制標(biāo)準(zhǔn)GB18599一般工業(yè)固體廢物貯存、處置場污染控制標(biāo)準(zhǔn)GB50034建筑照明設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)GB50073潔凈廠房設(shè)計(jì)規(guī)范GBZ2.1工作場所有害因素職業(yè)接觸限值(第一部分化學(xué)有害因素)GBZ188職業(yè)健康監(jiān)護(hù)技術(shù)規(guī)范GBZ/T189.8工作場所物理因素測量第8部分：噪聲3術(shù)語和定義下列術(shù)語和定義適用于本文件。3.1電弧熔制arcfusion利用高溫電弧熔融石英砂原料的過程3.2涂層coating在石英坩堝內(nèi)壁或外壁涂覆特種材料的過程。4從業(yè)人員4.1職業(yè)健康2DB1310/T227—2020應(yīng)按照GBZ188的要求，對(duì)從業(yè)人員進(jìn)行崗前、崗中、離崗職業(yè)健康體檢，同時(shí)配備符合要求的個(gè)體防護(hù)用品，保證從業(yè)人員符合職業(yè)健康安全管理要求。4.2崗位技能從業(yè)人員應(yīng)通過三級(jí)安全教育、崗位技能培訓(xùn)，經(jīng)考核合格后方可上崗。5設(shè)備5.1熔制設(shè)備應(yīng)具有電極開閉、升降、旋轉(zhuǎn)、冷卻、弧變、除塵等裝置。5.2外表面處理設(shè)備應(yīng)具有噴砂、研磨等功能。5.3切邊倒棱設(shè)備應(yīng)具有對(duì)中、切制、內(nèi)倒角、外倒角等功能。5.4純水清洗設(shè)備5.4.1手動(dòng)純水清洗設(shè)備應(yīng)具有純水沖洗等裝置。5.4.2自動(dòng)純水清洗設(shè)備應(yīng)具有產(chǎn)品自動(dòng)化傳輸、純水自動(dòng)沖洗等裝置。5.5涂層設(shè)備應(yīng)具有加熱、旋轉(zhuǎn)、噴霧、冷卻專用涂層等裝置。6原輔材料6.1石英砂石英砂雜質(zhì)元素含量應(yīng)符合表1的規(guī)定。3DB1310/T227—2020表1石英砂雜質(zhì)元素含量位置元素名稱鈣Ca鎂Mg鋇Ba鉻Cr銅Cu鐵Fe鎳Ni錳Mn鋰Li鈉Na鉀K鋯Zr鈦Ti鍺Ge磷P硼B(yǎng)內(nèi)層113.520.10.10.10.10.50.10.10.80.80.80.52.02.00.10.1內(nèi)層27.70.80.050000.2000.10.20.100.70<0.1外層16.020.10.10.10.10.50.10.10000.52.02.00.10.1注1：鋰、鈉、鉀3種元素之和≤2.0。注2：雜質(zhì)元素含量小于或等于表中所示值。6.2石墨電極應(yīng)符合以下要求：a)體積密度：≥1.65g/cm3；b)電阻率：≤8.5μΩ?m；c)灰分：≤50μg/g；d)抗壓強(qiáng)度:≥35MPa；e)抗折強(qiáng)度：≥15MPa。6.3涂層原料6.3.1涂層原料試劑純度≥99.99%。6.4純水7工藝過程7.1熔制7.1.1上料成型利用離心力和成型裝置，將石英砂原料在旋轉(zhuǎn)的坩堝模具內(nèi)形成一定的形狀和厚度。7.1.2堝坯電弧熔制以高溫電弧為熱源，對(duì)坩堝模具內(nèi)的石英砂原料進(jìn)行高溫熔制。7.2外表面處理4DB1310/T227—2020坩堝端口朝下放置于作業(yè)平臺(tái)，利用研磨設(shè)備或各類噴砂設(shè)備去除坩堝外表面未完全熔融的石英砂。7.3切邊倒棱利用切邊倒棱設(shè)備的對(duì)中裝置對(duì)坩堝進(jìn)行校正后，按高度要求用切斷裝置對(duì)坩堝進(jìn)行切斷，再利用內(nèi)、外倒角裝置，按要求對(duì)坩堝切斷端面進(jìn)行倒角處理。7.4純水清洗7.4.1手動(dòng)清洗將坩堝浸入盛放純水的浸泡池內(nèi)，規(guī)定時(shí)間內(nèi)取出，對(duì)坩堝內(nèi)、外表面及端口進(jìn)行純水清洗。7.4.2自動(dòng)清洗將坩堝放置于自動(dòng)進(jìn)料傳輸平臺(tái)，按相應(yīng)工藝參數(shù)對(duì)設(shè)備進(jìn)行設(shè)置，然后對(duì)坩堝內(nèi)、外表面及端口進(jìn)行純水清洗。7.5涂層7.5.1手動(dòng)涂層人工利用手動(dòng)涂層裝置將配比好的特種材料涂覆在坩堝內(nèi)表面和(或)外表面上。7.5.2自動(dòng)涂層按相應(yīng)工藝參數(shù)對(duì)設(shè)備進(jìn)行設(shè)置，自動(dòng)將配比好的特種材料涂覆在坩堝內(nèi)表面和(或)外表面上。8環(huán)境要求8.1總則企業(yè)應(yīng)為員工提供適宜的作業(yè)環(huán)境，作業(yè)場所的潔凈度、溫度、濕度、照度、通風(fēng)換氣、作業(yè)場所噪聲、粉塵、廢棄物排放應(yīng)在適宜的范圍內(nèi)。8.2潔凈度、溫度和濕度應(yīng)符合表2的規(guī)定。表2各工序工作潔凈度、溫度和濕度范圍工序名稱空氣潔凈要求溫度/℃相對(duì)濕度RH/%堝坯電弧熔制16~3810~60外表面處理新風(fēng)初效處理16~3310~80切邊倒棱新風(fēng)初效處理16~3310~80純水清洗16~3310~60涂層20~3810~505DB1310/T227—20208.3照度照度應(yīng)符合GB50034的規(guī)定。8.4通風(fēng)換氣作業(yè)場所應(yīng)通風(fēng)良好，設(shè)置適宜的局部排風(fēng)除塵設(shè)施和新風(fēng)補(bǔ)償設(shè)施，應(yīng)保證每人不小于20m3/h的新風(fēng)量。8.5作業(yè)場所噪聲作業(yè)場所噪聲應(yīng)符合GBZ/T189.8的規(guī)定.8.6粉塵粉塵應(yīng)符合GBZ2.1的規(guī)定.8.7廢棄物排放8.7.1廢水廢水經(jīng)過處理后的排放標(biāo)準(zhǔn)應(yīng)符合GB8978及相應(yīng)的地方法律法規(guī)的規(guī)定。8.7.2廢氣廢氣經(jīng)過處理后的排放標(biāo)準(zhǔn)應(yīng)符合GB16297及相應(yīng)的地方法律法規(guī)的規(guī)定。8.7.3廠界噪聲廠界噪聲應(yīng)符合GB12348及相應(yīng)的地方法律法規(guī)的規(guī)定.8.7.4固體廢物固體廢物的收集、處置應(yīng)符合GB18599及相應(yīng)的地方法律法規(guī)的規(guī)定。8.7.5危險(xiǎn)廢物危險(xiǎn)廢物的處置應(yīng)符合GB18597及相應(yīng)的地方法律法規(guī)的規(guī)定。9管理要求9.1作業(yè)現(xiàn)場應(yīng)建立管理制度，設(shè)置人員專用安全通道，明確提示、禁止標(biāo)識(shí)。9.2作業(yè)現(xiàn)場的設(shè)備及器