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本文格式為Word版,下載可任意編輯——福州大學(xué)集成電路幅員設(shè)計(jì)試驗(yàn)報(bào)告《集成電路幅員設(shè)計(jì)》實(shí)踐報(bào)告
福州大學(xué)物信學(xué)院
《集成電路幅員設(shè)計(jì)》試驗(yàn)報(bào)告
姓名:席高照學(xué)號(hào):111000833系別:物理與信息工程專業(yè):微電子學(xué)年級(jí):2023指導(dǎo)老師:江浩
1
《集成電路幅員設(shè)計(jì)》實(shí)踐報(bào)告
一、試驗(yàn)?zāi)康?/p>
1.2.3.4.5.6.
把握幅員設(shè)計(jì)的基本理論。把握幅員設(shè)計(jì)的常用技巧。
把握定制集成電路的設(shè)計(jì)方法和流程。
熟悉CadenceVirtuosoLayoutEdit軟件的應(yīng)用
學(xué)會(huì)用Cadence軟件設(shè)計(jì)幅員、幅員的驗(yàn)證以及后仿真
熟悉Cadence軟件和幅員設(shè)計(jì)流程,減少幅員設(shè)計(jì)過程中出現(xiàn)的錯(cuò)誤。
二、試驗(yàn)要求
1.根據(jù)所提供的反相器電路和CMOS放大器的電路依據(jù)幅員設(shè)計(jì)的規(guī)則繪制電路的幅員,同時(shí)注意CMOS查分放大器電路的對稱性以及電流密度(通過該電路的電流可能會(huì)達(dá)到5mA)2.所設(shè)計(jì)的幅員要通過DRC、LVS檢測
三、有關(guān)于幅員設(shè)計(jì)的基礎(chǔ)知識(shí)
首先,設(shè)計(jì)幅員的基礎(chǔ)便是電路的基本原理,以及電路的工作特性,硅加工工藝的基礎(chǔ)、
以及通用幅員的設(shè)計(jì)流程,之后要根據(jù)不同的工藝對應(yīng)不同的設(shè)計(jì)規(guī)則,一般來說通用的幅員設(shè)計(jì)流程為①制定幅員規(guī)劃記住要制定可能會(huì)被遺忘的特別要求清單②設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)考慮特別要求及如何布線創(chuàng)立組元并對其進(jìn)行布局③幅員驗(yàn)證執(zhí)行基于計(jì)算機(jī)的檢查和目視檢查,進(jìn)行校正工作④最終步驟工程核查以及幅員核查幅員參數(shù)提取與后仿真完成這些之后需要特別注意的是寄生參數(shù)噪聲以及布局等的影響,具體是電路而定,在下面的試驗(yàn)步驟中會(huì)表達(dá)到這一點(diǎn)。
四、試驗(yàn)步驟
I.反相器部分:
反相器原理圖:
2
《集成電路幅員設(shè)計(jì)》實(shí)踐報(bào)告
反相器的基本原理:CMOS反相器由PMOS和NMOS構(gòu)成,當(dāng)輸入高電平日,NMOS導(dǎo)通,輸出低電平,當(dāng)輸入低電平日,PMOS導(dǎo)通,輸出高電平。
本卷須知:
(1)畫成插齒形狀,增大了寬長比,可以提高電路速度
(2)盡可能使幅員面積最小。面積越小,速度越高,功耗越小。
(3)盡可能減少寄生電容和寄生電阻。盡可能增加接觸孔的數(shù)目可以減小接觸電阻。(4)盡可能減少串?dāng)_,電荷共享。做好信號(hào)隔離。反相器的幅員:原理圖電路設(shè)計(jì):
整體幅員:
3
《集成電路幅員設(shè)計(jì)》實(shí)踐報(bào)告
DRC檢測:
4
《集成電路幅員設(shè)計(jì)》實(shí)踐報(bào)告
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LVS檢測:
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《集成電路幅員設(shè)計(jì)》實(shí)踐報(bào)告
II.CMOS差分放大器部分:
CMOS差分放大器的原理圖:
在該電路中,M1、M2為有源負(fù)載,M3、M4為電流源,M5為電流源器件。①線寬、電流分析:
該電路為CMOS差分共源放大器,電路所需要的最大電流為5mA,根據(jù)典型工藝電流密度得出連線的寬度為5um。其中電源、地和偏置為大電流路徑,輸入端為小電流路徑,因此輸入線寬為2um,電源、地線寬為10um。對于大電流路徑可以讓電流源從頂端流入以分散電流,并有效降低電阻。
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《集成電路幅員設(shè)計(jì)》實(shí)踐報(bào)告
③匹配規(guī)則分析:
在設(shè)計(jì)幅員的過程中,應(yīng)當(dāng)把匹配器件相互靠近放置,使期間保持同一方向,并選擇一個(gè)中間值作為根部件。由于該電路是差分放大電路,因此應(yīng)使得差分布線一致并盡量使得每一個(gè)器件對稱。
在本次幅員設(shè)計(jì)中使用的器件寬度較大,對于M3、M4L=1uW=100u
并將每個(gè)器件分成9塊每一個(gè)的W為11.11u,以使得電路的對稱性較好,同時(shí)對于電流鏡M3與M4,采用共心—四方交織的匹配方式,使其對稱性更好:
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在畫幅員的過程中還應(yīng)當(dāng)注意差分布線的一致性,以便提高電路的對稱性
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《集成電路幅員設(shè)計(jì)》實(shí)踐報(bào)告
④器件布局及其他本卷須知:
根據(jù)對稱性的要求,將電流源M5進(jìn)行器件分割,M3、M4采用共心交織匹配法,得到整個(gè)幅員器件布局圖:
在PMOS器件上需要添加N阱接觸,而對于NMOS則應(yīng)添加襯底接觸,并且在添加N阱襯底時(shí)可將PMOS與NMOS包圍,以保證襯底很好的接地并且具有一定的隔離作用
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⑤幅員的設(shè)計(jì)流程:⒈原理圖的設(shè)計(jì):
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⒉整體幅員:
⒊DRC檢測:
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⒋LVS檢測:
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五、實(shí)踐心得體會(huì)
通過本次幅員設(shè)計(jì)實(shí)踐,我學(xué)會(huì)了把握幅員設(shè)計(jì)的基本理論與操作流程,把握了幅員設(shè)計(jì)的基本技巧以及本卷須知,同時(shí)熟悉了IC5141的使用以及對幅員的檢查與仿真。
這次實(shí)踐也遇到了挺大的困難,以前有做過類似的實(shí)踐(數(shù)字集成電路課程設(shè)計(jì))其中有幅員這一塊,但是在上次課設(shè)的中,這不是十分重要的一環(huán),所以老師講解的也不是很詳細(xì),導(dǎo)致剛開始有點(diǎn)輕視,后來經(jīng)過虛心的請教以及認(rèn)真的溫習(xí)與聽講終究趕上了進(jìn)度。本次實(shí)踐我的收獲還是比較大的,初始設(shè)計(jì)出幅員的時(shí)候錯(cuò)誤十分多,違反設(shè)計(jì)規(guī)則的也有好多內(nèi)容,修改的過程也是頭痛不已,但是當(dāng)所有問題解決之后,心里有一種成就感。
幅員設(shè)計(jì)的要點(diǎn)在于,在設(shè)計(jì)幅員之前一定要對電路的原理進(jìn)行分析,通過期間所通過的電
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