基于過程管理的中國專利質量影響因素分析

基于過程管理的中國專利質量影響因素分析

1引言自1985年《中華人民共和國專利法》實施以來，我國專利申請和授權數(shù)量取得了突飛猛進的增長?！笆晃濉逼陂g，我國專利申請增速年平均達到20％以上。2011年，我國包括發(fā)明、實用新型、外觀設計在內的專利申請量已經突破160萬件，發(fā)明專利申請量已經躍居世界第一位。僅從數(shù)量上來看，我國已經成為專利大國。然而，在專利數(shù)量快速增長的同時，我國專利質量發(fā)展狀況卻不容樂觀。據(jù)2009年有效專利統(tǒng)計數(shù)據(jù)顯示，按世界知識產權組織標準設置的35個子技術領域中，有26個技術領域國外專利占據(jù)優(yōu)勢，其中電機、音像技術、等11個技術領域國外有效專利存量比重超過70％(李小麗，2009)[1]。在湯姆森路透和英國知識財產管理雜志2010年聯(lián)合開展的一項針對中、美、歐、日、韓五個國家和地區(qū)的授權專利質量調查中，我國位列末位，與排名第一的歐洲差距較大[2]。當前，國際國內社會有關問題專利的質疑和關注日益升溫，專利質量問題所帶來的負面作用已經有所顯現(xiàn)[3]。因此，全面深入分析影響專利質量的因素，探究制約我國專利質量提升的原因，從而采取有針對性的措施提升中國專利質量，具有重要的現(xiàn)實意義。專利質量問題成為近年學術研究的熱點，中外學者圍繞專利質量影響因素開展了較多研究。其中，國外學者從不同參與主體的角度，從技術本身到審查制度等提出了諸多因素。Barton(2000)[4]、Lemley(2001)[5]認為，技術的發(fā)展和專利授予范圍的擴大，使得大量低質量專利被授權。美國在計算機軟件和商業(yè)方法領域授予了大量專利就是例證，這些領域特點是技術是累進發(fā)展的，新技術與在先技術的特征不明顯，因此大量專利授權的正當性受到質疑。Sampat(2005)[6]認為，專利質量的關鍵在于申請人與審查員對在先技術文獻的檢索和掌握程度。Wagner(2009)[7]認為，導致專利質量低下主要由專利權人、專利局和創(chuàng)新型公司三類主體傾向性因素導致的。Mann和Underweiser(2008)[8]也認為，專利質量是由發(fā)明、申請、審查等諸多環(huán)節(jié)因素共同作用而形成的，但是審查是最重要的環(huán)節(jié)。美國聯(lián)邦貿易委員會(2003)[9]認為是美國專利商標局專利審查政策出了問題導致專利質量下降，并提出了專利審查的“惡性循環(huán)”理論：即認為放松的審查導致更容易的授權，從而吸引更多的申請，導致更少的審查資源用于審查，從而引發(fā)更為放松的審查，使得專利申請越來越多，專利質量卻不斷下降。Lemley&Shapiro(2005)[10]認為，在通信產業(yè)等復雜技術領域，企業(yè)專利策略在于擁有足夠數(shù)量的專利以構筑專利組合，而不在乎獲得一兩個高質量的專利，這是導致專利數(shù)量激增質量卻下降的重要原因。Rassenfosse和Guellec(2009)[11]則系統(tǒng)回顧了有關專利申請動機的研究，發(fā)現(xiàn)除了排他性占有動機以外，獲得許可收益、防止被訴訟、阻撓競爭對手、保持研究自由度以及獲得談判籌碼等策略性因素起著非常重要的作用，而這些戰(zhàn)略性動機對專利質量有著很大的影響。我國學者也分析了造成我國專利質量不高的各種原因。程良友(2006)[12]認為，我國專利質量低主要有三方面的因素：創(chuàng)新水平相對較低，法律法規(guī)政策不完善，審查質量不夠高。但創(chuàng)新水平相對較低是最主要的原因。程良友、湯珊芬(2007)[13]從審查角度出發(fā)，主要從審查授權法律制度、審查質量管理、審查信息化工具、審查員能力、審查國際交流合作五個方面分析了影響我國專利質量的原因。唐衛(wèi)國(2008)[14]相對系統(tǒng)地分析了影響中國專利質量的因素，在國家制度層面，包括研發(fā)經費投入、資助政策、專利轉化保障機制因素；在現(xiàn)行專利法律層面，包括創(chuàng)造性、新穎性判斷標準、無效程序設定因素；在其他方面，包括專利審查局限性、專利衡量方法不統(tǒng)一、社會意識不足等因素。黎運智、孟奇勛(2009)[15]認為，問題專利產生主要包括如下原因：審查員審查力度不夠、查新手段落后、實用新型和外觀設計不做實質性審查以及地方政府專利資助費用與獎勵政策偏頗。方坤富(2008)[16]認為，產生低質量專利的主要原因：一是專利權界定本身缺乏內在固有物質屬性，充滿不確定性；二是專利審查具有有限性，檢索系統(tǒng)和檢索能力等缺陷使得專利審查不可能十全十美；三是實用新型和外觀設計不經過實質審查，授權門檻低；四是申請人追求專利競賽，因策略性因素申請大量專利；五是盲目追求政績的原因。劉曉玉(2010)[17]認為，低質量專利產生的原因包括：申請人代理人水平導致專利申請有缺陷；專利申請數(shù)量大、新興技術快速發(fā)展以及現(xiàn)有技術難以檢索導致的審查過程中存在缺陷；實用新型制度導致專利低質量；國家對專利申請的獎勵資助政策導致低質量專利產生。目前國內外對專利質量影響因素的研究不少，側重點有所不同，國外研究傾向于分析專利審查方面的問題，而國內研究更側重于分析專利申請方面的原因。但總體而言，現(xiàn)有研究還比較零散，即缺乏基本的理論框架，也缺乏全面系統(tǒng)的實證分析。大量研究盡管指出了數(shù)十種影響專利質量的因素，但是主要是基于經驗的判斷，哪些是主要因素、次要因素并不清晰。在未對重點影響因素進行區(qū)分和論證的情況下，現(xiàn)有研究難以提出令人信服有針對性的系統(tǒng)政策措施。由此，本文力圖解決的問題是：影響我國專利質量的主要因素是什么？本文受全面質量理論中過程管理思想的啟發(fā)，擬從不同環(huán)節(jié)不同階段出發(fā)，對現(xiàn)有專利質量影響因素進行挖掘和分類，并通過問卷調查和統(tǒng)計分析方法，論證和歸納影響專利質量的主要環(huán)節(jié)和主要因素，從而為有針對性地提出解決我國專利質量的政策措施奠定基礎。2研究分析框架全面質量管理論認為質量由各個過程構成，其中各部門、各環(huán)節(jié)、各要素互相聯(lián)系、互相制約、互相促進，不斷循環(huán)形成一個有機整體。過程管理是全面質量管理確定的基本原則之一。應用過程管理的思想，將各階段、多組織、多因素提取出來，有助于我們發(fā)現(xiàn)專利質量問題，加強專利質量管理。2.1專利質量的形成過程和階段劃分專利質量是經過專利從發(fā)明創(chuàng)造、申請專利、審查專利以及維持專利這一系列過程而最終形成的。根據(jù)專利從醞釀、形成到權利滅失的全過程，可以用三個時間點將其劃分為4個階段，如圖1所示。三個時間點分別為技術交底日、專利申請日和專利授權日，形成的四個階段分別是發(fā)明創(chuàng)造階段、專利申請階段、專利審查階段和專利維持階段。發(fā)明創(chuàng)造階段是研發(fā)部門創(chuàng)造科研成果并形成技術方案的階段，這一階段完成的標志是研發(fā)部門將技術方案交底書轉移到負責專利申請的部門。專利申請階段是從技術方案形成專利申請文件并正式提交專利審查機構的階段，這一階段以申請人正式提交專利申請文件而結束。專利審查階段是從專利提交申請到專利授權之間的時期，即專利申請日到專利授權日之間的這一段時期。這一階段，是專利審查員與專利申請人(專利代理人)之間就專利保護范圍博弈的階段。專利維持階段是專利授權以后一直到專利權滅失的這段時期，是專利維持、實施和保護的階段。這四個階段順序發(fā)生，專利質量依次經歷這些過程形成和確定。圖1專利質量形成的四個階段2.2各階段影響專利質量的因素在訪談和文獻分析的基礎之上，我們提出各階段影響專利質量的因素主要有29個，涵蓋了從發(fā)明創(chuàng)造到專利維持各個階段，包括技術、法律、經濟方面等多種要素。具體如表1所示。2.3理論框架的建構本文認為，專利質量是在專利授權以后即被確定。因此，前三個階段的影響因素是直接影響因素。其中，發(fā)明創(chuàng)造階段和專利申請階段的影響因素決定了專利申請質量，專利審查階段的影響因素決定了專利審查質量，專利申請質量和專利審查質量相互共同作用，直接決定了專利質量。專利申請質量和專利審查質量任何一個環(huán)節(jié)出現(xiàn)問題，都會導致總體專利質量較低。而專利維持階段的影響因素是間接影響因素，它會對發(fā)明創(chuàng)造、專利申請、專利審查階段產生影響，由此作為外部環(huán)境間接影響專利質量。同時，外部環(huán)境因素與專利質量一起決定了專利價值。本文據(jù)此構建了中國專利質量全過程影響因素理論框架，如圖2所示。圖2中國專利質量全過程影響因素理論框架3問卷調查分析為進一步提取和深入分析影響我國專利質量的主要因素，本文依據(jù)中國質量全過程影響因素理論模型，設計問題，面向專利審查員和專利代理人開展了訪談和問卷調查。3.1調查樣本為保證樣本的代表性和廣泛性，本文向國家知識產權局專利局審查部門以及北京地區(qū)專利代理公司發(fā)放調查問卷360份，共回收有效問卷314份，其中由專利審查員填寫的有236份，由代理人填寫的有78份。問卷回收率87.2％。其中5份問卷中有個別選項漏填，采用平均值法補齊，仍認為有效。對被調查者從事技術領域分布的統(tǒng)計來看，機械、電學和化學領域的被調查者各約占40％、30％和30％，被調查者技術分布比較均勻，保證了調查樣本的可靠性。對被調查者從事專利工作時間的統(tǒng)計表明，被調查者從事專利工作時間主要集中在2－5年，該部分被調查者比例約占總填寫人總數(shù)的65％，其余30％以上的被調查者從事專利行業(yè)時間在6年以上，而從業(yè)1年時間的僅占2.6％。被調查者長時間的專利工作經歷保證了對專利質量問題認識的深入性，增加了問卷調查的可信度。3.2探索性因子分析本文根據(jù)模型設計涉及的29個因素，設計了29個問題，并采用Likert5級量表的方式，進行問卷調查。本文采用SPSS17.0軟件進行數(shù)據(jù)分析。在對原始數(shù)據(jù)進行因子分析時，抽取方法選擇“主成分”方法，抽取原則為特征值＞1，旋轉方法選擇“最大方差法”。KMO檢驗用于檢查變量間的偏相關性，按照Kaiser(1974)指出的判斷標準，0.7以上表示可以接受的，0.7以下因子分析的效果會變差。該量表的KMO值為0.787，大于0.7，表明適合進行因子分析。Bartlett球形檢驗用來檢驗變量間是否具有顯著的相關系數(shù)，顯著的球形檢驗表示相關系數(shù)足以作為因子分析抽取因子之用，Sig＝0.000，小于0.05，說明Bartlett球形檢驗顯著，該量表適合進行因子分析。變量共同度Communalities是表示各變量中所含原始信息能被提取的公因子所表示的程度，絕大部分變量的共同度在60％以上，因此提取公因子對各變量的解釋能力是較強的。碎石圖顯示各因素的重要程度，用于決定抽取因素的個數(shù)，橫軸為因素序號，縱軸表示特征根的大小，它依次排列，從中可以非常直觀地了解到哪些是最主要的因素。對碎石圖進行觀察，第九個因素以后的數(shù)據(jù)明顯呈現(xiàn)出平緩的趨勢(特征根小于1)。故結合圖3，決定提取9個因素，累計可以解釋總體變異的66.55％。本文應用主成分分析法對各因素量表進行處理，通過采用具有Kaiser標準化的正交旋轉法，旋轉在7次迭代后收斂。根據(jù)轉軸后的因素矩陣，以因子載荷＞0.5為標準刪除個別題項，可以看出“專利無效程序剔除低質量專利難”、“專利審查授權標準較低”兩項因素的因子載荷小于0.5，因此將其刪除，剩余27個因子載荷均較高，區(qū)分度明顯。根據(jù)旋轉矩陣結果，將27個影響因素歸為九個主成分，可以分別定義為專利申請動機、專利申請費用、專利維持環(huán)境、專利審查能力、技術能力、專利代理能力、專利撰寫水平、審查質量管理和技術發(fā)展特征九個主成分，該9個主成分解釋專利質量的占比如表2所示。圖3碎石圖本文所用的量表是通過大量的文獻分析、充分的訪談和開放式問卷調查以及專業(yè)人員評判的過程得到的，保證了問卷能夠反映影響專利質量因素的基本情況，具有較高的內容效度。本文采用克朗巴哈Cronbach'a系數(shù)法來估量量表的一致性。本文計算總體信度Cronbach'a值為0.85，遠超過0.5，表明影響因素量表具有良好的內部一致性，具有較好的信度。3.3主要影響因素分析主成分排列次序，以及包含因素的相關系數(shù)反映了各類影響因素的重要性。從中我們可以得出以下主要結論：(1)專利申請動機對我國專利質量影響最大。專利申請動機因素解釋專利質量問題的能力超過20％，為首要主成分，遠超其他成分。當前影響我國專利質量的最主要因素就是申請人專利申請動機不正。專利申請人并非為追求市場利益而提交高質量申請，而是為滿足考核、提高個人待遇、申請高新技術企業(yè)及其他戰(zhàn)略性動機而申請專利，在此動機下專利質量被漠視，這是影響中國專利質量的最大問題。(2)專利申請費用對專利質量有重要影響。專利費用因素解釋專利質量問題的能力接近10％。這些因素即包括費用資助和減免政策的不合理因素，也包括實用新型和外觀設計不經過實質審查的因素。這表明，當前的專利費用減緩和資助政策與實用新型外觀設計不經過實質審查的制度結合起來是影響專利質量的重要因素?？梢怨烙?，不少申請人在獲得專利費用補貼的同時，只申請實用新型、外觀設計專利。一方面不承擔成本；另一方面又基本可以獲得授權，這種做法往往帶來低質量專利。(3)專利維護環(huán)境對專利質量具有顯著影響。維護環(huán)境的影響本是間接的，但這一影響因素占比結果卻高居第三位。排在前兩位的因素為專利維權成本高維權困難(解釋系數(shù)0.850)和專利侵權代價低保護力度弱(解釋系數(shù)0.809)，這顯示出我國專利環(huán)境特別是保護環(huán)境存在很大問題，對專利創(chuàng)造、申請乃至審查環(huán)節(jié)已經產生了很強的負反饋，導致申請人追求專利質量的欲求下降。(4)專利審查因素對專利質量影響不高。分析結果顯示，專利審查能力對解釋專利質量影響的比重列第四位，不到7.5％，而專利審查質量管理的主成分解釋力度更低，不足4％。這顯示出，在當前環(huán)境下，專利審查相關因素并不是制約專利質量提升的主要原因。4結論與政策啟示調查分析顯示，我國專利質量影響因素主要有九個，依次是專利申請動機、專利費用、專利維護環(huán)境、專利審查能力、技術能力、專利代理能力、專利文件撰寫水平、審查質量管理以及技術發(fā)展特征因素。其中專利申請動