素描石膏幾何體

資料二正方體的繪畫過程100414第1步，選擇紙張的大小。通常一兩個物體用8開，多于兩個用4開。正方體用8開。第2步，選擇橫幅還是豎幅構(gòu)圖。對象扁長或近似正方就用橫幅，瘦高則用豎幅。第3步．選角度位置，距對象總高度2.5-3倍距離。觀察總高度與總寬度的比例。第2步，選擇橫幅還是豎幅構(gòu)圖。對象扁長或近似正方就用橫幅，瘦高則用豎幅。第3步．選角度位置，距對象總高度2.5-3倍距離。觀察總高度與總寬度的比例。首先，觀察正方體的ABC點，并確定為基準（注1）。那么高度AB就自然確定下來，設數(shù)值為1。然后，同時看到整個正方體的情況下（注2），在眼中把寬度CE豎起來與高度AB重合進行比較，就可確定寬度相對于高度的數(shù)值，約1.1。最后，為檢驗目測進行筆度。瞇一眼，舉起筆，伸直手，量得AB在筆桿上的長度，再橫著筆桿與CE重合。經(jīng)過比較就可確定高寬比例。也可量得寬度再與高度比較。目測為主，筆度為輔。注1：基準在確定后不能修改。因為，基準前后不一致會導致全盤錯。注2：即“整體觀察”不是日?？词挛飼r眼睛聚焦地看，直到看清晰的用眼方式；而是作畫時有意識地把眼睛焦點散開，同時看到視野中所有事物的用眼方式。雖然使視野模糊，但看到所有東西有利于進行比較。 TOC\o"1-5"\h\z第4步，按構(gòu)圖規(guī)則用輕淡的線條畫出正方體的上下左右 —四點。在第8步前都用輕淡的線條以便修改。構(gòu)圖規(guī)則：正方 | |體在紙上的位置是上部留空少、下部留空多（下部空間多，能 ——托起物體使穩(wěn)定）；左右留空差不多；大小是正方體與背景的面 積比約1：1（不能太大或太?。?。參看圖一。拉線技法：要整個手臂拖動筆桿才能畫直。兩頭尖中間重。第5步，觀察并畫出正方體關鍵點，即最近棱邊的頂點D在平面上確定一點，必須知一點的高、寬。具體觀察過程如下：

B首先，正方體的ABC點已確定為基準（注1）。B然后，同時看到整個正方體的情況下（注2），在眼中將AD與AB作比較以確定D高；在眼中把寬度CD豎起來與AB重合進行比較以確定D寬。知高寬，從而確定D點位置。最后，為檢驗目測結(jié)果。瞇一眼，舉起筆，伸直手，量得AD,與AB重合比較確定D高；量得CD,豎起來與AB重合比較確定D寬。從而確定D點。第6步，從頂點D拉垂直線與最低點B連結(jié)，接著觀察并畫出頂點兩側(cè)的斜線筆比劃，如下圖:跟著延長斜線與兩邊相交，得左上C、右上E頂點。最后從頂點分別拉垂直線下來。DC與DE。在整體觀察下，眼中拉垂直線靠近偏垂直的斜線、拉水平線靠近偏水平

的斜線以形成角度。通過觀察角度，估計筆比劃，如下圖:跟著延長斜線與兩邊相交，得左上C、右上E頂點。最后從頂點分別拉垂直線下來。第7步，余下斜線要比較著同側(cè)已畫斜線DC或DE來畫，如BH、EA比較著DC來畫；CA、BF比較著DE畫。需同時看到三條斜線以便比較。并用透視規(guī)律來檢查?；就敢曇?guī)律：近大遠小成角透視 平行透視成角透視 平行透視注意，由于同一側(cè)四條斜線聚攏消失于消失點，所以斜度都不同。如下圖:最上頂點A。最上頂點A。最后，把看不見的結(jié)構(gòu)線畫出來，方法同上。第8步，形準后，用肯定有力的線條處理虛實，即輪廓的清晰度?；疽?guī)律：線條近實遠虛、上實下虛，亮部的比暗部的虛，不可見的比可見的虛?！韵率敲靼诞嫹?。首先要掌握排線技法。排線運筆要點：懸空執(zhí)筆，筆桿與排線走向成直角，以腕肘甚至肩為支點擺動筆桿，平穩(wěn)拖動支點即可排出整齊細密的排線。另外，起筆收筆要輕，使兩頭尖中間重。排線其它要點：不時轉(zhuǎn)動筆桿，使筆尖轉(zhuǎn)到尖角處以保持排線清晰；重疊排線,錯開20度角即可；為不弄糊輪廓線，從其邊緣往外排線；初學者用4B,不宜用6B。不要用手或紙擦抹，會使畫面變油膩（使畫面如鏡面反射的毛?。┑?步，畫明暗交界線與投影線，要處理虛實。投影線透視如下：第10步，用4B在背光面均勻排一層排線，形成基本明暗兩大面。再次檢査形。第11步，在背光面再次均勻排一層排線，并延伸到背景、臺面。第10步，用4B在背光面均勻排一層排線，形成基本明暗兩大面。再次檢査形。第11步，在背光面再次均勻排一層排線，并延伸到背景、臺面。這時，背光面兩層排線，背景臺面一層，受光面不畫，形成基本黑白灰三大層次。第12步，觀察，將投影、正方體暗面、背景、臺面、正方體灰部、亮部看作是由暗到亮的6個層次。然后在畫面上，按上述排序依次用排線均勻地畫到其自身層次最亮的深度。具體地說，投影“自身最亮的層次”是延伸到后面的部分d）；正方體暗面的是反光（2）；背景的是與正方體暗面相