PVD鍍膜工藝設(shè)計行業(yè)資料工業(yè)設(shè)計

的升高，器壁放氣會使真空度降低，然后又上升，等到溫度上升到6出工件。.word.zl.-2)用磁控濺射離子鍍技術(shù)為黃銅電的升高，器壁放氣會使真空度降低，然后又上升，等到溫度上升到6出工件。.word.zl.-2)用磁控濺射離子鍍技術(shù)為黃銅電0～500v。②沉積tin膜真空度：通入高純氮氣，真空度保持a即可蒸鍍。真空度越高，膜層質(zhì)量越好。蒸鍍：預(yù)熔的目的是除去PVD鍍膜工藝PVD鍍膜工藝.1.5～2.5h。(7)1.5～2.5h。(7)鍍膜。鍍膜是保證鍍膜質(zhì)量的關(guān)鍵。鍍膜i02靶或si靶鍍si02。采用直流偏壓電源。(1)工件清洗工藝圍比擬窄。可采用氣體離子源將反響氣體離化，擴大反響沉積的鍍膜時，真空鍍膜室的襯板還需作定期清洗，一般是半個月清洗一次赤金黃色、玫瑰金色、棕色、紫色.v，占空比60%～80%v，占空比60%～80%。沉積溫度：200℃左右。鍍膜時間：染色——檢驗。下面具體介紹鍍膜的流程。(1)來料檢驗。.woxzral-nx金黃色3.裝飾膜的鍍制工藝一．金屬件裝飾膜鍍升到100～150℃。2)轟擊清洗真空度：通人氬氣真空度保持.。然后進展漂洗以徹底除去酸液，漂洗時必須采用去離子純潔水或蒸緣良好，引弧針控制靈活,程適宜，恰好能觸及陰極外表。③檢查工。轟擊時間：。然后進展漂洗以徹底除去酸液，漂洗時必須采用去離子純潔水或蒸緣良好，引弧針控制靈活,程適宜，恰好能觸及陰極外表。③檢查工。轟擊時間：10min.此刻在真空鍍膜室發(fā)生輝光放電，放電產(chǎn)逐件刷洗、漂洗、烘干。油污嚴重時還需用清洗劑在50～60℃，.0～500v。②沉積tin0～500v。②沉積tin膜真空度：通入高純氮氣，真空度保持類及顏色。表1局部金屬基材裝飾膜的種類及顏色膜層種類色調(diào)ti通入氮氣，真空度保持在(3～5)x10-1pa。靶電壓：400-1p中頻〔射頻〕電源功率：200～500w。時間：10～.展脫脂之后，徹底地漂洗烘干備用；②鋁絲的處理：用純度為99.6x10-13pa本底真空。加熱溫度應(yīng)在真空室器壁放氣后又上鍍膜時，真空鍍膜室的襯板還需作定期清洗，一般是半個月清洗一次展脫脂之后，徹底地漂洗烘干備用；②鋁絲的處理：用純度為99.6x10-13pa本底真空。加熱溫度應(yīng)在真空室器壁放氣后又上鍍膜時，真空鍍膜室的襯板還需作定期清洗，一般是半個月清洗一次亮度和塑料與金屬膜的結(jié)合力，在鍍膜之前需要上底漆。為保護膜層.，取出工件。該工藝也叫摻金鍍或ipg，最后一層si02是透明，取出工件。該工藝也叫摻金鍍或ipg，最后一層si02是透明作①清潔真空鍍膜室。用吸塵器將真空鍍膜室清潔一遍。當經(jīng)過屢次200v，占空比80%。鍍膜時間：20～30min。由于磁控加大c2h2氣體，隨著c2h2氣體量增大，色澤由金黃一赤金黃——下架一染色——檢驗。.、橙紅色crnx銀白色tixal-nx金黃色、棕色、黑色、橙紅色crnx銀白色tixal-nx金黃色、棕色、黑色ti作①清潔真空鍍膜室。用吸塵器將真空鍍膜室清潔一遍。當經(jīng)過屢次3)用復(fù)合涂層離子鍍方法為黃銅電鍍亮鎳的手表殼鍍制tin十a(chǎn)鍍亮鉻的衛(wèi)生潔具鍍制zrn膜。采用基材為鋯的非平衡磁控濺射靶器對準上好架的待鍍件仔細地除塵，能取得較理想的效果；另一種是用高壓氣.、塑料、水晶、木材、紙等非金屬工件上鍍制金屬膜及氮化膜、氧化源還是輔助鍍膜源。(4)冷卻鍍膜完畢后，首先關(guān)閉磁控濺射靶電工件架的接觸點點必須接觸良好。以上幾項工作確保沒有問題后，才、塑料、水晶、木材、紙等非金屬工件上鍍制金屬膜及氮化膜、氧化源還是輔助鍍膜源。(4)冷卻鍍膜完畢后