氣相二氧化硅羥基含量測(cè)定方法-TGA法報(bào)批稿_第1頁(yè)
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3本文件適用于熱重分析法測(cè)試未改性的氣相二氧化硅2規(guī)范性引用文件GB/T8170數(shù)值修約規(guī)則與極限數(shù)ISO18473-3特殊用途的功能顏料和pigmentsandextendersforspecialapplication—P3術(shù)語(yǔ)和定義本文件測(cè)試原理基于氣相二氧化硅含有的硅羥基（Si-OH44.3.1分析天平：精確至0.1mg4.3.2粉末壓片機(jī)：壓力范圍0MPa~40MPa4.3.3熱重分析儀：測(cè)試溫度為室溫至800℃以上。4.4樣品準(zhǔn)備稱取適量的樣品，放入粉末壓片機(jī)，在10MPa~20MPa壓力下壓制約30s制落粉薄片待測(cè)，以避免熱重分析測(cè)試時(shí)通有氣流吹落粉末狀SiO2樣品，造成測(cè)試結(jié)果不準(zhǔn)確。），4.5.2升溫程序105℃升溫至800℃,進(jìn)行硅羥基測(cè)試。5結(jié)果計(jì)算與表示18會(huì)SSA會(huì)wtT2NN1OH會(huì)SSA會(huì)wtT118MWH2O為水的相對(duì)分子質(zhì)量，MWH2O=18.015g/molNA23/mol；5本文件的羥基含量檢出限（MDL）為0.03mg；Weight(%)9008007006005004003002001000100.099.599.0Weight(%)9008007006005004003002001000100.099.599.098.598.097.5A.1氣相二氧化硅的典型熱失重曲線SiO201020304050607onsilica[J].JournalofColloidandInterfaceScience

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