黃銅表面大功率半導體激光熔覆制備CuWC涂層研究的開題報告_第1頁
黃銅表面大功率半導體激光熔覆制備CuWC涂層研究的開題報告_第2頁
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黃銅表面大功率半導體激光熔覆制備CuWC涂層研究的開題報告開題報告題目:黃銅表面大功率半導體激光熔覆制備CuWC涂層研究研究背景與意義:黃銅是一種重要的工業(yè)材料,在機械、船舶、建筑等領域中廣泛應用。但由于黃銅在高溫、高壓、強腐蝕等惡劣環(huán)境下容易受損,因此需要在其表面進行涂層保護。CuWC涂層具有高硬度、高耐磨、高耐腐蝕等優(yōu)良性能,是一種理想的黃銅表面涂層。因此,研究黃銅表面大功率半導體激光熔覆制備CuWC涂層具有重要的現(xiàn)實意義和應用前景。研究內(nèi)容:本研究將采用大功率半導體激光熔覆技術,在黃銅表面制備CuWC涂層。通過調(diào)控激光參數(shù)和粉末噴射條件,探究不同制備參數(shù)對涂層微觀形貌、成分組成和性能的影響。通過SEM、EDS、XRD、硬度測試等手段對涂層進行表征,研究該涂層在高溫、高壓、強腐蝕等惡劣環(huán)境下的耐磨、耐腐蝕性能。研究方法:1.制備CuWC粉末:采用高純W和CuCl2為原料,在氫氣保護下反應制備CuWC粉末,并進行粉末表面處理。2.大功率半導體激光熔覆制備CuWC涂層:將制備的CuWC粉末通過粉末噴射技術噴射到黃銅表面,采用大功率半導體激光進行熔覆。3.表征:使用SEM、EDS、XRD、硬度測試等手段對涂層進行表征,分析涂層微觀形貌、成分組成和性能等。預期研究結(jié)果:本研究旨在探究大功率半導體激光熔覆制備CuWC涂層的技術條件和性能特點,預期能夠得到以下結(jié)果:1.探究不同制備參數(shù)對CuWC涂層在黃銅表面的微觀形貌、成分組成和性能的影響。2.研究CuWC涂層在高溫、高壓、強腐蝕等惡劣環(huán)境下的耐磨、耐腐蝕性能。3.為產(chǎn)業(yè)化應用提供技術支持和研究基礎。研究計劃:第一年:1.準備CuWC粉末,并對粉末進行表面處理。2.采用大功率半導體激光熔覆技術在黃銅表面制備CuWC涂層。3.對涂層進行SEM、EDS、XRD等表征。第二年:1.調(diào)控激光參數(shù)和粉末噴射條件,探究不同制備參數(shù)對涂層性能的影響。2.在涂層表面模擬高溫、高壓、強腐蝕等惡劣環(huán)境下的性能表現(xiàn)。3.對涂層進行硬度測試等性能測試。第三年:1.分析和總結(jié)研究結(jié)果,提出未來研究方向和展望。2.撰寫畢業(yè)論文,并完成論文答辯。參考文獻:[1]郝鵬,李章偉,魏敬東,張辰,等.用于銅基材料LC4鐵基復合涂層的Cu0.1Ni0.9、WC粉末高溫反應性能與機理[J].材料工程,2019,47(2):136-142.[2]張岳林,趙文鋒,羅敏大.Cu-30W/75Cu-25W/石墨復合材料的制備及其力學性能研究[J].材料開發(fā)與應用,2019,34(1):96-100.[3]Jacinto,M.C.,Rodrigues,N.,Calderon,V.,等.MicrostructureandtribologicalbehaviorofelectrodepositedCu‐Wmagneticnanocompos

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