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文檔簡介

控制流程圖裝置操作壓力控制示例：1.控制范圍裝置操作壓力（冷高分壓力）控制PIC7021：（12～14.6）MPa。2.控制目標1）操作壓力PIC7021≤14.6MPa。2）設(shè)定壓力波動不超過±0.5MPa。3.相關(guān)參數(shù)冷高壓分離器頂部壓力指示PI7020A；新氫壓力低保護控制PIC7030A；循環(huán)氫排放流量控制FIC7037；高信號選擇開關(guān)PY7021C；高信號選擇開關(guān)FY7037。4.控制方式1）裝置操作壓力控制PIC7021，正作用，采用分程控制，與新氫壓力低保護控制PIC7030A、循環(huán)氫排放流量控制FIC7037組成復(fù)雜控制回路。2）PIC7021輸出0%～50%，新氫二返一控制閥閥位0%～100%；PIC7021輸出50%～100%，循環(huán)氫排放閥閥位0%～100%。3）正常操作時，PIC7021輸出在0%～50%，對新氫二返一控制閥進行調(diào)節(jié)，改變進入裝置的新氫量。當(dāng)壓力較高，PIC7021輸出達到50%～100%，此時打開循環(huán)氫排放閥以降低壓力。壓力控制PIC7021輸出正常調(diào)整影響因素調(diào)整方法裝置壓力波動PIC7021通過分程控制達到穩(wěn)定壓力的目的

異常調(diào)整現(xiàn)象原因處理方法裝置壓力快速下降新氫中斷關(guān)閉排廢氫閥門，裝置改反應(yīng)分餾大循環(huán)排廢氫閥FV7037故障打開FV7037改用副線閥控制，聯(lián)系儀表處理新氫二返一控制閥故障全開調(diào)節(jié)閥改用副線閥控制，聯(lián)系儀表處理裝置壓力快速下降排廢氫閥FV7037故障關(guān)閉FV7037改用副線閥控制，聯(lián)系儀表處理新氫二返一控

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