GB/T 44926-2024納米技術(shù)微區(qū)表面及亞表面表征光學(xué)暗場(chǎng)共焦顯微法

ICS1704030

CCSN.51.

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T44926—2024

納米技術(shù)微區(qū)表面及亞表面表征

光學(xué)暗場(chǎng)共焦顯微法

Nanotechnologies—Characterizationofmicrosurfaceandsubsurface—

Opticaldark-fieldconfocalmicroscopy

2024-12-31發(fā)布2025-07-01實(shí)施

國(guó)家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局發(fā)布

國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

GB/T44926—2024

目次

前言

…………………………Ⅲ

引言

…………………………Ⅳ

范圍

1………………………1

規(guī)范性引用文件

2…………………………1

術(shù)語(yǔ)和定義

3………………1

原理

4………………………2

設(shè)備配置及測(cè)量條件

5……………………4

測(cè)量步驟

6…………………4

數(shù)據(jù)處理

7…………………5

結(jié)果表征

8…………………6

影響表征結(jié)果的因素

9……………………6

測(cè)試報(bào)告

10…………………7

附錄規(guī)范性暗場(chǎng)散射共焦模塊

A()……………………8

附錄資料性光學(xué)暗場(chǎng)共焦顯微鏡測(cè)量結(jié)果傾斜矯正方法

B()………9

附錄資料性光學(xué)暗場(chǎng)共焦顯微鏡亞表面測(cè)量介質(zhì)校正系數(shù)計(jì)算方法

C()…………11

附錄資料性釹玻璃光學(xué)暗場(chǎng)共焦顯微測(cè)量結(jié)果示例

D()……………13

附錄資料性亞表面臺(tái)階高度測(cè)量結(jié)果示例

E()………15

參考文獻(xiàn)

……………………16

Ⅰ

GB/T44926—2024

前言

本文件按照標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第部分標(biāo)準(zhǔn)化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則的規(guī)定

GB/T1.1—2020《1:》

起草

。

請(qǐng)注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專利本文件的發(fā)布機(jī)構(gòu)不承擔(dān)識(shí)別專利的責(zé)任

。。

本文件由中國(guó)科學(xué)院提出

。

本文件由全國(guó)納米技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)歸口

(SAC/TC279)。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位哈爾濱工業(yè)大學(xué)中國(guó)計(jì)量科學(xué)研究院昆明物理研究所西安應(yīng)用光學(xué)研究所

:、、、、

北京微電子技術(shù)研究所航天科工防御技術(shù)研究試驗(yàn)中心

、。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人劉儉施玉書(shū)劉辰光張樹(shù)胡旭張?jiān)讫埨疃否T慧

:、、、、、、、。

Ⅲ

GB/T44926—2024

引言

微納器件及高端光學(xué)元件的表面及亞表面質(zhì)量控制是產(chǎn)品性能和使用壽命的重要影響因素對(duì)微

。

區(qū)表面及亞表面微米及納米尺度特征結(jié)構(gòu)進(jìn)行有效表征是提升微納加工及超精密加工機(jī)理探索工藝

,、

定型和量產(chǎn)質(zhì)控能力的重要保障在超光滑光學(xué)元件微光學(xué)器件半導(dǎo)體材料等領(lǐng)域具有廣泛應(yīng)用

,、、

需求

。

光學(xué)暗場(chǎng)共焦顯微鏡能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)樣品微區(qū)表面和亞表面微弱暗場(chǎng)散射信號(hào)的三維高效探測(cè)本文

,

件的制定為使用光學(xué)暗場(chǎng)共焦顯微鏡表征光學(xué)透明固體材料的表面及亞表面特征結(jié)構(gòu)提供了規(guī)范統(tǒng)一

的方法有利于提升高性能器件的檢測(cè)水平為精密光學(xué)元件及微納器件加工生產(chǎn)質(zhì)控及新工藝研發(fā)提

,,

供檢測(cè)保障

。

Ⅳ

GB/T44926—2024

納米技術(shù)微區(qū)表面及亞表面表征

光學(xué)暗場(chǎng)共焦顯微法

1范圍

本文件描述了采用光學(xué)暗場(chǎng)共焦顯微鏡對(duì)微區(qū)表面及亞表面的表征方法

。

本文件適用于固體材料

。

2規(guī)范性引用文件

下列文件中的內(nèi)容通過(guò)文中的規(guī)范性引用而構(gòu)成本文件必不可少的條款其中注日期的引用文

。,

件僅該日期對(duì)應(yīng)的版本適用于本文件不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于

,;,()

本文件

。

產(chǎn)品幾何技術(shù)規(guī)范光學(xué)共焦顯微鏡計(jì)量特性及測(cè)量不確定度評(píng)定

GB/T34879—2017(GPS)

導(dǎo)則

3術(shù)語(yǔ)和定義

界定的以及下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本文件

GB/T34879—2017。

31

.

亞表面subsurface

固體材料表面以下具有光學(xué)透明度的區(qū)域

。

注通常深度在百微米以內(nèi)

:。

32

.

共焦顯微術(shù)confocalmicroscopyCM

;

采用約束性照明和約束性探測(cè)借助軸向掃描獲得光學(xué)層析圖像并通過(guò)提取軸向最大信號(hào)位置確

,,

定區(qū)域樣品表面形狀的測(cè)量方法

。

來(lái)源

[:GB/T34879—2017,3.1]

33

.

光學(xué)暗場(chǎng)共焦顯微鏡opticaldark-fieldconfocalmicroscopeODCM