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文檔簡介
半導(dǎo)體催化劑
屬於半導(dǎo)體催化劑類型:
過渡金屬氧化物:ZnO,NiO,WO3,Cr2O3,MnO2,MoO3.V2O5,F(xiàn)e3O4,CuO等;過渡金屬複合氧化物:V2O5—MoO3,MoO3-Bi2O3等;某些硫化物如MoS2,CoS2等半導(dǎo)體催化劑特點(diǎn)半導(dǎo)體催化劑特點(diǎn)是能加速以電子轉(zhuǎn)移為特徵的氧化、加氫和脫氫等反應(yīng)。與金屬催化劑一樣亦是氧化還原型催化劑,其催化性能與電子因素和晶格結(jié)構(gòu)有關(guān)。具有以下優(yōu)點(diǎn):(1)在光、熱、雜質(zhì)的作用下,性能會發(fā)生明顯的變化,這有利於催化劑性能的調(diào)變;(2)半導(dǎo)體催化劑的熔點(diǎn)高,故熱穩(wěn)定性好;(3)較金屬催化劑的抗毒能力強(qiáng)。本章主要內(nèi)容定性介紹半導(dǎo)體催化劑的能帶結(jié)構(gòu);並從能帶結(jié)構(gòu)出發(fā),討論催化劑的電導(dǎo)率、逸出功與催化活性的關(guān)聯(lián)反應(yīng)物與催化劑間的
化學(xué)吸附鍵類型
反應(yīng)物與催化劑間的化學(xué)吸附可以看作為在共同組成的新勢場下雙方電子雲(yún)的重新分配,分配的結(jié)果有下列幾種情況:雙方共用電子,組成共價鍵;雙方電負(fù)性相差甚遠(yuǎn),組成離子型吸附;雙方電負(fù)性略有差別,形成極性鍵吸附。
催化電子理論過渡金屬氧化物多屬半導(dǎo)體類型,而半導(dǎo)體能帶理論對能帶結(jié)構(gòu)的描述已屬比較成熟。因此借用來說明這類催化劑的催化特性是很自然的。50年代前蘇聯(lián)學(xué)者伏肯斯坦應(yīng)用半導(dǎo)體能帶理論為解釋這類催化劑的催化作用引進(jìn)了催化電子理論,把半導(dǎo)體的導(dǎo)電率、電子逸出功與催化活性相關(guān)聯(lián),並解釋了一部分催化現(xiàn)象。半導(dǎo)體的能帶結(jié)構(gòu)
一個原於核周圍的電子是按能級排列的。例如1S,2S,2P,3S,3P……內(nèi)層電子處於較低能級,外層電子處於較高能級。固體中許許多多原子的電子軌道發(fā)生重疊,其中外層電子軌道重疊最多。由於這種重疊作用,電子不再局限於在一個原子內(nèi)運(yùn)動,而是在整個固體中運(yùn)動,這種特性稱為電子的共有化。然而重疊的外層電子也只能在相應(yīng)的軌道間轉(zhuǎn)移運(yùn)動。例如3S引起3S共有化,2P軌道引起2P共有化
能級示意圖
禁帶、滿帶或價帶、
空帶或?qū)?/p>
3S能帶與2P能帶之間有—個間隙,其中沒有任何能級,故電子也不能進(jìn)入此區(qū),稱之為禁帶
下麵一部分密集的能級組成一個帶,一般充滿或部分充滿價電子,稱為滿帶或價帶。上面一部分密集的能帶也組成一個帶,在基態(tài)時往往不存在電子,只有處於激發(fā)態(tài)時才有電子進(jìn)入此帶,所以稱為空帶,又叫導(dǎo)帶
激發(fā)到空帶中去的自由電子提供了半導(dǎo)體的導(dǎo)電能力
金屬的能帶的結(jié)構(gòu)示意圖
導(dǎo)體都具有導(dǎo)帶(或者能帶結(jié)構(gòu)是迭加的),此能帶沒有被電子完全充滿,在外電場的作用下,電子可從一個能級躍遷到另一個能級,因此能夠?qū)щ娊^緣體的能帶的結(jié)構(gòu)示意圖
絕緣體的滿帶己被電子完全填滿,而禁帶很寬(>5eV),滿帶中的電子不能躍遷到空帶上去,所以不能導(dǎo)電。半導(dǎo)體半導(dǎo)體的禁帶很窄,在絕對零度時,電子不發(fā)生躍遷,與絕緣體相似;但當(dāng)溫度升高時,部分電子從滿帶激發(fā)到空帶上去,空帶變成導(dǎo)帶,而滿帶則因電子移去而留下空穴,在外加電場作用下能夠?qū)щ姡史Q半導(dǎo)體。半導(dǎo)體的類型本征半導(dǎo)體:不含雜質(zhì),具有理想的完整的晶體結(jié)構(gòu)具有電子和空穴兩種載流體,例如Si、Ge、PbS、Fe3O4等。
N型半導(dǎo)體:含有能供給電子的雜質(zhì),此電子輸入空帶成為自由電子,空帶變成導(dǎo)帶。此雜質(zhì)叫施主雜質(zhì)。
P型半導(dǎo)體:含有易於接受電子的雜質(zhì),半導(dǎo)體滿帶中的電子輸入雜質(zhì)中而產(chǎn)生空穴,此雜質(zhì)叫受主雜質(zhì)。本征半導(dǎo)體能帶的結(jié)構(gòu)示意圖不含雜質(zhì),具有理想的完整的晶體結(jié)構(gòu)具有電子和空穴兩種載流體N型半導(dǎo)體(又稱電子型半導(dǎo)體)
如果在導(dǎo)帶和滿帶之間另有一個能級並有一些電子填充其中它們很容易激發(fā)到導(dǎo)帶而引起導(dǎo)電,那麼這種半導(dǎo)體就稱為N型半導(dǎo)體。中間的這個能級稱為施主能級。滿帶由於沒有變化在導(dǎo)電中不起作用。實(shí)際情況中N型半導(dǎo)體都是一些非計量的氧化物,在正常的能帶結(jié)構(gòu)中形成了施主能級。
N型半導(dǎo)體能帶結(jié)構(gòu)示意圖
(1)正離子過量:
ZnO中含有過量的Zn
(2)負(fù)離子缺位
(3)高價離子同晶取代(4)摻雜
P型半導(dǎo)體(空穴型半導(dǎo)體)如果在禁帶中存在這樣一個能級,它很容易接受滿帶中躍遷上來的電子,那麼就會使?jié)M帶中出現(xiàn)空穴而導(dǎo)電,這種導(dǎo)電方式就是P型導(dǎo)電。這種能級稱為受主能級,有受主能級的半導(dǎo)體稱為P型半導(dǎo)體,
P型半導(dǎo)體也是一些非計量的化合物,這些非計量關(guān)係造成半導(dǎo)體中出現(xiàn)受主能級。
P型半導(dǎo)體能帶結(jié)構(gòu)示意圖
(1)正離子缺位
在NiO中Ni2+缺位,相當(dāng)於減少了兩個正電荷。為保持電中性,在缺位附近,必定有2-Ni2+個變成Ni3+,這種離子可看作為Ni2+束縛住一個空穴,即Ni3+=Ni2+·
,這空穴具有接受滿帶躍遷電子的能力,當(dāng)溫度升高,滿帶有電子躍遷時,就使?jié)M帶造成空穴。從而進(jìn)行空穴導(dǎo)電。
(2)低價正離子同晶取代
若以Li+取代NiO中的Ni2+,相當(dāng)於少了一個正電荷,為保持電荷平衡,Li+附近相應(yīng)要有一個Ni2+成為Ni3+。同樣可以造成受主能級而引起P型導(dǎo)電。(3)摻雜
在NiO晶格中摻人電負(fù)性較大的原子時,例如F,它可以從Ni2+奪走一個電子成為F-,同時產(chǎn)生一個Ni3+,也造成了受主能級。
總之,能在禁帶中靠近滿帶處形成一個受主能級的固體就是P型半導(dǎo)體,它的導(dǎo)電機(jī)理是空穴導(dǎo)電。費(fèi)米能級EF
EF是半導(dǎo)體中價電子的平均位能。本征半導(dǎo)體,EF在滿帶和導(dǎo)帶之間;N型半導(dǎo)體,EF在施主能級和導(dǎo)帶之間;P型半導(dǎo)體,EF在受主能級和滿帶之間。
電子逸出功由
電子逸出功:將一個具有平均位能的電子從固體內(nèi)部拉到固體外部所需的最低能量。摻入施主雜質(zhì)使費(fèi)米能級提高,從而導(dǎo)帶電子增多並減少滿帶的空穴,逸出功都降低了。對於N型半導(dǎo)體來說,電導(dǎo)率就增加了;對P型半導(dǎo)體而言,電導(dǎo)率降低;摻入受主雜質(zhì)其作用正好相反。
費(fèi)米能級EF和電子逸出功由
半導(dǎo)體催化劑的化學(xué)吸附本質(zhì)
伏肯斯坦的催化作用電子理論把表面吸附的反應(yīng)物分子看成是半導(dǎo)體的施主或受主。半導(dǎo)體催化劑的化學(xué)吸附:對催化劑來說,決定於逸出功
的大??;對反應(yīng)物分子來說決定於電離勢I的大小。由
和I的相對大小決定了電子轉(zhuǎn)移的方向和限度。(1)當(dāng)
I<
時
電子從吸附物轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體催化劑,吸附物呈正電荷,粒子吸附在催化劑表面上,形成的吸附鍵以CpL表示。如果催化劑是N型半導(dǎo)體其電導(dǎo)增加,而P型半導(dǎo)體則電導(dǎo)減小。這樣情況下的吸附相當(dāng)於增加了施主雜質(zhì),所以無論N型或P型半導(dǎo)體的逸出功都降低了。(2)當(dāng)I>
時
電子從半導(dǎo)體催化劑轉(zhuǎn)移到吸附物,於是吸附物是帶負(fù)電荷的粒子吸附在催化劑上,可以把吸附物視作為受主分子。所形成的吸附鍵以CeL表示。對N型半導(dǎo)體其電導(dǎo)減小,而P型半導(dǎo)體則電導(dǎo)增加,吸附作用相當(dāng)於加了受主雜質(zhì)從而增加了逸出功。
(3)當(dāng)I
時
半導(dǎo)體與吸附物之間無電子轉(zhuǎn)移,於是形成弱化學(xué)吸附,吸附粒子不帶電。無論對N型或P型半導(dǎo)體的電導(dǎo)率都無影響,以符號CL表示之
例子對於某些吸附物如O2,由於電離勢太大,無論在哪種半導(dǎo)體上的化學(xué)吸附總是形成負(fù)離子也即形成所謂CeL,反之有些吸附物,如CO、H2,由於電離勢小容易形成正離子化.形成所謂CPL鍵。
半導(dǎo)體催化劑的催化活性
催化劑的活性與反應(yīng)物、催化劑表面局部原子形成的化學(xué)吸附鍵性質(zhì)密切相關(guān)。化學(xué)吸附鍵的形成和性質(zhì)與多種因素有關(guān),對半導(dǎo)體催化劑而言,其導(dǎo)電性是影響活性的主要因素之一。
例12N2O=2N2十O2
該反應(yīng)在金屬氧化物(催化劑)上進(jìn)行時:P型半導(dǎo)體氧化物(Cu2O,CoO,NiO,CuO,CdO,Cr2O3,F(xiàn)e2O3等)活性最高其次是絕緣體(MgO,CaO,Al2O3)N型半導(dǎo)體氧化物(ZnO)最差;實(shí)驗(yàn)研究發(fā)現(xiàn),在P型半導(dǎo)體上進(jìn)行分解反應(yīng)時,催化劑的電導(dǎo)率增加,而在N型半導(dǎo)體上進(jìn)行時電導(dǎo)下降。反應(yīng)的機(jī)理據(jù)此可以推測:N2O在表面上吸附時是受主分子,形成CeL鍵。若N2O分解分兩步進(jìn)行P型半導(dǎo)體的活性較高的解釋反應(yīng)機(jī)理中的第一步是不可逆快反應(yīng),第二步是慢反應(yīng)rds。催化劑的電導(dǎo)率應(yīng)該由第一步所引起,總的結(jié)果為N型電導(dǎo)下降,P型電導(dǎo)上升。這與實(shí)驗(yàn)結(jié)果一致。反應(yīng)速率由第二步控制,所以要加快反應(yīng)速率,必須提高催化劑接受電子的速率。由於P型半導(dǎo)體的空穴能位比N型半導(dǎo)體的導(dǎo)帶能位更低,所以接受電子的速率快得多,這就解釋了P型半導(dǎo)體的活性較高的原因。摻雜對反應(yīng)的影響適當(dāng)加入一些雜質(zhì)使費(fèi)米能級下降,即加入一些受主雜質(zhì)會有助於加速反應(yīng)。但是反應(yīng)的rds是會隨條件而變化,當(dāng)受主雜質(zhì)加得太多到一定程度已嚴(yán)重影響到第一步要求電子的速率,這樣反過來第一步會成為rds。事實(shí)上對P型半導(dǎo)體NiO加一些Li2O證實(shí)了上述的推論,適當(dāng)加入一些Li2O提高了反應(yīng)速率,但當(dāng)Li2O的量超過0.1%時,反應(yīng)速率反而降低。因?yàn)榇藭r空穴濃度太高,使第一步吸附產(chǎn)生O—成為困難。所以添加Li2O有一個最佳值。半導(dǎo)體催化劑的選擇原則設(shè)反應(yīng)為A—B=CA為施主分子,B為受主分子。即A與催化劑形成CpL,B與催化劑形成CeL。其電子轉(zhuǎn)移過程如圖:由於A、B的吸附速率常常是不一樣的,所以rds也往往不一樣。若A
A+十e是慢過程,反應(yīng)為施主反應(yīng)或P型反應(yīng),增加催化劑空穴能增加反應(yīng)速率。若B十e
B—是慢過程,反應(yīng)為受主反應(yīng)或N型反應(yīng),增加催化劑自由電子則能增加反應(yīng)速率。慢過程的確定究竟哪一步為rds?取決於反應(yīng)物A、B的電離勢(IA、IB)和催化劑的電子逸出功由的相對大小。對上述反應(yīng),催化劑的
由必須介於IA和IB之間,且IA<
<IB才是有效的催化劑。第一種類型
靠近IA,
EA<
EB。此時B得電子比A給出電子到催化劑容易,於是A的吸附成為rds,屬於P型反應(yīng)。為了加快反應(yīng)速率,必須提高催化劑的
以使
EA增加,必須降低費(fèi)米能級EF,加入受主雜質(zhì)對反應(yīng)有利。第二種類型
靠近IB,
EB<
EA。此時A給出電子到催化劑比B從催化劑得到電子要容易得多,於是B的吸附成為rds,屬N型反應(yīng),所以加入施主雜質(zhì)提高EF以降低
來使
EB增大而加速反應(yīng)。第三種類型
在IA和IB之間的中點(diǎn)即
EA=
EB。此時二步反應(yīng)速率幾乎相近,催化反應(yīng)速率也為最佳。由此推論:如果已知IA和IB的話,只要測出催化劑的
就可推斷,它們對反應(yīng)的活性大小半導(dǎo)體催化劑應(yīng)用實(shí)例——丙烯氨氧化制丙烯氰丙烯肪是製造肪綸、丁臘橡膠、ABS工程塑膠和己二臘等的原料。目前國際上普遍採用丙烯氨氧化法催化劑:Bi2O3-MoO3系第一步過程第一步反應(yīng)圖示如下第二步過程第二步反應(yīng)圖示如下第三、四步過程第三、四步過程的圖示丙烯的吸附類型的實(shí)驗(yàn)確定從動力學(xué)實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)可知,當(dāng)氧或氨的含量高於某一最小值之後,生成丙烯氰的速率與氧和氨的分壓無關(guān),而只與丙烯的分壓成正比,這表明
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