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文檔簡介
1、作業(yè)第二章1、要形成一個(gè)最簡單的完整的集成電路工藝,至少需要多少層版圖。請列出來。 有源區(qū)N-WellP+N+多晶硅多晶硅接觸孔有源區(qū)接觸孔金屬 12、設(shè)計(jì)規(guī)則所提供的是版圖設(shè)計(jì)的指南,它的基本要素是什么? 最小線寬3、一個(gè)好的封裝必須滿足哪些要求。表 2.3 中的封裝那個(gè)最便宜。電氣要求 : 低寄生電容電阻電感等機(jī)械要求 : 可靠牢固熱要求 : 散熱性好經(jīng)濟(jì)要求 : 便宜DIP 封裝最便宜4、對硅片進(jìn)行摻雜一般采用那兩種方法,分別如何進(jìn)行?擴(kuò)散,在擴(kuò)散注入中圓片放在一個(gè)石英管內(nèi), 置入加熱爐中, 向管內(nèi)通入含有摻雜劑的氣 體。爐子的高溫一般在 900-1100 度,使摻雜劑同時(shí)垂直和水平地?cái)U(kuò)
2、散入暴露的表面部分。 最終摻雜劑的濃度在表面最大并隨進(jìn)人材料的深度按高斯分布降低。離子注入在離子注入中摻雜劑以離子形式進(jìn)入材料。 離子注入系統(tǒng)引導(dǎo)純化了的離子束掃過 半導(dǎo)體表面,離子的加速度決定了它們穿透材料的深度,而離子流的大小和注入時(shí)間決 定了劑量。離子注入法可以獨(dú)立控制注人深度和劑量,這就是現(xiàn)代半導(dǎo)體制造業(yè)大部分 已用離子注入取代擴(kuò)散的原因。作業(yè) -第三章1、對如下圖所示的 NMOS 管和 PMOS 管,假設(shè) W=1um ,L=0.25um 。當(dāng)工作電壓如下所示, 判斷其工作狀態(tài),并計(jì)算源漏電流ID。其中:NMOS : kn = 115 pA/V 2, Vto = 0.43 V,入=0.
3、06 V2,PMOS: kp = 30 pA/V 2, Vto = -0.4 V,入=-0.1 Va.NMOS:VGS =2.5 V,VDS =2.5 V. PMOS:VGS =:-0.5 V, VDS =:-.25 V.b.NMOS:VGS= 3.3 V,VDS =2.2 V. PMOS:VGS =:25 V, VDS =:-1.8 V.c. NMOS:VGS =0.6 V,VDS =0.1 V. PMOS:VGS =25 V, VDS =-0.7 V.a. NMOS : VDS VGS-VT0晶體管工作在飽和狀態(tài)ID =1133uA對于PMOS |VDS|VGS|-|VT0|,晶體管工作在
4、飽和狀態(tài)PMOS ID = 0.675uAb對于NMOS VDS VGS-VT0晶體管工作在線性狀態(tài)NMOS ID = 1791uA對于PMOS |VDS| |VGS|-|VT0| ,晶體管工作在線性狀態(tài)s = E賀(幺-引加-雲(yún)IPMOS ID = 259uAC略2簡要解釋速度飽和效應(yīng)。溝道非常短的晶體管(稱為短溝器件)的特性與長溝道器件的電阻工作區(qū)和飽和區(qū)的 模型有很大的不同。這一差別的主要原因就是速度飽和效應(yīng)。長溝道器件中假定載流子 的遷移率是一個(gè)常數(shù)。載流子的速度正比于電場,且這一關(guān)系與電場強(qiáng)度值的大小無關(guān)。 然而在(水平方向)電場強(qiáng)度很高的情況下,載流子不再符合這一線性模型。事實(shí)當(dāng)沿
5、溝 道的電場達(dá)到某一臨界值時(shí),載流子的速度將由于散射效應(yīng)(即載流子間的碰撞)而趨于飽和。使得溝道電流不在隨著漏極電壓增加而增加。3實(shí)際MOS管會(huì)有哪些二階效應(yīng),請一一做簡要解釋。閾值電壓變化,漏端感應(yīng)勢壘降低,熱載流子效應(yīng),CMOS閂鎖效應(yīng)。4對一 NMOS管,假設(shè)其寬度 W,長度L。設(shè)其源漏電阻R,源、漏和柵的電容均相等為 C, 無需計(jì)算,簡單描述 R,C和W,L的直接變化關(guān)系。答:W增加,R減小,C增加。L增加,R增大,C增加。R和W/L成反比,C和WL 成正比。作業(yè)-第四章1、假設(shè)某工藝,NMOS載流子遷移率是 PMOS的2倍,且溝道寬度為 W,長度為L的NMOS 管,其等效電阻為 R,
6、源、漏、柵的電容均為 C,稱其為單位尺寸 NMOS,求單位尺寸 的PMOS管的等效電阻和各個(gè)端電容。如果溝道寬度為NW,長度為L不變的晶體管,稱為N倍尺寸晶體管,求 N倍尺寸PMOS管和NMOS管的等效電阻和各個(gè)端的電容。答:單位尺寸的 PMOS各端口電容為C,源漏等效電阻為 2R。N倍尺寸的NMOS管,其等效電阻為 R/N,源漏柵各端口電容均為 NCN倍尺寸的PMOS管,其等效電阻為 2R/N,源漏柵各端口電容均為 NC2、求A到Y(jié)的延遲。采用 Elmore延遲模型。其中“ 1”表示此晶體管為上題中單位尺寸 晶體管,對于NMOS即其等效電阻為 R,各端口電容均為 C?!?”表示為2倍尺寸晶體
7、 管。T TY AD=6RC3、上題中,如果在 Y之前有一段導(dǎo)線,其電阻為R,電容為2C。請將其等效為n模型,并從新計(jì)算A到Y(jié)的延遲。D=4RC+2R*4C=12RC作業(yè)-第五章1對如圖所示的反相器鏈,假設(shè)反相器 1的PMOS尺寸為2, NMOS尺寸為1,即所謂單 位反相器。則其輸入電容 Cg1=3C,負(fù)載CL為300C,求當(dāng)N為多少,以及反相器 2至N 的尺寸為多少是,此反相器鏈的延遲最小。B=1G=1H=GBF=100d= NH 1/N + N=N1001/n + Nh=1001/N當(dāng) N=3,時(shí),h=4.6,d=16.8,。反相器2的NMOS尺寸為4.6倍單位尺寸,反相器 3的NMOS尺
8、寸為21.16倍單位尺寸N=4時(shí),f=3.16,d=16.6,此時(shí)延遲最小反相器2的NMOS尺寸為3.16倍單位尺寸,反相器2的NMOS尺寸為10倍單位尺寸,反相器3的尺寸為31.6PMOS尺寸為NMOS兩倍2、如下所示的存在支路的反相器電路,確定各個(gè)反相器的尺寸,使得out和in直接的延遲最小。假設(shè)同一虛線框內(nèi)的反向其尺寸一樣。反相器1為單位反相器(如上題)。負(fù)載CL為 300C。F=300C/3C=100G=1B=4*3=12H=GBF=1200d= NH 1/N + N=34.8 ,N=3h=10.6第二級反相器 NMOS 尺寸為 x,f1=( 3x C *4)/3C=10.6,x=10
9、.6/4 第三級反相器 NMOS 尺寸為 y,f2=(3y C *3)/3x C =10.6 ,y=9.4 PMOS尺寸為NMOS兩倍3、反相器功耗包括哪些方面,如何降低功耗。動(dòng)態(tài)功耗:由充放電電容引起的動(dòng)態(tài)功耗直通功耗:在電路進(jìn)行開關(guān)的過程中電路直接導(dǎo)通所引起的短路電流功耗靜態(tài)功耗:電路在靜態(tài)和穩(wěn)態(tài)下沒有開關(guān)活動(dòng)存在時(shí)的漏電流功耗降低動(dòng)態(tài)功耗: 降低a:睡眠模式;降低C:小晶體管,短互聯(lián)線;降低VDD:低工作電壓; 降低f:合適的低頻;降低靜態(tài)功耗:少使用有比電路;少使用低閾值電壓Vt器件;降低直通功耗:降低時(shí)鐘的上升時(shí)間和下降時(shí)間,使得時(shí)鐘邊沿陡峭。作業(yè),第六章:1.設(shè)計(jì)電路實(shí)現(xiàn)實(shí)現(xiàn)F1,
10、 F2,F(xiàn)3的邏輯。(1)F1 D A(B C)DT._VIIC HL TVBCD(2)F2 A ?(B C?D)+E?F)輸入個(gè)數(shù)太多,可如上題采用CMO實(shí)現(xiàn),也可如下采用動(dòng)態(tài)CMO實(shí)現(xiàn),可以少 畫幾個(gè)晶體管(3)F3 D?(A?B C)2.計(jì)算邏輯功效。邏輯功效的定義:邏輯功效是以其輸入電容除以與它具有相同的上拉或下拉電流 的未偏斜反相器的輸入電容樣的,邏輯功效也是一樣,只需要計(jì)算A的gu和gd。其輸入電容為4丁計(jì)算gu時(shí),y通過2/3的pmos進(jìn)行充電,放電通路斷開。驅(qū)動(dòng)電流(或上拉電 阻,或充電電流)與之等效的反相器如圖 1,反相器輸入電容為1,gu=4/1計(jì)算gd時(shí),y通過A.B.C
11、的Nmos進(jìn)行放電,每個(gè)電阻為 R/4,三個(gè)電阻串聯(lián)為 3R/4,放電電流為ld=V/(3R/4),與此同時(shí),由于 PMOS管一直導(dǎo)通,其電阻為 3R,電源對y點(diǎn)還有個(gè)充電電流Iu=V/3R, y點(diǎn)的凈放電電流應(yīng)該是I=Id-Iu=I , 驅(qū)動(dòng)電流(或下拉電阻,或放電電流)與之等效的反相器如圖 2,反相器輸入電 容為 3,gd=4/32. A的輸入電谷為p+1,計(jì)算gu時(shí),y通過p的pmos進(jìn)行充電,放電通路斷開。驅(qū)動(dòng)電流(或上拉電阻,或充電電流)與之等效的反相器如圖3,反相器輸入電容為(p+p/2),gu=(P+1)/ (p+p/2)3. 優(yōu)化下路徑5/3必g f./3b5C/二=f =30
12、 /c見ppt,將輸入F=D以下計(jì)算為了方便開根號(hào),將D=30有效扇出,F = 30邏輯功效G = 25/9分支功效:B= 1路徑功效:H = GBF =750/9 = 83級數(shù):N=4每級最佳功效為:gf=h 4 H可以在此取整數(shù)h=3寄生延遲為:P = 1 + 3 + 2 + 1 = 7最小延遲為:D = 4*3 + 7 = 19要達(dá)到最小的延遲:a = 3b = 50/9,或者 b=27/5,b的結(jié)果從前往后算和從后往前算不大一樣。因?yàn)閏 = 10h并不完全為34. 考慮采用NMOS口 PMO傳輸晶體管實(shí)現(xiàn)的下列電路。假定輸入和它們的互補(bǔ)信號(hào)(A, A , B, B )是全擺幅的(0到V
13、DD。這兩個(gè)電路實(shí)現(xiàn)的邏輯功能是什 么?AZB +AB+1A= ABY=1Y=0A+BA +0 B =ABBM3M45. 解釋為什么這個(gè)電路具有非零的靜態(tài)功耗。m2M 1VDDS采用NMOS作為傳輸管傳送數(shù)據(jù),X點(diǎn)電壓在高電平時(shí)只有 VDD-Vt,此時(shí) M1導(dǎo)通,M2也處于弱導(dǎo)通狀態(tài),會(huì)產(chǎn)生靜態(tài)漏電流。此電路還有其他缺點(diǎn):1、當(dāng)B處于關(guān)斷狀態(tài)時(shí),X點(diǎn)是動(dòng)態(tài)點(diǎn),電壓可能因漏電發(fā)生變化造成 S電壓 翻轉(zhuǎn)。2、 當(dāng)B處于關(guān)斷狀態(tài)時(shí),A點(diǎn)電壓過低D -Vt,會(huì)導(dǎo)致B打開,造成X點(diǎn)電壓 變化,造成S電壓翻轉(zhuǎn)。6. 動(dòng)態(tài)邏輯門的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)?優(yōu)點(diǎn):需要晶體管數(shù)目為 N + 2 (靜態(tài)CMO需要2N個(gè)晶體管)
14、 輸出電壓全擺幅輸出(VOL = GND and VOH = VDD)是無比電路 -器件尺寸不影響邏輯電平較快的開關(guān)速度由于減少了輸入晶體管個(gè)數(shù),降低了輸入電容(Ci n)同樣也降低了輸出電容(Cout)沒有短路電流Isc,下拉器件提供的所有電流都用來度負(fù)載電容放電CL缺點(diǎn):電荷漏電,電荷共享,時(shí)鐘饋通,電容耦合,襯底耦合,少子電荷注入, 供電電源噪聲等效應(yīng)會(huì)影響特性。動(dòng)態(tài)門的設(shè)計(jì)很有技巧性并需要非常仔細(xì)。作業(yè)-第七章一、對于下列幾種時(shí)序控制風(fēng)格,計(jì)算500ps的時(shí)鐘周期內(nèi)允許的最大邏輯傳輸 延遲是多少。假設(shè)時(shí)鐘偏斜為零,沒有進(jìn)行時(shí)間挪用。計(jì)算采用如下參數(shù):建立時(shí)間 t setupClk-to
15、-Q 延時(shí) t pcqD-to-Q延時(shí) t pdq污染延遲t ccq保持時(shí)間t hold觸發(fā)器65ps50ps35ps30ps鎖存器25ps50ps40ps35ps30ps(1)觸發(fā)器(2)兩相透明鎖存器(3)脈沖寬度為80ps的脈沖式鎖存器 解:1)對觸發(fā)器,由tpdt setuptpcqTctpd max兀tpcq )500 ps 65 ps 50 ps 385 ps2)對兩相透明鎖存器,由tpd1 tpd 2 2t pdq Tct pd max Tc 2tpdq 500 ps 80ps 420 pstsetupt pw 時(shí),滿足3)脈沖寬度為80ps的脈沖式鎖存器,當(dāng)t pd t pdq Tctpd max Tc tpdq 500ps 40ps=460ps二、對于下列幾種時(shí)序控制風(fēng)格,計(jì)算每個(gè)時(shí)鐘周期內(nèi)的最小邏輯污染延遲是多 少。假設(shè)時(shí)鐘偏斜為零。(1)觸發(fā)器(2)相位之間具有60ps不重疊時(shí)間的兩相透明鎖存器(3)脈沖寬度為80ps的脈沖式鎖存器 計(jì)算采用如下參數(shù):建立時(shí)間 t setupClk-to-Q 延時(shí)t PcqD-to-Q延時(shí)t pdq污染延遲 t ccq保持時(shí)間 t hold觸發(fā)器65ps50ps35ps30ps鎖存器25ps50ps40ps35ps30ps解:(1)對于觸發(fā)器,最小邏輯污
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