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文檔簡介

1、血液凈化室業(yè)務(wù)學(xué)習(xí)動靜脈內(nèi)瘺修復(fù)紅外線治療儀易娟易娟2015年年10月月15日日內(nèi) 容動靜脈內(nèi)瘺(AVF)AVF意義:意義:解決長期血透的血管通路解決長期血透的血管通路問題問題目前最安全經(jīng)濟(jì),維持時目前最安全經(jīng)濟(jì),維持時間長的血管通路間長的血管通路血透患者的生命線血透患者的生命線AVF并發(fā)癥 瘺管失效瘺管失效最主要的原因:瘺管失效最主要的原因: 第一第一年年20%Effect of clopidogrel on early failure of arteriovenous fistulas for hemodialysis: a randomized controlled trial. Dem

2、ber LM JAMA. 2008 May 14;299(18):2164-71. AVF其他并發(fā)癥穿刺處不易愈合穿刺處不易愈合 疼痛疼痛 組織疲勞組織疲勞周圍組織淤青周圍組織淤青竊血綜合征竊血綜合征 內(nèi)瘺修護(hù)儀的臨床作用通過通過低能量特殊波長遠(yuǎn)紅外線低能量特殊波長遠(yuǎn)紅外線照射照射低能量遠(yuǎn)紅外線照射療法原理1. 特定波長2-25m3-20m 同調(diào)共振低能量遠(yuǎn)紅外線照射療法原理2. 低能量 血管修護(hù)等特殊使用時,低功率效果好于高功率毫瓦/微瓦級觸發(fā)體內(nèi) 細(xì)胞膜大分子 相干振蕩人體可測信號強(qiáng)度內(nèi)瘺修護(hù)儀作用原理提高動靜脈瘺管成熟率瘺管成熟率提高瘺管成熟率提高 14%P0.05Lin et al,

3、Effect of Far Infrared Therapy on Arterio venous Fistula Maturation: An Open-Label Randomized Controlled Trial, Am J Kidney Dis. 2013美國腎病期刊2013年改善瘺管血流量一年后,對照組的平一年后,對照組的平均血流量低于一年前均血流量低于一年前第一次透析時的的平第一次透析時的的平均血流量均血流量 而而FIR治療組的平治療組的平均血流遠(yuǎn)高于第均血流遠(yuǎn)高于第一次,且照射一次,且照射40分鐘后,血流量分鐘后,血流量提升更明顯提升更明顯血流量相對增加血流量相對增加 150m

4、l/minLin CC et al. Far-Infrared Therapy: A Novel Treatment to Improve Access Blood Flow and Unassisted Patency of AVF in Fistula in Hemodialysis Patients. J Am Soc Nephrol. 18:985美國腎臟學(xué)會期刊2007年降低失效率,延長瘺管壽命持續(xù)照射一年后瘺管失效率降低持續(xù)照射一年后瘺管失效率降低 17%瘺管失效率Lin et al, Effect of Far Infrared Therapy on Arterio venous

5、 Fistula Maturation: An Open-Label Randomized Controlled Trial, Am J Kidney Dis. 2013美國腎病期刊2013年促進(jìn)穿刺點愈合P0.05緩解組織疼痛及疲勞P0.05促進(jìn)淤青、腫脹消散P0.05內(nèi) 容內(nèi)瘺修護(hù)儀臨床作用全 程修護(hù)內(nèi)瘺修護(hù)儀臨床作用全 面 修護(hù)內(nèi)瘺修護(hù)儀臨床使用推薦使用方法:患者每次進(jìn)行血液透析的同時照射內(nèi)瘺45分鐘增加照射次數(shù)(如在血透前或血透間歇日增加一次),可取得更佳療效內(nèi) 容產(chǎn)品結(jié)構(gòu)及參數(shù) 照射器超薄耐溫陶瓷放射板,釋放穩(wěn)定低能量特選波段遠(yuǎn)紅外線放射源有效面積:200cm2 (50mm100mm4pcs)產(chǎn)品結(jié)構(gòu)及參數(shù)觸摸式液晶控制屏產(chǎn)品結(jié)構(gòu)及參數(shù)安全設(shè)計安全照射距離提示裝置過熱安全保護(hù)裝置 陶瓷片安裝架溫度大于80(正常情況下在50左右), 自動停止加熱照射器外殼防燙設(shè)計 上下面罩安全隔熱急停按鈕 一鍵停機(jī),保障安全同類產(chǎn)品比較使用注意事項產(chǎn)品知識總結(jié)產(chǎn)品知識總結(jié)特定波長-同調(diào)共振特

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