多種絕緣材料性質(zhì)

1、.基本薄膜材料 黃中波 摘抄總結(jié)名稱(chēng)：釔（Y）三氧化二釔（Y2O3）使用電子槍蒸鍍，該材料性能隨膜厚而變化，在500nm時(shí)折射率在約為18。用作鋁保護(hù)膜其極受歡迎，特別相對(duì)于8000nm12000nm區(qū)域高入射角而言?？捎米餮坨R保護(hù)膜，且24小時(shí)暴露在濕氣中。一般為顆粒狀和片狀。透光范圍（nm）N （500nm）蒸發(fā)溫度（）蒸發(fā)源應(yīng)用蒸汽成份250-80001792300-2500電子槍防反膜名稱(chēng)：二氧化鈰（CeO2使用高密度的鎢舟皿（較早使用）蒸發(fā)，在200的基板上蒸著二氧化鈰，得到一個(gè)約為 22的折射率，在大約3000nm有一吸收帶其折射率隨基板溫度的變化而發(fā)生顯著變化，在300基板上50

2、0nm區(qū)域n =245，在波長(zhǎng)短過(guò)400nm時(shí)有吸收，傳統(tǒng)方法蒸發(fā)缺乏緊密性，用氧離子助鍍可取得n =23（550nm）的低吸收性薄膜。一般為顆粒狀。還可用于增透膜和濾光片等。由于其熱輻射較少,在PMMA上鍍膜可以?xún)?yōu)先該材料做為高折射率材料.透光范圍（nm）N （500nm）蒸發(fā)溫度（）蒸發(fā)源應(yīng)用雜氣排放量400-16000235約2000電子槍增透膜多名稱(chēng)：氧化鎂（MgO）必須使用電子槍蒸發(fā)因該材料升華，堅(jiān)硬耐久且有良好的紫外線(xiàn)（UV）穿透性。250nm n =186， 190nm n =206， 166nm時(shí)K值為01，n =265，可能用作紫外線(xiàn)薄膜材料。Mg/MgF2膜堆從200nm4

3、00nm 區(qū)域透過(guò)性良好，但膜層被限制在60層以?xún)?nèi)（由于膜應(yīng)力）500nm時(shí)環(huán)境溫度基板上得到n =170，而在300基板上得到n =174。由于大氣CO2的干擾，MgO暴露表面形成一模糊的淺藍(lán)的散射表層，可成功使用傳統(tǒng)的MHL折射率3層AR膜（MgO/CeO2/MgF2）。名稱(chēng)：硫化鋅（ZnS）折射率235，40013000的透光范圍，、具有良好的應(yīng)力和良好的環(huán)境耐久性，ZnS在高溫蒸著時(shí)極易升華，這樣在需要的膜層附著之前它先在基板上形成一無(wú)吸附性膜層，因此需要徹底清爐并且在最高溫度下烘干，花數(shù)小時(shí)才能把鋅的不良效果消除。Hass等人稱(chēng)紫外線(xiàn)（UV）對(duì)ZnS有較大影響，由于紫外線(xiàn)在大氣中導(dǎo)致

4、1520nm厚的硫化鋅膜層完全轉(zhuǎn)變成氧化鋅（ZnO）。透光范圍（nm）N （550nm）蒸發(fā)溫度（）蒸發(fā)源應(yīng)用方式400-140002451000-1100電子槍鉬鉭舟升華應(yīng)用：分光膜，泠光膜，裝飾膜，濾光片，高反膜，紅外膜,據(jù)國(guó)內(nèi)光學(xué)廠資深老工程師講,常年使用用ZNS的機(jī)器基本上五年后真空腔被腐蝕殆盡.盡管如此,在一些小作坊工廠因其易蒸發(fā),低成本等原因仍被廣泛使用,名稱(chēng)：氟化釷（ThF4）260nm12000nm以上的光譜區(qū)域，是一種優(yōu)秀的低折射率材料，然而存在放射性，在可視光譜區(qū)n從 152降到138（1000nm區(qū)域）在短波長(zhǎng)趨近于16，蒸發(fā)溫度比MgF2低一些，通常使用帶有凹罩的舟皿以

5、免ThF4良性顆?；鹦秋w濺出去，而且形成的薄膜似乎比MgF2薄膜更加堅(jiān)固。該膜在IR光譜區(qū)3000nm水帶幾乎沒(méi)有吸收，這意味著有望得到一個(gè)低的光譜移位以及更大的整體堅(jiān)固性。在8000到12000nm完全沒(méi)有材料可替代。名稱(chēng)：二氧化鈦（TiO2）TiO2由于它的高折射率和相對(duì)堅(jiān)固性，人們喜歡把這種高折射率材料用于可見(jiàn)光和近紅外線(xiàn)區(qū)域，但是它本身又難以得到一個(gè)穩(wěn)定的結(jié)果。TiO2，Ti3O5，Ti2O3，TiO及Ti，這些原材料氧鈦原子的模擬比率分別為：20，167，15，10，0，后發(fā)現(xiàn)比率為167的材料比較穩(wěn)定并且大約在550nm生成一個(gè)重復(fù)性折射率為221的堅(jiān)固的膜層，比率為2材料的第一層

6、產(chǎn)生一個(gè)大約206的折射率，后面的膜層折射率接近221。比率為 10的材料需要7個(gè)膜層將折射率238降到221。這幾種膜料都無(wú)吸收性，幾乎每一個(gè)TiO2蒸著都遵循一個(gè)原則是：在可使用的光譜區(qū)內(nèi)取得可以忽略的吸收性，這樣可以降低氧氣壓力的限制以及溫度和蒸著速度的限制。TiO2需要使用IAD助鍍，氧氣輸入口在擋板下面。Ti3O5比其它類(lèi)型的氧化物貴一些，可是有很多人認(rèn)為這種材料不穩(wěn)定性的風(fēng)險(xiǎn)小一些。Pulker等人指出，最后的折射率與無(wú)吸收性是隨著氧氣壓力和蒸著溫度而改變的，基板溫度高則得到高的折射率，例如，基板溫度為400時(shí)在500nm波長(zhǎng)得到的折射為 263，可是由于別的原因，高溫蒸著通常是不

7、受歡迎的，而離子助鍍已成為一個(gè)普遍采用的方法其在低溫甚至在室溫時(shí)就可以得到比較高的折射率，通常需要提供足夠的氧氣以避免（因?yàn)橛形談t降低透過(guò)率），但是可能也需要降低吸收而增大激光損壞臨界值（LDT）。TiO2的折射率與真空度和蒸發(fā)速度有很大的關(guān)系，但是經(jīng)過(guò)充分預(yù)熔和IAD助鍍可以解決這一難題，所以在可見(jiàn)光和近紅外線(xiàn)光譜區(qū)中，TiO2很受人們的歡迎。在IAD助鍍TiO2時(shí)，使用屏蔽柵式離子源蒸發(fā)則需要200Ev，而用無(wú)屏蔽柵式離子源蒸發(fā)時(shí)則需要333eV或者更少一些，在那里平均能量估計(jì)大約是驅(qū)動(dòng)電壓的60%，如果離子能量超過(guò)以上數(shù)值，TiO2將有吸收。而SIO2有電子槍蒸發(fā)可以提供600eV碰撞

8、（離子輻射）能量而沒(méi)有什么不良效應(yīng)。TIO2/SIO2制程中都使用300eV的驅(qū)動(dòng)電壓，目的是在兩種材料中都使用無(wú)柵極離子源，這樣避免每一層都改變驅(qū)動(dòng)電壓，驅(qū)動(dòng)電壓高低的選擇取決于TIO2所允許的范圍，而蒸著速度的高低取決于完全致密且無(wú)吸收膜所允許之范圍。TIO2用于防反射膜，分光膜，冷光膜，濾光片，高反膜，眼鏡膜，熱反射鏡等。黑色顆粒狀和白色片狀。熔點(diǎn)：1775透光范圍（nm）N （500nm）蒸發(fā)溫度（）蒸發(fā)源應(yīng)用排放雜氣量400-12000242000-2200電子槍增透 多層膜多TIO用于防反膜，裝飾膜，濾光片，高反膜，TI2O3用于防反膜，濾光片，高反膜，眼鏡膜。名稱(chēng)：二氧化硅（SI

9、O2）經(jīng)驗(yàn)告訴我們：氧離子助鍍（IAD）SIO將是SIO2薄膜可再現(xiàn)性問(wèn)題的一個(gè)解決方法，并且能在生產(chǎn)環(huán)境中以一個(gè)可以接受的高速度蒸著薄膜。SIO2薄膜如果壓力過(guò)大，薄膜將有氣孔并且易碎，相反壓力過(guò)低薄膜將有吸收并且折射率變大，需要充分提供高能離子或氧離子以便得到合乎需要的速度和特性，必要時(shí)需要氧氣和氬氣混合充氣，但是這是熱鍍的情況，冷鍍時(shí)這種情況不存在。SIO2用于防反膜，冷光膜，濾光片，絕緣膜，眼鏡膜，紫外膜。透光范圍（nm）N （550nm）蒸發(fā)溫度（）蒸發(fā)源應(yīng)用雜氣排放量200-20001461800-2200電子槍少升華無(wú)色顆粒狀，折射率穩(wěn)定，放氣量少，和OS-10等高折射率材料組合

10、制備截止膜，濾光片等。名稱(chēng)：一氧化硅（SIO）透光范圍（nm）N （550nm）蒸發(fā)溫度（）蒸發(fā)源應(yīng)用方式600-8000155at550nm18at1000nm16at7000nm1200-1600電子槍鉬鉭舟冷光膜裝飾膜保護(hù)膜升華制程特性：棕褐色粉狀或細(xì)塊狀。熔點(diǎn)較低，可用鉬舟或鈦舟蒸蒸日上發(fā)，但需用加蓋舟因?yàn)榇朔N材料受熱直接升華。使用電子槍加熱時(shí)不能將電子束直接打在材料上而采用間接加熱法。制備塑料鏡片時(shí)，一般第一層是SIO，可以增加膜的附著力。名稱(chēng)：OH-5（TIO2+ZrO2）透光范圍（nm）N （550nm）蒸發(fā)溫度（）蒸發(fā)源應(yīng)用排放雜氣量300-800021約2400電子槍增透 一

11、般蒸氣成分為ZrO，O2，TIO，TIO2棕褐色塊狀或柱狀。尼康公司開(kāi)發(fā)之專(zhuān)門(mén)加TS-系列抗反射材料。折射率受真空度，蒸發(fā)速率，O2壓力的影響很大。蒸鍍時(shí)不加氧或加氧不充分時(shí)，制備薄膜會(huì)產(chǎn)生吸收現(xiàn)象。名稱(chēng)：二氧化鎬（ZrO2）ZrO2具有堅(jiān)硬，結(jié)實(shí)及不均勻之特性。該薄膜有時(shí)需要烘干以便除去它的吸收。其材料的純度及為重要，純度不夠薄膜通常缺乏整體致密性，它得益于適當(dāng)使用IAD來(lái)增大它的折射率到疏松值以便克服它的不均勻性。目前純度達(dá)到9999/基本上解決以上問(wèn)題。Sainty等人成功地使用ZRO2作為鋁膜和銀膜的保護(hù)膜，該膜層（指ZrO2）是在室溫基板上使用700eV氬離子助鍍而得到的。一般為白色

12、柱狀或塊狀，蒸氣分子為ZrO，O2。透光范圍（nm）N （500nm）蒸發(fā)溫度（）蒸發(fā)源應(yīng)用排放雜氣量320-70002052 at 2000約2500電子槍加硬膜 增透膜眼鏡膜一般制程特性：白色顆粒狀，柱狀或塊狀，粉狀材料使用鎢舟或鉬舟顆粒狀，粉狀材料排雜氣量較多，柱狀或塊狀較少。真空度小于2*10-5 Torr條件下蒸發(fā)可得到較穩(wěn)定的折射率，真空度大于 5*10-5 Torr 時(shí)蒸，膜折射率會(huì)稍下降。材料連續(xù)蒸著時(shí)會(huì)產(chǎn)生不均質(zhì)性，即開(kāi)始折射率為2隨著光學(xué)厚度的增長(zhǎng)，折射率逐漸變小。蒸鍍時(shí)加入一定壓力的氧氣可以改善其材料之不均質(zhì)性。名稱(chēng)：氟化鎂（MgF2）MGF2作為1/4波厚抗反射膜被普遍

13、使用來(lái)作玻璃光學(xué)薄膜，它難以或者相對(duì)難以溶解，而且會(huì)大約120nm的真實(shí)紫外線(xiàn)到大約7000nm的中部紅外線(xiàn)區(qū)域里透過(guò)性能良好。Olsen，Mcbride指出從至少200nm到6000nm的區(qū)域里，275mm厚的單晶體，MgF2是透明的，接著波長(zhǎng)越長(zhǎng)吸收性開(kāi)始增大，在10000nm透過(guò)率降到大約2%，雖然在800012000nm區(qū)域作為厚膜具有較大的吸收性，但是可以在其頂部合用一薄膜作為保護(hù)區(qū)層。不使用IAD助鍍，其膜的硬度，耐久性及密度隨基板的溫度的改變而改變的。在室溫中蒸鍍，MgF2膜層通常被手指擦傷，具有比較高的濕度變化。在真空中大約n =132，堆積密度82%，使用300蒸鍍，其堆積密

14、度將達(dá)98%，n =139它的膜層能通過(guò)消除裝置的擦傷測(cè)試并且溫度變化低，在室溫與300之間，折射率與密度的變化幾乎成正比例的。在玻璃上冷鍍MGF2加以IAD助鍍可以得到300同等的薄膜，但是125150eV能量蒸鍍可能是最適合的。在塑料上使用IAD蒸氟化鎂幾乎強(qiáng)制獲得合理的附著力與硬度。經(jīng)驗(yàn)是MGF2不能與離子碰撞過(guò)于劇烈。透光范圍（nm）N （550nm）蒸發(fā)溫度（）蒸發(fā)源應(yīng)用排放雜氣量200-7000138約1100電子槍鉬鉭鎢增透 裝飾眼鏡 少M(fèi)gF2（MgF2）2制程特性：折射率穩(wěn)定，真空度和速率的變化影響小預(yù)熔不充分或蒸發(fā)電流過(guò)大易產(chǎn)生飛濺，造成鏡片“木”不良在擋板打開(kāi)后蒸發(fā)電流不

15、要隨意加減，易飛濺。白色結(jié)晶顆粒，常用于抗反射膜，易吸潮。購(gòu)買(mǎi)時(shí)考慮其純度。名稱(chēng)：三氧化二鋁（AL2O3）普遍用作中間材料，該材料有很好的堆積密度并且在2007000nm區(qū)域的透明帶，該制程是否需要加氧氣以試驗(yàn)分析來(lái)確定，提高基板溫度可提高其折射率，在鍍膜程序不可更改情況下，以調(diào)整蒸發(fā)速率和真空度來(lái)提高其折射率。透光范圍（nm）N （550nm）蒸發(fā)溫度（）蒸發(fā)源應(yīng)用排放雜氣量200-50001632050電子槍增透 眼鏡膜保護(hù)膜一般，AL，O，ALO，O2，AL2O，（ALO）2制程特性：白色顆粒狀或塊狀，結(jié)晶顆粒狀等。非結(jié)晶狀材料雜氣排放量高，結(jié)晶狀材料相對(duì)較少折射率受蒸著真空度和蒸發(fā)速率

16、的影響較大，真空不好即速率低則膜折射率變低；真空度好蒸發(fā)速率較快時(shí)，膜折射率相對(duì)增大，接近162。AL2O3蒸發(fā)時(shí)，會(huì)產(chǎn)生少量的AL分子，造成膜吸收現(xiàn)象，加入適當(dāng)?shù)腛2時(shí)，可避免其吸收產(chǎn)生。名稱(chēng)：OS10（TIO2+ZrO2）透光范圍（nm）N （550nm）蒸發(fā)溫度（）蒸發(fā)源應(yīng)用排放雜氣量250-7000232050電子槍增透 濾光片截止膜 一般， 制程特性：棕褐色顆粒狀。雜氣拜謝量大，預(yù)熔不充分或真空度 5*10-5 Torr時(shí)蒸發(fā)，其折射率會(huì)比23小，故必須充分預(yù)熔且蒸發(fā)真空度希望2*10-5 Torr.率有成反比的趨向，蒸發(fā)此種材料時(shí)宜控制衡定的蒸發(fā)速率。材料可添加重復(fù)使用，為減少雜氣

17、排放量，盡量避免全數(shù)使用新材料。蒸氣中的TI和TIO和O2反應(yīng)生成TIO2。常用于制備抗反射膜和SIO2迭加制備各種規(guī)格的截止膜系和濾光片等。名稱(chēng)：鍺（Ge） 稀有金屬，無(wú)毒無(wú)放射性，主要用于半導(dǎo)體工業(yè)，塑料工業(yè)，紅外光學(xué)器件，航天工業(yè)，光纖通訊等。 透光范圍2000nm14000nm，n =4甚至更大，937時(shí)熔化并且在電子槍中形成一種液體，然后在1400輕易蒸發(fā)。用電子槍蒸發(fā)時(shí)它的密度比整體堆積密度低，而用離子助鍍或者激光蒸著可以得出接近于松散密度。在Ge基板上與ThF4制備幾十層的800012000nm帶通濾光片，如果容室溫度太高吸收性將有重大變化，在240-280范圍內(nèi)，在從非晶體到晶

18、體轉(zhuǎn)變的過(guò)程中Ge有一個(gè)臨界點(diǎn)。名稱(chēng)：鍺化鋅（ZnGe） 疏散的ZnGe具有一個(gè)比其相對(duì)較高的折射率，在500nm n=26，在可見(jiàn)光譜區(qū)以及1200014000nm區(qū)域具有較少的吸收性并且疏散的ZnGe沒(méi)有其材質(zhì)那么硬。使用鉭舟將其蒸發(fā)到150的基板上制備Si/ZnGe及ZnGe/LaF3膜層試圖獲到長(zhǎng)波長(zhǎng)IR漸低折射率的光學(xué)濾鏡。名稱(chēng)：氧化鉿（HfO2） 在150的基板用電子槍蒸著，折射率在20左右，用氧離子助鍍可能取得205-21穩(wěn)定的折射率，在800012000nm區(qū)HfO2用作鋁保護(hù)外層好過(guò)SiO2。透光范圍（nm）N （500nm）蒸發(fā)溫度（）蒸發(fā)源應(yīng)用排放雜氣量230-70004

19、0000nm2350電子槍增透 高反膜紫外膜 少， 無(wú)色圓盤(pán)狀或灰色顆粒和片狀。名稱(chēng)：碲化鉛（PbTe）是一種具有最高折射率的IR材料，作為薄膜材料在380040000nm是透明的，在紅外區(qū)n=51555，該材料升華，基板溫度250是有益的，健康預(yù)防是必要的。在高達(dá)40000nm時(shí)使用效果很好。別的材料常常用在超過(guò)普通的14000nm紅外線(xiàn)邊緣。名稱(chēng)：鋁氟化物（ALF3） 可以在鉬中升華，在190nm1000nm區(qū)域有透過(guò)性，n =138，有些人聲稱(chēng)已用過(guò)Eximer激光鏡，它無(wú)吸收性，在250-1000nm區(qū)域透過(guò)性良好。ALF3是冰晶石，是NaALF4的一個(gè)組成部分，且多年來(lái)一直在使用，但

20、是在未加以保護(hù)層時(shí)耐久性還未為人知。名稱(chēng)：鈰（Ce）氟化物 Hass等人研究CeF3，他們使用高密度的鎢舟蒸發(fā)發(fā)現(xiàn)在500nm時(shí)n =163，并且機(jī)械強(qiáng)度和化學(xué)強(qiáng)度令人滿(mǎn)意，他們指出在234nm和248nm的吸收最大，而在波長(zhǎng)大過(guò)大300nm時(shí)吸收可以忽略。Fujiwara用鉬舟蒸蒸日上發(fā)CeF3和CeO2混合物，得到一個(gè)160-213的合乎需要的具有合理重復(fù)性的折射率，他指出該材料的機(jī)械強(qiáng)度和化學(xué)強(qiáng)度都令人滿(mǎn)意。透光范圍（nm）N （500nm）蒸發(fā)溫度（）蒸發(fā)源應(yīng)用排放雜氣量300-5000163約1500電子槍鉬鉭鎢增透 眼鏡 少名稱(chēng)：氟化鈣（CaF2） CaF2是Heavens提出來(lái)的

21、，它可以在10-4以上的壓力下蒸發(fā)獲得一個(gè)約為 123- 128的折射率?？墒撬f(shuō)最終的膜層不那么令人滿(mǎn)意。在室溫下蒸著氟化鈣其堆積密度大約057，這與Ennos給出的疏散折射率1435相吻合，這說(shuō)明該材料不耐用并容易隨溫度變化而變化。，原圾的高拉應(yīng)力隨膜厚而降低，膜厚增大導(dǎo)致大量的可見(jiàn)光散射。可以用鎢，鉭或鉬舟蒸發(fā)且會(huì)升華，在紅外線(xiàn)中其穿透性超過(guò)12000nm，它沒(méi)有完整的致密性似乎是目前其利用受到限制的原因，隨著IAD蒸著氟化物條件的改善這種材料的使用前景更為廣闊。名稱(chēng)：氟化鋇（BaF2） 與氟化鈣具有相似的物理特性，在室溫上蒸著氟化鋇，使用較低的蒸著速度時(shí)材料的堆積密度約為 066，并且

22、密度變化與蒸著速度增大幾乎成正比，在速度為20nm/s堆積密度高達(dá)083，它的局限性又是它缺乏完全致密性。透過(guò)性在高溫時(shí)移到更長(zhǎng)的波長(zhǎng)。所以目前它只能用在紅外膜。 透光范圍（nm）N （500nm）蒸發(fā)溫度（）蒸發(fā)源應(yīng)用排放雜氣量250-15000148約1500電子槍鉬鉭鎢 紅外膜 少 名稱(chēng)：氟化鉛（PbF2） 氟化鉛在UV中可用作高折射率材料，在300nm時(shí)，n =1998，該材料與鉬，鉭，鎢舟接觸時(shí)折射率將降低，因此需要用鉑或陶瓷皿。Ennos指出氟化鉛具有相對(duì)較低的應(yīng)力，開(kāi)始是壓力，隨著膜厚度的增加張力明顯增大，但這與蒸著速度無(wú)關(guān)。透光范圍（nm）N （500nm）蒸發(fā)溫度（）蒸發(fā)源應(yīng)

23、用排放雜氣1000AL2O3坩堝鉑舟 紅外膜 少名稱(chēng)：鉻（Cr） 鉻有時(shí)用在分光鏡上并且通常用作“膠質(zhì)層”來(lái)增強(qiáng)附著力，膠質(zhì)層可能在550nm的范圍內(nèi)，但在鋁鏡膜導(dǎo)下面，30nm是增強(qiáng)附著力的有效值。顆粒狀可用鎢舟蒸發(fā)而塊狀宜用電子槍來(lái)蒸，該材料升華，但是表面氧化物可以防止它蒸發(fā)/升華，可以全用鉻電鍍鎢絲?？梢杂勉t作為膠質(zhì)層對(duì)金鏡化合物進(jìn)行韌性處理，也可在塑料上使用鉻作為膠質(zhì)層。也可使用一個(gè)螺旋狀的鎢絲蒸發(fā)。它應(yīng)該是所有材料中具有最高拉應(yīng)力的材料。透光范圍（nm）N （500nm）蒸發(fā)溫度（）蒸發(fā)源應(yīng)用眼鏡膜排放雜氣量約1513001400電子槍鎢舟吸收膜 分

24、光膜導(dǎo)電膜 加硬膜 名稱(chēng)：鋁（AL） 不管是裝飾膜還是專(zhuān)業(yè)膜都是普遍用于蒸發(fā)/濺鍍鏡膜，常用鎢絲來(lái)蒸發(fā)鋁絲，在紫外域中它是普通金屬中反射性能最好的一種，在紅外域中不及Cu，Ag，Au。鋁原先有一個(gè)比較高的拉應(yīng)力，在不透明厚度時(shí)，該拉應(yīng)力降低到一個(gè)小的壓應(yīng)力，并且蒸著以后拉應(yīng)力進(jìn)一步降低。名稱(chēng)：銀（Ag） 如果蒸著速度足夠快并且基板溫度不很高時(shí)，銀和鋁一樣具有良好的反射性，這是在高速低溫下大量集結(jié)的結(jié)果，這一集結(jié)同時(shí)導(dǎo)致更大的吸收性。銀（Ag）通常不浸濕鎢絲，但是往往形成具有高表面張力的液滴，它可以用一高緊密性的螺旋式鎢絲來(lái)蒸發(fā)，從而避免液滴下掉。有人先在一個(gè)V型的鎢絲上繞幾圈鉑絲接著繞上銀絲，

25、銀絲可以浸濕鉑絲但沒(méi)有浸濕鎢絲。銀,鋁,金,還有銅等,它們的折射率在此我就不列出了,太累,相關(guān)資料上可以找到.名稱(chēng)：金（Au）金在紅外線(xiàn)1000nm波長(zhǎng)以上是已知材料中具有最高反射性的材料，作為一種貴重金屬，它具有較強(qiáng)的化學(xué)堅(jiān)硬性，由于它的可塑性因而抗擦傷性能低，Au可用鎢或氮化硼舟皿或者電子槍來(lái)蒸發(fā)。（不能與鉑舟蒸發(fā)，它與鉑很快合金）。Au對(duì)玻璃表面的附著力低，因面通常使用一層鉻作膠質(zhì)層。可用氧離子助鍍使金的附著力得到上百倍的改善，在不透明性達(dá)到后即中止IAD，并且最后的薄膜中不含有氧，摻氧將降低薄膜的反射率。名稱(chēng)：銦錫氧化物和電鉻材料 銦錫氧化物（ITO）和In3O5SnO2有相對(duì)良好的導(dǎo)

26、電性和可見(jiàn)光穿透性。這樣的薄膜在數(shù)據(jù)顯示屏和抗熱防霜裝置等方面已有很大原需求。在建筑上可用作擇光窗和可控穿透窗。ITO n=185 at 500nm 熔化溫度約1450攝氏度。名稱(chēng)：H1透光范圍（nm）N （500nm）蒸發(fā)溫度（）蒸發(fā)源應(yīng)用排放雜氣量360-70002122002400電子槍鎢舟防反射 眼鏡膜 少名稱(chēng)：H2透光范圍（nm）N （500nm）蒸發(fā)溫度（）蒸發(fā)源應(yīng)用排放雜氣量400-50002122002200電子槍鎢舟防反射 眼鏡膜 少名稱(chēng)：H4透光范圍（nm）N （500nm）蒸發(fā)溫度（）蒸發(fā)源應(yīng)用排放雜氣量360-70002122002300電子槍鉬舟防反射 眼鏡膜 濾光片

27、 少名稱(chēng)：M1透光范圍（nm）N （500nm）蒸發(fā)溫度（）蒸發(fā)源應(yīng)用排放雜氣量300-9000172200電子槍防反射 偏光膜 少名稱(chēng)：M2透光范圍（nm）N （500nm）蒸發(fā)溫度（）蒸發(fā)源應(yīng)用排放雜氣量210-10000172100電子槍防反射 偏光膜 分光膜少名稱(chēng)：M3透光范圍（nm）N （500nm）蒸發(fā)溫度（）蒸發(fā)源應(yīng)用排放雜氣量220-10000182100電子槍防反射 偏光膜 分光膜少名稱(chēng)：H5透光范圍（nm）N （500nm）蒸發(fā)溫度（）蒸發(fā)源應(yīng)用排放雜氣量210-10000222100電子槍防反射 濾光片少名稱(chēng)：氧化鉭（Ta2O5）透光范圍（nm）N （500nm）蒸發(fā)溫度

28、（）蒸發(fā)源應(yīng)用排放雜氣量400-70002119002200電子槍防反射 干涉濾光片少名稱(chēng)：WR-1透光范圍（nm）N （500nm）蒸發(fā)溫度（）蒸發(fā)源應(yīng)用排放雜氣量380-700約15360450鉬舟頂層膜 眼鏡膜 少名稱(chēng)：WR-2透光范圍（nm）N （500nm）蒸發(fā)溫度（）蒸發(fā)源應(yīng)用排放雜氣量380-700約15360450電子槍鉬舟頂層膜 防水膜眼鏡膜 少名稱(chēng)：WR-3透光范圍（nm）N （500nm）蒸發(fā)溫度（）蒸發(fā)源應(yīng)用排放雜氣量380-700約13350500鉬舟頂層膜 保護(hù)膜眼鏡膜 少名稱(chēng)：L-5透光范圍（nm）N （500nm）蒸發(fā)溫度（）蒸發(fā)源應(yīng)用排放雜氣量300-7000148約2000電子槍防反膜 眼鏡膜 少名稱(chēng)：錐冰晶石（Na5AL3F14）