高速硬鉻電鍍工藝

1、精選優(yōu)質文檔-傾情為你奉上 高速硬鉻電鍍工藝 特點：工作在非常高的陰極效率減邊緣積聚工作在高電流密度好公差雜質的優(yōu)點：高鉻沉積速率減后需要磨板需要減少電鍍時間易于操作和維護高效鍍鉻溶液眾所周知，鍍鉻的電流效率在電鍍中是最低的，一般只有13左右，因此如何提高電流效率一直是電鍍工作者追求的目標。提高電流效率就意味著節(jié)省用電，從而可降低生產成本。高效鍍鉻多是在鍍鉻溶液中引入鹵族元素和一些有機添加劑來達到的。隨著對鍍鉻添加劑研究工作的逐漸深入，原先電鍍工作者認為有機添加劑加到鍍鉻溶液中去是不適宜的。這是因為鉻酸是強氧化性的酸，濃度和溫度又如此之高，有機添加劑在這樣強氧化性介質中是難以存在的，也就是很快

2、就會氧化變得烏有；但實踐結果大不一樣：某些有機化合物在這樣強氧化性的鉻酸溶液中能長期存在，并顯得非常穩(wěn)定，從而使鍍鉻工藝改革進入到一種"山窮水盡疑無路，柳暗花明又一村"的新境界!如瑞士專利CHA5，敘述了一種混合有機酸組成的添加劑，此添加劑含丙酸、乳酸、戊酸、丹寧酸、新戊基乙二醇、苯磺酸、8一羥基喹啉、對苯二酚、4一甲苯基磺酰胺和六氟磺酸等，加入量為l5gL左右，鍍液溫度在63、陰極電流密度在150Adm2的條件下，電鍍時間25min，鍍層厚度達到75m，即每分鐘可沉積3m，鍍層硬度為HVl350，并有寬廣的電流密度范圍。這種鍍液的陰極電流效率可達2848，但問題是這種鍍液

3、是含氟的，對鉛陽極和低電流密度區(qū)的鍍件有腐蝕作用。也有將低碳鏈的烷基磺酸及其鹽類作為鍍鉻的添加劑，研究所用的鍍液和工藝條件為：鉻酐 200300gL 硫酸 23gL硼酸 ll0gL 低碳烷基磺酸 l5gL鍍液溫度5565，允許使用的電流密度在2080Adm2的。在此條件下，所得到的鍍鉻層外觀平滑光亮，顯微硬度大于HVll00。根據(jù)所使用的烷基磺酸鹽分子中硫與碳的原子數(shù)之比不同，鍍液的陰極電流效率也不一樣。SC1時，陰極電流效率可達27；當碳鏈加長時，鍍液的電流效率下降。如碳鏈有四個碳原子以上時，對鍍液的陰極電流效率就起不到作用。20世紀80年代后期，某國際較著名的公司在他們申請的歐洲專利中指出

4、，在以鉻酸和磺基醋酸為基本成分的鍍鉻溶液中，加入碘酸鹽和含氮的有機化合物，獲取了外觀平滑光亮、高硬度和耐磨性好的鉻鍍層。其推薦的鍍液組成和工藝條件如下：鉻酐 200300gL 磺基醋酸 80120gL碘酸鹽 13gL 含氮有機化合物 315gL硫酸 23gL鍍液溫度5060，允許使用的電流密度在2080Adm2，陰極電流效率達20以上。在此鍍液中，含氮的有機化合物包括煙酸、甘氨酸、異煙酸、吡啶、2一氨基吡啶、3一氯代吡啶和皮考啉酸等。從目前已經發(fā)表的文獻來看，某些有機添加劑確實對鍍鉻溶液起到良好的作用；有機添加劑與鹵素釋放劑聯(lián)合使用，可能會得羽更好的協(xié)同效果，有望進一步改革鍍鉻工藝。鹵素釋放劑

5、一般是指碘酸鉀、溴酸鉀、碘化鉀和溴化鉀等。國外有機添加劑用于鍍鉻溶液的時間始于20世紀80年代，我國的有機添加劑約晚國外10年，才開始以商品形式出售。Anthony DBarnyi提出，在鍍鉻溶液中加入氨基乙酸和氨基丙酸可提高陰極電流效率，l980年Chessin和Newby提出采用鹵代二酸和氟化物混合作為鍍鉻的光亮劑。l985年美國安美特公司推出了高效無低電流區(qū)腐蝕的HEEF-25鍍鉻新工藝，平均電流效率可達25左右，稍后該公司又推出了一種電流效率更高的HEEF-40鍍鉻工藝。l986年Chessin將碘酸鉀、溴化鉀等與有機酸相合用，作為鍍鉻的光亮劑。l995年，山西大學研制成功了不含氟、無

6、低電流腐蝕的CH型鍍硬鉻添加劑。l997年，上海永生助劑廠也研制成功了3HC-25鍍硬鉻添加劑，該添加劑不含氟、不含稀土，無低電流腐蝕，平均電流效率可達25左右；2001年，該廠又試驗成功了4HC高效裝飾性鍍鉻添加劑，該添加劑非但有較高的電流效率(平均23左右)和較高的光亮度，更佳的還在于它有極好的分散能力和覆蓋能力(超過稀土鍍鉻)，從而可解決幾何形狀較復雜的零件鍍裝飾鉻的難題。江西南方冶金學院推出的HCr-2高效快速鍍硬鉻工藝，電流效率可達5055，鍍液分散能力好，鍍層清亮少毛刺。這種硬鉻鍍液的鉻酐濃度高達800gL以上，使用自然有一定局限性。2010年濟南泰格化工有限公司推出dw-032高

7、效鍍鉻添加劑，電流效率可達40%，已成功應用到連鑄結晶器銅管，液壓缸活塞桿鍍鉻上。并取得較好的經濟效益。液壓缸活塞桿高耐蝕鍍鉻添加劑dw-032采用抗鉻酸氧化的新材料，分解產物夾雜在鍍層內，對鍍液沒有副作用，屬于世界上最好的綠色環(huán)保鍍鉻添加劑。比普通鍍鉻硬度增加300HV，耐磨性提高3倍，深度能力提高5倍，分散能力更佳，赫爾槽試片，鍍鉻層完全覆蓋，全光亮。比現(xiàn)在最好的鍍鉻走位劑（赫爾槽試片達90%）還好，完全沒有鍍不上的地方，對于復雜件，不用制作輔助陽極，是鍍鉻史上一次革命，鍍鉻耐鹽霧超過192小時。 電流效率可達25-45%，是傳統(tǒng)鍍鉻添加劑，永遠也達不到的。Dw-032鍍鉻添加劑是第四代鍍

8、鉻添加劑的換代產品，該工藝電流效率高、沉積速度快、省電、省時、成本低、硬度高、有微裂紋、鍍層均勻、光亮、無氟、無腐蝕。鍍液性能更穩(wěn)定，操作更方便，鍍層性能進一步提高。Dw-032系列鍍鉻添加劑屬于世界最新一代鍍鉻催化劑及工藝，也是國內最早推出的新型鍍鉻添加劑，它克服了硫酸催化劑，氟化物催化劑的許多不足之處，不斷完善的工藝技術，多年的經驗積累，使鍍鉻工藝達到了新的高度。該工藝適合于鍍硬鉻、微裂紋鉻，裝飾鉻等。廣泛應用在結晶器銅管鍍鉻，缸套鍍鉻，活塞桿鍍鉻，減震器鍍鉻，造紙機烘缸，石油機械，石油泵筒，模具行業(yè)等。 工藝特點 1、陰極電流效率高達35-45。沉積速度快，大約可節(jié)約4050的電費。 2

9、、不含氟、無稀土、無磺酸，無陰極低電流區(qū)腐蝕。 3、不會猛烈侵蝕鉛錫陽極，無需使用特殊陽極材料。（因加入陽極腐蝕抑制劑） 4、光潔度好，高均鍍能力。高分散能力，方形件內口四角可均勻鍍鉻。角部鍍層后度接近面厚度。 5、鍍層硬度高，可達HV1000-1200以上。 6、能產生微裂紋，微裂紋數(shù)可達800-1600條厘米（根據(jù)需要調節(jié)），提高抗腐蝕能力?；钊麠U耐鹽霧可達192小時以上。減震器桿耐鹽霧192小時以上。 7、電流密度范圍寬，可使用高達90安培平方分米以上。按高電流電流效率可達45，鍍速提高1.2倍。 8、鍍層與基體結合力極佳，即使是細小部分，鉻層也不會脫落。真正達到鍍鉻層即硬度高，又潤性好，極抗磨。 9、摩擦系數(shù)小，耐磨性是普通鍍鉻液的三倍。提高過鋼量，比普通添加劑提高2000噸。 10，尤其適合同電鍍鎳鈷合金配套使用，結合力好，成倍提高過鋼