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中國(guó)光掩模玻璃基板行業(yè)需求現(xiàn)狀分析一、光掩模玻璃基板行業(yè)概況光學(xué)掩模板,又稱光掩模板或光罩等,在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并精確定位,以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結(jié)構(gòu),是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版。光掩模基版(基板)是制作微細(xì)光掩模圖形的感光性空白板,比如光掩模鉻版基板,是光掩模板基體材料上鍍鉻所得到的感光性空白板,再通過光刻制版等工序就可以獲得所需光掩模板。光掩膜板分類如下:光掩模玻璃基板根據(jù)玻璃組分,分為合成石英掩?;?、硼硅玻璃掩模基板和蘇打玻璃(鈉鈣玻璃)掩?;宓?。成石英掩?;?,是指合成石英錠,經(jīng)熱改型、冷加工等加工后制作石英空白光掩模基板,也稱作石英白板。硼硅玻璃光掩?;澹侵冈谂鸸璨AгA(chǔ)上,經(jīng)過加工后制作硼硅玻璃空白掩?;濉LK打玻璃基板,是指在鈉鈣玻璃原片基礎(chǔ)上,經(jīng)過加工后制作鈉鈣玻璃空白掩模基板。二、中國(guó)光掩模玻璃基板行業(yè)市場(chǎng)現(xiàn)狀分析我國(guó)的光掩模制作始于60年代中期,比國(guó)外晚5~6年。近年來我國(guó)光掩模玻璃基板需求增長(zhǎng)穩(wěn)定,據(jù)統(tǒng)計(jì),2019年我國(guó)光掩模玻璃基板需求量為9.98萬平方米,同比增長(zhǎng)10.9%,占全球總需求的36.8%。其中集成電路(IC)領(lǐng)域需求量4.678萬平方米,同比增長(zhǎng)16.42%,占總需求量的46.87%;平面顯示(FPD)領(lǐng)域需求量4.767萬平方米,同比增長(zhǎng)8.33%,占總需求量的47.77%;其他領(lǐng)域需求量0.535萬平方米,同比減少8.11%,占總需求量的5.36%。從各基板產(chǎn)品需求量來看,其中光掩模石英玻璃基板需求4.221萬平方米,同比增長(zhǎng)23.86%,占總需求量的42.29%;光掩模蘇打玻璃基板需求量4.991萬平方米,同比增長(zhǎng)5.86%,占總需求量的50.01%;其他光掩模玻璃基板需求量0.767萬平方米,同比減少12.58%,占總需求量的7.69%。三、光掩模玻璃基板相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)目前我國(guó)與光掩模玻璃基板有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)有15項(xiàng),其中國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)8項(xiàng),國(guó)家軍用標(biāo)準(zhǔn)1項(xiàng),行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)6項(xiàng):四、中國(guó)光掩模玻璃基板行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)1、國(guó)家主要法律法規(guī)政策引導(dǎo)和推動(dòng)行業(yè)發(fā)展為提升我國(guó)平板顯示和半導(dǎo)體芯片等行業(yè)配套材料的國(guó)產(chǎn)化率,改善產(chǎn)業(yè)發(fā)展環(huán)境,促進(jìn)行業(yè)持續(xù)、健康發(fā)展,國(guó)家相關(guān)部門出臺(tái)了一系列法律法規(guī)及政策,為光掩模玻璃基板行業(yè)持續(xù)穩(wěn)定發(fā)展提供了有力保障。2、光掩模玻璃基板產(chǎn)品尺寸趨向大型化(1)大直徑是硅片未來發(fā)展方向隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展和市場(chǎng)需求的變化,大尺寸硅片占比將逐漸提升。在圓形硅片上制造矩形的硅片會(huì)使硅片邊緣處的一些區(qū)域無法被利用,從而帶來部分浪費(fèi),隨著晶圓尺寸的增大,損失比就會(huì)減小。目前8英寸(1英寸=25.4mm)硅片主要用于生產(chǎn)功率半導(dǎo)體和微控制器,邏輯芯片和存儲(chǔ)芯片則需要12英寸硅片。(2)顯示面板的大屏化發(fā)展決定了光掩模玻璃基板產(chǎn)品尺寸趨向大型化顯示屏世代線代數(shù)是按照生產(chǎn)顯示屏使用的基板尺寸來界定的,基板尺寸越大,其世代線越高,而越高的世代線經(jīng)切割后所能產(chǎn)生的屏幕尺寸就越大。粗略區(qū)分,G1~G4代線主要針對(duì)筆記本電腦,G4~G5代主要針對(duì)電腦顯示屏幕,G6代線以上的生產(chǎn)線主要為電視屏幕所用。而隨著基板的大型化,為了提高生產(chǎn)效率需要更大的曝光面積,光掩模玻璃基板的尺寸也隨之增加。3、應(yīng)加大力度消除發(fā)展短板(1)我國(guó)光掩模玻璃基板產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新能力有待提高光掩模板主要由玻璃基板與遮光膜兩部分組成,其中玻璃基板成本占整體材料成本的90%。目前被用來制作光掩模板基本的材料包括合成石英、硼硅玻璃和蘇打玻璃等,其中合成石英最為化學(xué)穩(wěn)定,具有高硬度、低膨脹系數(shù)和透光性強(qiáng)等優(yōu)勢(shì),被廣泛運(yùn)用到具有較高精度要求的產(chǎn)品生產(chǎn)中。考慮到成本和純度要求,目前廠商使用的主要材料為合成石英基板。我國(guó)僅有湖北菲利華石英玻璃股份有限公司、江蘇太平洋石英股份有限公司以及中國(guó)建筑材料科學(xué)研究總院等少數(shù)幾家企業(yè)具有生產(chǎn)光掩模石英基板初級(jí)產(chǎn)品能力。(2)光掩模玻璃基板產(chǎn)業(yè)鏈短板明顯據(jù)統(tǒng)計(jì),2018年我國(guó)TFTLCD及AMOLED光掩模板的國(guó)產(chǎn)化率為9.70%,其中AMOLED/LTPS等高精度光掩模板的國(guó)產(chǎn)化率僅為2.50%。對(duì)于光掩模石英玻璃基板來說,由于產(chǎn)業(yè)鏈技術(shù)問題,其國(guó)產(chǎn)化能力幾乎為零。目前國(guó)內(nèi)光掩模玻璃基板產(chǎn)業(yè)鏈沒有打通,光掩模石英玻璃基板產(chǎn)品仍需在日、韓精加工(精磨、鍍膜)后,才能返回國(guó)內(nèi)光掩模板廠商進(jìn)行光刻,雖然一些公司已與日、韓以及國(guó)內(nèi)掩模版廠商建立了良好的合作關(guān)系,但仍然在一定程度上制約光掩模玻璃基板的發(fā)展。總之,隨著半導(dǎo)體集成電路(IC
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