標(biāo)準(zhǔn)解讀
GB/T 17473.3-1998 是一項(xiàng)中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn),專(zhuān)注于厚膜微電子技術(shù)領(lǐng)域中使用的貴金屬漿料的測(cè)試方法,特別是對(duì)方阻(也稱(chēng)方形電阻)的測(cè)定進(jìn)行了規(guī)定。該標(biāo)準(zhǔn)旨在為行業(yè)內(nèi)貴金屬漿料的質(zhì)量控制和性能評(píng)估提供統(tǒng)一的測(cè)試流程與評(píng)價(jià)依據(jù)。
標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)容概覽
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范圍:標(biāo)準(zhǔn)明確了其適用對(duì)象為厚膜微電子技術(shù)中使用的各類(lèi)貴金屬漿料,如金、銀、鉑等材料的漿料。重點(diǎn)在于規(guī)定了這些漿料在印刷、燒結(jié)后形成的導(dǎo)電膜的方阻測(cè)量方法。
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術(shù)語(yǔ)和定義:對(duì)方阻及相關(guān)的專(zhuān)業(yè)術(shù)語(yǔ)進(jìn)行明確定義,確保測(cè)試過(guò)程中的概念清晰無(wú)誤。
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原理:簡(jiǎn)述了方阻測(cè)定的基本物理原理,即通過(guò)測(cè)量導(dǎo)體的電阻值并結(jié)合其幾何尺寸(通常是面積和長(zhǎng)度)來(lái)計(jì)算電阻率的一種方法。這對(duì)于評(píng)估導(dǎo)電膜的導(dǎo)電性能至關(guān)重要。
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試驗(yàn)條件:詳細(xì)規(guī)定了進(jìn)行方阻測(cè)試時(shí)所需的環(huán)境條件,如溫度、濕度等,以及試樣制備的具體要求,包括漿料的印刷方式、燒結(jié)條件等,以保證測(cè)試結(jié)果的可重復(fù)性和準(zhǔn)確性。
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試驗(yàn)設(shè)備與儀器:列舉了實(shí)施方阻測(cè)試所需的各種設(shè)備和儀器,如四探針測(cè)試儀、精密電阻計(jì)等,并對(duì)這些設(shè)備的精度和校準(zhǔn)要求做出了說(shuō)明。
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試驗(yàn)步驟:詳細(xì)描述了從試樣制備到方阻測(cè)量的全過(guò)程,包括但不限于試樣的裁剪、清潔、接觸探針的放置、電阻的測(cè)量以及數(shù)據(jù)處理方法。
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結(jié)果計(jì)算與表達(dá):提供了方阻計(jì)算公式,并對(duì)方阻值的表示方式、單位及精度要求進(jìn)行了規(guī)范,確保測(cè)試結(jié)果的標(biāo)準(zhǔn)化表達(dá)。
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試驗(yàn)報(bào)告:規(guī)定了試驗(yàn)報(bào)告應(yīng)包含的信息內(nèi)容,如樣品信息、測(cè)試條件、所用設(shè)備、測(cè)試結(jié)果及任何偏離標(biāo)準(zhǔn)操作程序的說(shuō)明,以確保測(cè)試的透明度和可追溯性。
實(shí)施意義
該標(biāo)準(zhǔn)的實(shí)施有助于提升厚膜微電子行業(yè)中貴金屬漿料質(zhì)量的一致性和可靠性,為制造商、用戶(hù)及第三方檢測(cè)機(jī)構(gòu)提供了統(tǒng)一的測(cè)試基準(zhǔn),促進(jìn)技術(shù)交流與產(chǎn)品互認(rèn),同時(shí)也有助于推動(dòng)該領(lǐng)域的技術(shù)創(chuàng)新與發(fā)展。
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- 被代替
- 已被新標(biāo)準(zhǔn)代替,建議下載現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)GB/T 17473.3-2008
- 1998-08-19 頒布
- 1999-03-01 實(shí)施




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GB/T 17473.3-1998厚膜微電子技術(shù)用貴金屬漿料測(cè)試方法方阻測(cè)定-免費(fèi)下載試讀頁(yè)文檔簡(jiǎn)介
!CS77.040.01H21中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB/T17473.3-1998厚膜微電子技術(shù)用貴金屬漿料測(cè)試方法方阻測(cè)定Testmethodsofpreciousmetalpastesusedforthickfilmnmicroelectronicseterminationoffsheetresistance1998-08-19發(fā)布1999-03-01實(shí)施國(guó)家質(zhì)量技術(shù)監(jiān)督局發(fā)布
中華人民共和國(guó)園家標(biāo)準(zhǔn)厚膜微電子技術(shù)用貴金屬漿料試方法方阻測(cè)定GB/T17473.3-1998中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)出版社出版發(fā)行北京西城區(qū)復(fù)興門(mén)外三里河北街16號(hào)郵政編碼:10X45電話(huà):63787337、637874471999年3月第一版2005年1月電子版制作書(shū)號(hào):155066·115491版權(quán)專(zhuān)有侵權(quán)必究舉報(bào)電話(huà):(010)68533533
GB/T17473.3-1998前方阻是貴金屬漿料的一個(gè)重娶參數(shù),也是漿料在產(chǎn)品生產(chǎn)、科研和使用中質(zhì)世控制的一個(gè)重要指標(biāo)。目前我國(guó)尚未制定出漿料方阻的測(cè)試方法標(biāo)準(zhǔn),也沒(méi)有查閱到有關(guān)該測(cè)試方法的國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)或國(guó)外先進(jìn)標(biāo)準(zhǔn)。本標(biāo)準(zhǔn)主要參照有關(guān)的技術(shù)資料,結(jié)合對(duì)漿料的方阻測(cè)最實(shí)際情況而制定的。本標(biāo)準(zhǔn)的附錄A是標(biāo)準(zhǔn)的附錄。本標(biāo)準(zhǔn)由中國(guó)有色金屬工業(yè)總公司提出。標(biāo)準(zhǔn)由中國(guó)有色金屬工業(yè)總公司標(biāo)準(zhǔn)計(jì)量研究所歸口。本標(biāo)準(zhǔn)由昆明貴金屬研究所負(fù)責(zé)起草。本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:陳一、金勿毀。
中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)厚膜微電子技術(shù)用貴金屬漿料測(cè)試方法方阻測(cè)定GB/T17473.3-1998Testmethodsofpreciousmetalpastesusedforthickfilmmicroelectronics-Determinationofsheetresistance1范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了貴金屬漿料方阻的測(cè)試方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于貴金屬燒結(jié)型漿料方阻的測(cè)定。非貴金屬漿料亦可參照使用2引用標(biāo)準(zhǔn)下列標(biāo)準(zhǔn)所包含的條文,通過(guò)在本標(biāo)準(zhǔn)中引用而構(gòu)成為本標(biāo)準(zhǔn)的條文。本標(biāo)準(zhǔn)出版時(shí).所示版本均為有效。所有標(biāo)準(zhǔn)都會(huì)被修訂,使用本標(biāo)準(zhǔn)的各方應(yīng)探討使用下列標(biāo)準(zhǔn)最新版本的可能性。GB/T2421—1989電工電子產(chǎn)品基本環(huán)境試驗(yàn)規(guī)程總則GB/T8170—1987數(shù)值修約規(guī)則3原理將漿料用絲網(wǎng)印刷在陶瓷基片上,經(jīng)燒成后,膜層在一定溫度及其厚度、寬度不變的情況下,其電阻與膜層帶的長(zhǎng)度成正比。通過(guò)測(cè)量規(guī)定膜層長(zhǎng)度下的電阻,可計(jì)算出方阻,4材料4.1試樣基片為Al.O),含量不少于95%的陶瓷基片,其表面粗糙度范圍為0.5~1.5m(在測(cè)量距離為10mm的條件下測(cè)量)。5儀器與設(shè)備5.1數(shù)字式電阻/電壓多用表,范圍為100g0~100M0,分牌率為6→位有效數(shù)字,可四線(xiàn)量測(cè)。5.2超高值絕緣電阻測(cè)量?jī)x:范圍為1×10°~1×10"0,精度為±2%。5.3光切顯微測(cè)厚儀:最程為0~5mm,精度為0.001mm.5.4厚膜印刷機(jī)。5.5紅外干燥箱:溫度范圍為室溫~300C,控溫精度為士1C。5.6S隧道燒結(jié)爐:溫度范圍為室溫~1000℃,控溫精度為士2
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