標(biāo)準(zhǔn)解讀
GB/T 20175-2006是一項(xiàng)關(guān)于表面化學(xué)分析中濺射深度剖析的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn),重點(diǎn)介紹了使用層狀膜系作為參考物質(zhì)來優(yōu)化分析過程的方法。該標(biāo)準(zhǔn)旨在為材料科學(xué)、半導(dǎo)體技術(shù)、微電子學(xué)等領(lǐng)域中的表面分析提供精確、可重復(fù)的測量指導(dǎo)。
標(biāo)準(zhǔn)核心內(nèi)容
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范圍:規(guī)定了在進(jìn)行濺射深度剖析時(shí),如何選擇和使用層狀參考物質(zhì)來校準(zhǔn)和優(yōu)化分析儀器,確保分析結(jié)果的準(zhǔn)確性和可靠性。適用于使用離子束濺射技術(shù)進(jìn)行表面微區(qū)成分分析的情況。
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術(shù)語和定義:明確了與濺射深度剖析相關(guān)的專業(yè)術(shù)語,包括濺射速率、參考物質(zhì)、層狀膜系等,為讀者提供了清晰的概念基礎(chǔ)。
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參考物質(zhì)的選擇與制備:詳細(xì)說明了用于校準(zhǔn)的參考物質(zhì)應(yīng)具備的特性,如均勻性、穩(wěn)定性、已知的層結(jié)構(gòu)和成分等。同時(shí),介紹了參考物質(zhì)的制備方法,強(qiáng)調(diào)了清洗、沉積技術(shù)和表征的重要性。
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儀器校準(zhǔn):闡述了如何利用選定的層狀膜系參考物質(zhì)對濺射深度剖析儀器進(jìn)行校正,包括濺射速率的測定、質(zhì)量靈敏度因子的確定等,確保分析過程中參數(shù)設(shè)置的準(zhǔn)確性。
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數(shù)據(jù)分析方法:提供了數(shù)據(jù)處理和分析的推薦步驟,包括如何根據(jù)參考物質(zhì)的濺射特性校正實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù),以及如何通過這些校正提高深度剖析結(jié)果的精度和置信度。
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質(zhì)量控制:強(qiáng)調(diào)了在分析過程中實(shí)施質(zhì)量控制措施的重要性,包括定期重復(fù)校準(zhǔn)、監(jiān)控參考物質(zhì)的穩(wěn)定性和記錄詳細(xì)的實(shí)驗(yàn)條件,以維持分析結(jié)果的一致性和可靠性。
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附錄:包含了額外的信息和示例,如參考物質(zhì)的認(rèn)證程序、特定分析技術(shù)的注意事項(xiàng)等,為實(shí)際操作提供了進(jìn)一步的指導(dǎo)和支持。
實(shí)施意義
本標(biāo)準(zhǔn)通過標(biāo)準(zhǔn)化濺射深度剖析中參考物質(zhì)的選擇、儀器校準(zhǔn)及數(shù)據(jù)分析流程,提升了表面化學(xué)分析的標(biāo)準(zhǔn)化水平和結(jié)果的互換性。它為科研人員和工業(yè)界提供了一套系統(tǒng)的方法論,有助于提高材料表面分析的準(zhǔn)確度和效率,對于新材料開發(fā)、產(chǎn)品質(zhì)量控制以及科學(xué)研究具有重要意義。
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2006-03-27 頒布
- 2006-11-01 實(shí)施
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GB/T 20175-2006表面化學(xué)分析濺射深度剖析用層狀膜系為參考物質(zhì)的優(yōu)化方法-免費(fèi)下載試讀頁文檔簡介
ICS71.040.40N33中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)GB/T20175-2006/ISO14606:2000表面化學(xué)分析斌射深度部析用層狀膜系為參考物質(zhì)的優(yōu)化方法Surfacechemicalanalysis-Sputterdepthprofiling-Optimizationusinglayeredsystemasreferencematerials(ISO14606:2000,IDT)2006-03-27發(fā)布2006-11-01實(shí)施中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
GB/T20175-2006/ISO14606:2000次前言引言1范圍2術(shù)語和定義3符號和縮略語4藏射深度部析的參數(shù)設(shè)定5誠射深度部析時(shí)理想突變界面的深度分辨6參數(shù)設(shè)定優(yōu)化的步驃附錄A(資料性附錄)影響深度分辨的因素附錄B(資料性附錄)典型單層膜系參考物質(zhì)附錄C(資料性附錄)典型多層膜系參考物質(zhì)附錄D(資料性附錄)多層膜系的使用參考文獻(xiàn)
GB/T20175-2006/ISO14606:2000前本標(biāo)準(zhǔn)等同采用ISO14606:2000《表面化學(xué)分析濺射深度部析用用層狀膜系作為參考物質(zhì)的優(yōu)化方法》。本標(biāo)準(zhǔn)附錄A、附錄B、附錄C、附錄D為資料性附錄本標(biāo)準(zhǔn)由全國徽束標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提出。本標(biāo)準(zhǔn)由全國微束標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)歸口本標(biāo)準(zhǔn)負(fù)責(zé)起草單位:清華大學(xué)電子工程系。本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:查良鎮(zhèn)、陳旭、王光普、黃雁華、黃天斌、劉林、葛欣、桂東
GB/T20175-2006/ISO14606:2000在硅片、多層膜器件(如AIGaAs雙異質(zhì)結(jié)激光器,各種高電子遷移率晶體管)和車體防腐作用合金-鍍鋅鋼等材料中,參考物質(zhì)用于優(yōu)化濺射部析方法的深度分辨本標(biāo)準(zhǔn)的具體應(yīng)用范圍如下:“)在俄歇電子能譜、X射線光電子能譜和二次離子質(zhì)譜的儀器設(shè)定時(shí).用襯底上單層和多層膜系為參考物質(zhì)來優(yōu)化深度分辨。用這些膜系來說明濮射弧坑的平滑度、弧坑底的傾斜度、樣品漂移以及各種濮射條件(如離子?xùn)|流密度)的漂移等因素對深度分辨的影響。用用這些膜系來說明濺射誘導(dǎo)的表面粗糙度和濾射誘導(dǎo)的原子混合等因素對深度分辨的影響,用這些膜系為儀器供應(yīng)者和用戶來評估儀器的性能。本標(biāo)準(zhǔn)是適時(shí)的,可成為進(jìn)一步發(fā)展濮射深度部析的基礎(chǔ)在參考文獻(xiàn)-中給出與本標(biāo)準(zhǔn)相關(guān)ISO指南的目錄。注:在本標(biāo)準(zhǔn)制定過程中.用多層摻雜膜系參考物質(zhì)評估深度分辨參數(shù)的方法已在二次離子質(zhì)譜學(xué)中退速發(fā)展和廣泛應(yīng)用,并由ISO/SC6二次離子質(zhì)譜分委員會(huì)立項(xiàng)制定相關(guān)的ISO標(biāo)準(zhǔn)。ISO20341國際標(biāo)準(zhǔn)(表面化學(xué)分析二次離子質(zhì)譜用多6層參考物質(zhì)評估深度分養(yǎng)參數(shù)的方法)已于2003年7月15日頒布
GB/T20175—2006/IS014606:2000表面化學(xué)分析斌射深度部析用層狀膜系為參考物質(zhì)的優(yōu)化方法1范圍為使俄歇電子能譜、X射線光電子能譜和二次離子質(zhì)譜的儀器設(shè)定達(dá)到深度分辨的優(yōu)化目的.本標(biāo)準(zhǔn)采用適當(dāng)?shù)膯螌雍投鄬幽は祬⒖嘉镔|(zhì),提供優(yōu)化灘射深度部析參數(shù)的指南。特殊多層膜系(如各種摻雜層膜系)的使用不包括在本標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)。術(shù)語和定義本標(biāo)準(zhǔn)采用下列術(shù)語和定義住1:本標(biāo)準(zhǔn)采用的術(shù)語主要引自ASTME673—97。術(shù)語的定義做了一些修改以便與正由ISO/TC201/SC1制定的術(shù)語保持一致。住2:ISO18115表面化學(xué)分析術(shù)語國際標(biāo)準(zhǔn)已于2001年7月15日頒布2.1分析面積analysisarca被測平面內(nèi)樣品表面的二維區(qū)域,從此區(qū)域內(nèi)檢測到全部或指定百分比的信號22弧坑邊緣效應(yīng)Crateredgeeffect來自弧坑邊緣的信號,通常是在深度部析時(shí)由于弧坑邊緣比弧坑中心區(qū)淺而引起的23誠射深度刮析sputterdepthprofile當(dāng)材料被濺射剝離時(shí)測量表面成分得到的成分深度分布2.4誠射速率Sputteringrate單位時(shí)間經(jīng)粒子轟擊而導(dǎo)致樣品材料被剝離的總量。住:該速率可用速度、單位時(shí)間單位面積的質(zhì)量或單位時(shí)間測得的其他量來度量2.5門區(qū)域gatedarea在較大區(qū)域內(nèi)從中可獲取信號的指定區(qū)域2.6入射角angleofincidence人射束與該處或平均表面法線間的夾角。27深度分瓣depthresolution當(dāng)部析兩介質(zhì)間理想突變界面時(shí),信號強(qiáng)度增加或減少指定量值的深度范圍注1:按常規(guī).深度分辨常用兩媒質(zhì)各
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