標(biāo)準(zhǔn)解讀

GB/T 20175-2006是一項(xiàng)關(guān)于表面化學(xué)分析中濺射深度剖析的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)，重點(diǎn)介紹了使用層狀膜系作為參考物質(zhì)來(lái)優(yōu)化分析過(guò)程的方法。該標(biāo)準(zhǔn)旨在為材料科學(xué)、半導(dǎo)體技術(shù)、微電子學(xué)等領(lǐng)域中的表面分析提供精確、可重復(fù)的測(cè)量指導(dǎo)。

標(biāo)準(zhǔn)核心內(nèi)容

  1. 范圍：規(guī)定了在進(jìn)行濺射深度剖析時(shí)，如何選擇和使用層狀參考物質(zhì)來(lái)校準(zhǔn)和優(yōu)化分析儀器，確保分析結(jié)果的準(zhǔn)確性和可靠性。適用于使用離子束濺射技術(shù)進(jìn)行表面微區(qū)成分分析的情況。

  2. 術(shù)語(yǔ)和定義：明確了與濺射深度剖析相關(guān)的專業(yè)術(shù)語(yǔ)，包括濺射速率、參考物質(zhì)、層狀膜系等，為讀者提供了清晰的概念基礎(chǔ)。

  3. 參考物質(zhì)的選擇與制備：詳細(xì)說(shuō)明了用于校準(zhǔn)的參考物質(zhì)應(yīng)具備的特性，如均勻性、穩(wěn)定性、已知的層結(jié)構(gòu)和成分等。同時(shí)，介紹了參考物質(zhì)的制備方法，強(qiáng)調(diào)了清洗、沉積技術(shù)和表征的重要性。

  4. 儀器校準(zhǔn)：闡述了如何利用選定的層狀膜系參考物質(zhì)對(duì)濺射深度剖析儀器進(jìn)行校正，包括濺射速率的測(cè)定、質(zhì)量靈敏度因子的確定等，確保分析過(guò)程中參數(shù)設(shè)置的準(zhǔn)確性。

  5. 數(shù)據(jù)分析方法：提供了數(shù)據(jù)處理和分析的推薦步驟，包括如何根據(jù)參考物質(zhì)的濺射特性校正實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)，以及如何通過(guò)這些校正提高深度剖析結(jié)果的精度和置信度。

  6. 質(zhì)量控制：強(qiáng)調(diào)了在分析過(guò)程中實(shí)施質(zhì)量控制措施的重要性，包括定期重復(fù)校準(zhǔn)、監(jiān)控參考物質(zhì)的穩(wěn)定性和記錄詳細(xì)的實(shí)驗(yàn)條件，以維持分析結(jié)果的一致性和可靠性。

  7. 附錄：包含了額外的信息和示例，如參考物質(zhì)的認(rèn)證程序、特定分析技術(shù)的注意事項(xiàng)等，為實(shí)際操作提供了進(jìn)一步的指導(dǎo)和支持。

實(shí)施意義

本標(biāo)準(zhǔn)通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)化濺射深度剖析中參考物質(zhì)的選擇、儀器校準(zhǔn)及數(shù)據(jù)分析流程，提升了表面化學(xué)分析的標(biāo)準(zhǔn)化水平和結(jié)果的互換性。它為科研人員和工業(yè)界提供了一套系統(tǒng)的方法論，有助于提高材料表面分析的準(zhǔn)確度和效率，對(duì)于新材料開(kāi)發(fā)、產(chǎn)品質(zhì)量控制以及科學(xué)研究具有重要意義。


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  • 正在執(zhí)行有效
  • 2006-03-27 頒布
  • 2006-11-01 實(shí)施
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GB/T 20175-2006表面化學(xué)分析濺射深度剖析用層狀膜系為參考物質(zhì)的優(yōu)化方法_第1頁(yè)
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ICS71.040.40N33中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB/T20175-2006/ISO14606：2000表面化學(xué)分析斌射深度部析用層狀膜系為參考物質(zhì)的優(yōu)化方法Surfacechemicalanalysis-Sputterdepthprofiling-Optimizationusinglayeredsystemasreferencematerials（ISO14606:2000,IDT)2006-03-27發(fā)布2006-11-01實(shí)施中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

GB/T20175-2006/ISO14606:2000次前言引言1范圍2術(shù)語(yǔ)和定義3符號(hào)和縮略語(yǔ)4藏射深度部析的參數(shù)設(shè)定5誠(chéng)射深度部析時(shí)理想突變界面的深度分辨6參數(shù)設(shè)定優(yōu)化的步驃附錄A（資料性附錄）影響深度分辨的因素附錄B（資料性附錄)典型單層膜系參考物質(zhì)附錄C（資料性附錄)典型多層膜系參考物質(zhì)附錄D（資料性附錄)多層膜系的使用參考文獻(xiàn)

GB/T20175-2006/ISO14606:2000前本標(biāo)準(zhǔn)等同采用ISO14606:2000《表面化學(xué)分析濺射深度部析用用層狀膜系作為參考物質(zhì)的優(yōu)化方法》。本標(biāo)準(zhǔn)附錄A、附錄B、附錄C、附錄D為資料性附錄本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)徽束標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提出。本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)微束標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)歸口本標(biāo)準(zhǔn)負(fù)責(zé)起草單位：清華大學(xué)電子工程系。本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：查良鎮(zhèn)、陳旭、王光普、黃雁華、黃天斌、劉林、葛欣、桂東

GB/T20175-2006/ISO14606:2000在硅片、多層膜器件(如AIGaAs雙異質(zhì)結(jié)激光器,各種高電子遷移率晶體管)和車體防腐作用合金-鍍鋅鋼等材料中，參考物質(zhì)用于優(yōu)化濺射部析方法的深度分辨本標(biāo)準(zhǔn)的具體應(yīng)用范圍如下：“）在俄歇電子能譜、X射線光電子能譜和二次離子質(zhì)譜的儀器設(shè)定時(shí).用襯底上單層和多層膜系為參考物質(zhì)來(lái)優(yōu)化深度分辨。用這些膜系來(lái)說(shuō)明濮射弧坑的平滑度、弧坑底的傾斜度、樣品漂移以及各種濮射條件(如離子?xùn)|流密度)的漂移等因素對(duì)深度分辨的影響。用用這些膜系來(lái)說(shuō)明濺射誘導(dǎo)的表面粗糙度和濾射誘導(dǎo)的原子混合等因素對(duì)深度分辨的影響，用這些膜系為儀器供應(yīng)者和用戶來(lái)評(píng)估儀器的性能。本標(biāo)準(zhǔn)是適時(shí)的，可成為進(jìn)一步發(fā)展濮射深度部析的基礎(chǔ)在參考文獻(xiàn)-中給出與本標(biāo)準(zhǔn)相關(guān)ISO指南的目錄。注：在本標(biāo)準(zhǔn)制定過(guò)程中.用多層摻雜膜系參考物質(zhì)評(píng)估深度分辨參數(shù)的方法已在二次離子質(zhì)譜學(xué)中退速發(fā)展和廣泛應(yīng)用,并由ISO/SC6二次離子質(zhì)譜分委員會(huì)立項(xiàng)制定相關(guān)的ISO標(biāo)準(zhǔn)。ISO20341國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)（表面化學(xué)分析二次離子質(zhì)譜用多6層參考物質(zhì)評(píng)估深度分養(yǎng)參數(shù)的方法)已于2003年7月15日頒布

GB/T20175—2006/IS014606:2000表面化學(xué)分析斌射深度部析用層狀膜系為參考物質(zhì)的優(yōu)化方法1范圍為使俄歇電子能譜、X射線光電子能譜和二次離子質(zhì)譜的儀器設(shè)定達(dá)到深度分辨的優(yōu)化目的.本標(biāo)準(zhǔn)采用適當(dāng)?shù)膯螌雍投鄬幽は祬⒖嘉镔|(zhì)，提供優(yōu)化灘射深度部析參數(shù)的指南。特殊多層膜系(如各種摻雜層膜系)的使用不包括在本標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)。術(shù)語(yǔ)和定義本標(biāo)準(zhǔn)采用下列術(shù)語(yǔ)和定義住1：本標(biāo)準(zhǔn)采用的術(shù)語(yǔ)主要引自ASTME673—97。術(shù)語(yǔ)的定義做了一些修改以便與正由ISO/TC201/SC1制定的術(shù)語(yǔ)保持一致。住2：ISO18115表面化學(xué)分析術(shù)語(yǔ)國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)已于2001年7月15日頒布2.1分析面積analysisarca被測(cè)平面內(nèi)樣品表面的二維區(qū)域,從此區(qū)域內(nèi)檢測(cè)到全部或指定百分比的信號(hào)22弧坑邊緣效應(yīng)Crateredgeeffect來(lái)自弧坑邊緣的信號(hào)，通常是在深度部析時(shí)由于弧坑邊緣比弧坑中心區(qū)淺而引起的23誠(chéng)射深度刮析sputterdepthprofile當(dāng)材料被濺射剝離時(shí)測(cè)量表面成分得到的成分深度分布2.4誠(chéng)射速率Sputteringrate單位時(shí)間經(jīng)粒子轟擊而導(dǎo)致樣品材料被剝離的總量。?。涸撍俾士捎盟俣?、單位時(shí)間單位面積的質(zhì)量或單位時(shí)間測(cè)得的其他量來(lái)度量2.5門區(qū)域gatedarea在較大區(qū)域內(nèi)從中可獲取信號(hào)的指定區(qū)域2.6入射角angleofincidence人射束與該處或平均表面法線間的夾角。27深度分瓣depthresolution當(dāng)部析兩介質(zhì)間理想突變界面時(shí)，信號(hào)強(qiáng)度增加或減少指定量值的深度范圍注1：按常規(guī).深度分辨常用兩媒質(zhì)各

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