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離子色譜樣品前處理19056樣品分析常規(guī)樣品離子分析痕量離子分析大體積進(jìn)樣

低的背景電導(dǎo)遠(yuǎn)離水負(fù)峰的色譜固定相在線濃縮復(fù)雜基體中離子的處理大的交換容量預(yù)處理小柱，不同分離方式的柱切換樣品前處理采樣溶樣凈化樣品,基體消除濃縮\富集樣品采樣(在線離子色譜測(cè)定系統(tǒng))溶樣無(wú)機(jī)樣品

i.水不溶性固體

用水或淋洗液提取被測(cè)物ii.水溶性固體針對(duì)不同分析物的含量,選擇不同的稀釋比,通過(guò)預(yù)處理方式盡量減少基體對(duì)其的干擾

有機(jī)樣品中雜質(zhì)離子不溶性有機(jī)化合物超聲提取法加速溶劑萃取儀水溶性有機(jī)化合物高溫焙燒法氧瓶燃燒法紫外光分解法

有機(jī)樣品結(jié)構(gòu)中的離子高溫焙燒法氧瓶燃燒法紫外光分解法凈化樣品,基體消除物理\化學(xué)法SPE小柱閥切換技術(shù)化學(xué)法針對(duì)不同的基體成分,選用不同的化學(xué)沉淀劑去除(與被測(cè)物不干擾)如:電鍍行業(yè)氯的測(cè)定,采用水合聯(lián)氨\草酸等還原沉淀法去除Cr(VI)SPE小柱過(guò)濾：樣品中有顆粒狀物質(zhì)基體消除：

*去除樣品中所包含的，有可能損壞儀器或者影響色譜柱/抑制器性能的成分；——重金屬離子、有機(jī)大分子

*去除樣品中所包含的，有可能干擾目標(biāo)離子測(cè)定的成分?！唠x子強(qiáng)度基體0.22，0.45um濾膜——去除顆粒狀雜質(zhì)C18預(yù)處理小柱、On-GuardRP柱——去除有機(jī)大分子On-GuardH柱——去除溶液中的金屬離子On-GuardAg柱——去除溶液中的Cl-離子主要測(cè)定高氯物質(zhì)中的NO2-，NO3-等離子On-GuardBa柱——去除溶液中的硫酸根閥切換技術(shù)應(yīng)用于樣品前處理采樣泵

停止開(kāi)始測(cè)定采樣泵富集樣品富集廢液濃縮柱采樣泵開(kāi)始淋洗液至分離柱沖洗采樣管閥切

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