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14半導(dǎo)體二極管和三極管14.1半導(dǎo)體的基本知識(shí)14.2PN結(jié)14.3半導(dǎo)體二極管14.4穩(wěn)壓二極管14.5晶體管14.6光電器件14.1半導(dǎo)體的基本知識(shí)14.1.1本征半導(dǎo)體及其導(dǎo)電性14.1.2雜質(zhì)半導(dǎo)體14.1.3半導(dǎo)體的溫度特性根據(jù)物體導(dǎo)電能力(電阻率)的不同,劃分為導(dǎo)體、絕緣體和半導(dǎo)體。半導(dǎo)體的電阻率為10-3~109cm。典型的半導(dǎo)體有硅Si和鍺Ge以及砷化鎵GaAs等。14.1.1本征半導(dǎo)體及其導(dǎo)電性
(1)本征半導(dǎo)體的共價(jià)鍵結(jié)構(gòu)(2)電子空穴對(duì)
(3)空穴的移動(dòng)本征半導(dǎo)體——化學(xué)成分純凈的半導(dǎo)體。制造半導(dǎo)體器件的半導(dǎo)體材料的純度要達(dá)到99.9999999%,常稱為“九個(gè)9”。它在物理結(jié)構(gòu)上呈單晶體形態(tài)。
(2)電子空穴對(duì)當(dāng)導(dǎo)體處于熱力學(xué)溫度0K時(shí),導(dǎo)體中沒有自由電子。當(dāng)溫度升高或受到光的照射時(shí),價(jià)電子能量增高,有的價(jià)電子可以掙脫原子核的束縛,而參與導(dǎo)電,成為自由電子。自由電子產(chǎn)生的同時(shí),在其原來的共價(jià)鍵中就出現(xiàn)了一個(gè)空位,原子的電中性被破壞,呈現(xiàn)出正電性,其正電量與電子的負(fù)電量相等,人們常稱呈現(xiàn)正電性的這個(gè)空位為空穴。這一現(xiàn)象稱為本征激發(fā),也稱熱激發(fā)??梢娨驘峒ぐl(fā)而出現(xiàn)的自由電子和空穴是同時(shí)成對(duì)出現(xiàn)的,稱為電子空穴對(duì)。游離的部分自由電子也可能回到空穴中去,稱為復(fù)合,如圖01.02所示。
本征激發(fā)和復(fù)合在一定溫度下會(huì)達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡。圖01.02本征激發(fā)和復(fù)合的過程(動(dòng)畫1-1)
(3)空穴的移動(dòng)
在外電場(chǎng)的作用下,
自由電子的定向運(yùn)動(dòng)形成電子電流;空穴的定向運(yùn)動(dòng)也可形成空穴電流。它們的運(yùn)動(dòng)方向相反。只不過空穴的運(yùn)動(dòng)是靠相鄰共價(jià)鍵中的價(jià)電子依次填充空穴來實(shí)現(xiàn)的。見圖01.03的動(dòng)畫演示。(動(dòng)畫1-2)圖01.03空穴在晶格中的移動(dòng)注意:載流子自由電子空穴半導(dǎo)體不同于金屬的顯著特點(diǎn)
(1)N型半導(dǎo)體
在本征半導(dǎo)體中摻入五價(jià)雜質(zhì)元素,例如磷,可形成N型半導(dǎo)體,也稱電子型半導(dǎo)體。因五價(jià)雜質(zhì)原子中只有四個(gè)價(jià)電子能與周圍四個(gè)半導(dǎo)體原子中的價(jià)電子形成共價(jià)鍵,而多余的一個(gè)價(jià)電子因無共價(jià)鍵束縛而很容易形成自由電子。在N型半導(dǎo)體中自由電子是多數(shù)載流子,它主要由雜質(zhì)原子提供;空穴是少數(shù)載流子,由本征激發(fā)形成。提供自由電子的五價(jià)雜質(zhì)原子因帶正電荷而成為正離子。N型半導(dǎo)體的結(jié)構(gòu)示意圖如圖01.04所示。圖01.04N型半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)示意圖(2)P型半導(dǎo)體
在本征半導(dǎo)體中摻入三價(jià)雜質(zhì)元素,如硼、鎵、銦等形成了P型半導(dǎo)體,也稱為空穴型半導(dǎo)體。因三價(jià)雜質(zhì)原子在與硅原子形成共價(jià)鍵時(shí),缺少一個(gè)價(jià)電子而在共價(jià)鍵中留下一個(gè)空穴。P型半導(dǎo)體中空穴是多數(shù)載流子,主要由摻雜形成;
電子是少數(shù)載流子,由本征激發(fā)形成??昭ê苋菀追@電子,使雜質(zhì)原子成為負(fù)離子。P型半導(dǎo)體的結(jié)構(gòu)示意圖如圖01.05所示。圖01.05P型半導(dǎo)體的結(jié)構(gòu)示意圖
圖01.05P型半導(dǎo)體的結(jié)構(gòu)示意圖14.1.3雜質(zhì)對(duì)半導(dǎo)體導(dǎo)電性的影響
摻入雜質(zhì)對(duì)本征半導(dǎo)體的導(dǎo)電性有很大的影響,一些典型的數(shù)據(jù)如下:
T=300K室溫下,本征硅的電子和空穴濃度:
n=p=1.4×1010/cm31本征硅的原子濃度:4.96×1022/cm3
3以上三個(gè)濃度基本上依次相差106/cm3。
2摻雜后N型半導(dǎo)體中的自由電子濃度:
n=5×1016/cm314.2.1PN結(jié)的形成在同一片半導(dǎo)體基片上,分別制造P型半導(dǎo)體和N型半導(dǎo)體,經(jīng)過載流子的擴(kuò)散,在它們的交界面處就形成了PN結(jié)。P型半導(dǎo)體------------------------N型半導(dǎo)體++++++++++++++++++++++++擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)內(nèi)電場(chǎng)E漂移運(yùn)動(dòng)空間電荷區(qū)PN結(jié)處載流子的運(yùn)動(dòng)擴(kuò)散的結(jié)果是使空間電荷區(qū)逐漸加寬,空間電荷區(qū)越寬。漂移運(yùn)動(dòng)P型半導(dǎo)體------------------------N型半導(dǎo)體++++++++++++++++++++++++擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)內(nèi)電場(chǎng)EPN結(jié)處載流子的運(yùn)動(dòng)內(nèi)電場(chǎng)越強(qiáng),就使漂移運(yùn)動(dòng)越強(qiáng),而漂移使空間電荷區(qū)變薄。
最后,多子的擴(kuò)散和少子的漂移達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡。對(duì)于P型半導(dǎo)體和N型半導(dǎo)體結(jié)合面,離子薄層形成的空間電荷區(qū)稱為PN結(jié)。在空間電荷區(qū),由于缺少多子,所以也稱耗盡層。
圖01.06PN結(jié)的形成過程(動(dòng)畫1-3)PN結(jié)形成的過程可參閱圖01.06。14.2.2PN結(jié)的單向?qū)щ娦?.PN結(jié)加正向電壓(正向偏置)PN結(jié)變窄P接正、N接負(fù)外電場(chǎng)IF內(nèi)電場(chǎng)被削弱,多子的擴(kuò)散加強(qiáng),形成較大的擴(kuò)散電流。
PN結(jié)加正向電壓時(shí),PN結(jié)變窄,正向電流較大,正向電阻較小,PN結(jié)處于導(dǎo)通狀態(tài)。內(nèi)電場(chǎng)PN------------------+++++++++++++++++++–2.PN結(jié)加反向電壓(反向偏置)外電場(chǎng)P接負(fù)、N接正內(nèi)電場(chǎng)PN+++------+++++++++---------++++++---–+
PN結(jié)加正向電壓時(shí),呈現(xiàn)低電阻,具有較大的正向擴(kuò)散電流(PN結(jié)處于導(dǎo)通狀態(tài));
PN結(jié)加反向電壓時(shí),呈現(xiàn)高電阻,具有很小的反向漂移電流(PN結(jié)處于截止?fàn)顟B(tài))。
由此可以得出結(jié)論:PN結(jié)具有單向?qū)щ娦浴?4.3半導(dǎo)體二極管14.3.1半導(dǎo)體二極管的結(jié)構(gòu)類型14.3.2半導(dǎo)體二極管的伏安特性曲線14.3.3
半導(dǎo)體二極管的參數(shù)14.3.4半導(dǎo)體二極管的溫度特性14.3.5半導(dǎo)體二極管的型號(hào)14.3.1半導(dǎo)體二極管的結(jié)構(gòu)類型在PN結(jié)上加上引線和封裝,就成為一個(gè)二極管。二極管按結(jié)構(gòu)分有點(diǎn)接觸型、面接觸型和平面型三大類。它們的結(jié)構(gòu)示意圖如圖01.11所示。(1)點(diǎn)接觸型二極管—PN結(jié)面積小,結(jié)電容小,用于檢波和變頻等高頻電路。(a)點(diǎn)接觸型圖01.11二極管的結(jié)構(gòu)示意圖二極管的表示符號(hào)D14.3.2半導(dǎo)體二極管的伏安特性曲線
半導(dǎo)體二極管的伏安特性曲線如圖01.12所示。處于第一象限的是正向伏安特性曲線,處于第三象限的是反向伏安特性曲線。圖01.12二極管的伏安特性曲線硅二極管的導(dǎo)通電壓0.6~0.8V,
鍺二極管的導(dǎo)通電壓0.2~0.3V。
(1)正向特性硅二極管的死區(qū)電壓Vth=0.5V左右,
鍺二極管的死區(qū)電壓Vth=0.1V左右。
當(dāng)0<V<Vth時(shí),正向電流為零,Vth稱為死區(qū)電壓或開啟電壓。
當(dāng)V>0即處于正向特性區(qū)域。正向區(qū)又分為兩段:
當(dāng)V>Vth時(shí),開始出現(xiàn)正向電流,并按指數(shù)規(guī)律增長。此時(shí)二極管導(dǎo)通。(2)反向特性當(dāng)V<0時(shí),即處于反向特性區(qū)域。反向區(qū)也分兩個(gè)區(qū)域:
當(dāng)VBR<V<0時(shí),反向電流很小,且基本不隨反向電壓的變化而變化,此時(shí)的反向電流也稱反向飽和電流IS。
當(dāng)V≤VBR時(shí),反向電流急劇增加,VBR稱為反向擊穿電壓。14.3.3半導(dǎo)體二極管的參數(shù)
半導(dǎo)體二極管的參數(shù)包括最大整流電流IF、反向擊穿電壓VBR、最大反向工作電壓VRM、反向電流IR、最高工作頻率fmax和結(jié)電容Cj等。幾個(gè)主要的參數(shù)介紹如下:
(1)最大整流電流IF——二極管長期連續(xù)工作時(shí),允許通過二極管的最大整流電流的平均值。(2)反向擊穿電壓VBR———和最大反向工作電壓VRM二極管反向電流急劇增加時(shí)對(duì)應(yīng)的反向電壓值稱為反向擊穿電壓VBR。為安全計(jì),在實(shí)際工作時(shí),最大反向工作電壓VRM一般只按反向擊穿電壓VBR的一半計(jì)算。
(3)反向電流IR
(4)正向壓降VF(5)動(dòng)態(tài)電阻rd在室溫下,在規(guī)定的反向電壓下,一般是最大反向工作電壓下的反向電流值。硅二極管的反向電流一般在納安(nA)級(jí);鍺二極管在微安(A)級(jí)。在規(guī)定的正向電流下,二極管的正向電壓降。小電流硅二極管的正向壓降在中等電流水平下,約0.6~0.8V;鍺二極管約0.2~0.3V。反映了二極管正向特性曲線斜率的倒數(shù)。顯然,rd與工作電流的大小有關(guān),即
rd=VF/IF14.3.4半導(dǎo)體二極管的溫度特性
溫度對(duì)二極管的性能有較大的影響,溫度升高時(shí),反向電流將呈指數(shù)規(guī)律增加,如硅二極管溫度每增加8℃,反向電流將約增加一倍;鍺二極管溫度每增加12℃,反向電流大約增加一倍。另外,溫度升高時(shí),二極管的正向壓降將減小,每增加1℃,正向壓降VF(VD)大約減小2mV,即具有負(fù)的溫度系數(shù)。這些可以從圖01.13所示二極管的伏安特性曲線上看出。
圖01.13溫度對(duì)二極管伏安特性曲線的影響圖示14.3.5半導(dǎo)體二極管的型號(hào)國家標(biāo)準(zhǔn)對(duì)半導(dǎo)體器件型號(hào)的命名舉例如下:半導(dǎo)體二極管圖片半導(dǎo)體二極管圖片半導(dǎo)體二極管圖片應(yīng)用舉例
主要利用二極管的單向?qū)щ娦???捎糜谡?、檢波、限幅、元件保護(hù)以及在數(shù)字電路中作為開關(guān)元件。
例:圖中電路,輸入端A的電位VA=+3V,B的電位VB=0V,求輸出端Y的電位VY。電阻R接負(fù)電源-12V。VY=+2.7V解:DA優(yōu)先導(dǎo)通,DA導(dǎo)通后,DB上加的是反向電壓,因而截止。DA起鉗位作用,DB起隔離作用。-12VAB+3V0VDBDAY返回例:二極管:死區(qū)電壓=0.5V,正向壓降0.7V(硅二極管)理想二極管:死區(qū)電壓=0,正向壓降=0RLuiuouiuott二極管半波整流14.4穩(wěn)壓二極管
穩(wěn)壓二極管是應(yīng)用在反向擊穿區(qū)的特殊硅二極管。穩(wěn)壓二極管的伏安特性曲線與硅二極管的伏安特性曲線完全一樣,穩(wěn)壓二極管伏安特性曲線的反向區(qū)、符號(hào)和典型應(yīng)用電路如圖01.14所示。圖見下頁
圖01.14穩(wěn)壓二極管的伏安特性
(a)符號(hào)(b)伏安特性(c)應(yīng)用電路(b)(c)(a)圖示
從穩(wěn)壓二極管的伏安特性曲線上可以確定穩(wěn)壓二極管的參數(shù)。
(1)穩(wěn)定電壓VZ——(2)動(dòng)態(tài)電阻rZ——
在規(guī)定的穩(wěn)壓管反向工作電流IZ下,所對(duì)應(yīng)的反向工作電壓。
其概念與一般二極管的動(dòng)態(tài)電阻相同,只不過穩(wěn)壓二極管的動(dòng)態(tài)電阻是從它的反向特性上求取的。rZ愈小,反映穩(wěn)壓管的擊穿特性愈陡。
rZ=VZ/IZ
(3)最大耗散功率
PZM
——
穩(wěn)壓管的最大功率損耗取決于PN結(jié)的面積和散熱等條件。反向工作時(shí)PN結(jié)的功率損耗為
PZ=VZIZ,由
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