中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈、半導(dǎo)體國(guó)產(chǎn)化分析及全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展趨勢(shì)

中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈、半導(dǎo)體國(guó)產(chǎn)化分析及全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展趨勢(shì)

半導(dǎo)體產(chǎn)品種類(lèi)繁多，不同產(chǎn)品之間設(shè)計(jì)和功能不盡相同，制造工藝和流程也存在一定差異。

半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的下游為半導(dǎo)體終端產(chǎn)品以及其衍生的應(yīng)用、系統(tǒng)等。半導(dǎo)體產(chǎn)品按功能區(qū)分，可以分為集成電路、光電子器件、分立器件和傳感器等四大類(lèi)。據(jù)調(diào)查數(shù)據(jù)顯示，2018年集成電路、光電子器件、分立器件和傳感器的全球市場(chǎng)規(guī)模分別為3,933億美元、380億美元、241億美元和134億美元，占半導(dǎo)體市場(chǎng)整體規(guī)模的比例分別約為83.9%、8.1%、5.1%和2.9%。全球集成電路和以LED為代表的光電子器件的銷(xiāo)售額合計(jì)占所有半導(dǎo)體產(chǎn)品銷(xiāo)售額的90%以上，是半導(dǎo)體產(chǎn)品最重要的組成部分。2018年全球半導(dǎo)體銷(xiāo)售額的產(chǎn)品結(jié)構(gòu)占比

半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的中游可以分為半導(dǎo)體芯片設(shè)計(jì)、芯片制造（圓晶制造、圓晶加工）和封裝測(cè)試。半導(dǎo)體芯片的制造工藝相對(duì)復(fù)雜，需要的上游設(shè)備多樣，標(biāo)桿產(chǎn)品序涂膠顯影設(shè)備是集成電路制造中光刻環(huán)節(jié)不可或缺的關(guān)鍵處理設(shè)備，主要與光刻機(jī)配合進(jìn)行作業(yè)，通過(guò)機(jī)械手使晶圓在各系統(tǒng)間傳輸和處理，從而完成晶圓的光刻膠涂覆、固化、顯影、堅(jiān)膜等工藝過(guò)程。

半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的上游由為設(shè)計(jì)、制造和封測(cè)環(huán)節(jié)提供軟件及知識(shí)產(chǎn)權(quán)、半導(dǎo)體設(shè)備、原材料等生產(chǎn)資料的核心產(chǎn)業(yè)組成。其中半導(dǎo)體設(shè)備指半導(dǎo)體產(chǎn)品在制造和封測(cè)環(huán)節(jié)所要用到的所有機(jī)器設(shè)備，廣義上也包括生產(chǎn)半導(dǎo)體原材料所需的機(jī)器設(shè)備。主要有：光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、薄膜沉積設(shè)備、離子注入機(jī)、測(cè)試機(jī)、分選機(jī)、探針臺(tái)等。

半導(dǎo)體制造技術(shù)精細(xì)、工藝復(fù)雜。隨著技術(shù)節(jié)點(diǎn)的縮小，集成電路的生產(chǎn)步驟也越來(lái)越多，任何一步的錯(cuò)誤都可能導(dǎo)致最終產(chǎn)品無(wú)法使用。以20nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)為例，集成電路產(chǎn)品的硅片制造工藝需要約1000步，若最終產(chǎn)品的合格率需要達(dá)到90%，則每一步的加工合格率都需要達(dá)到99.99%。因此，集成電路制造對(duì)設(shè)備的精度和可靠性要求極高。集成電路產(chǎn)品生產(chǎn)步驟數(shù)量

一、半導(dǎo)體設(shè)備國(guó)產(chǎn)化

半導(dǎo)體行業(yè)是現(xiàn)代經(jīng)濟(jì)社會(huì)發(fā)展的戰(zhàn)略性、基礎(chǔ)性和先導(dǎo)性產(chǎn)業(yè)，是電子信息產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)支撐，其產(chǎn)品被廣泛地應(yīng)用于電子通信、計(jì)算機(jī)、網(wǎng)絡(luò)技術(shù)、物聯(lián)網(wǎng)等產(chǎn)業(yè)，是絕大多數(shù)電子設(shè)備的核心組成部分。隨著經(jīng)濟(jì)的不斷發(fā)展，中國(guó)已成為了全球最大的電子產(chǎn)品生產(chǎn)市場(chǎng)，各大半導(dǎo)體制造商紛紛投資建廠，對(duì)半導(dǎo)體設(shè)備的需求隨之增加。測(cè)算，到2020年，全球新增半導(dǎo)體設(shè)備的市場(chǎng)空間將達(dá)到750.4億美元（約5100億元人民幣），其中中國(guó)大陸市場(chǎng)空間將達(dá)到1186.5億美元（約11250億元人民幣），占全球市場(chǎng)的四分之一。2015-2020年全球各地區(qū)半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)空間（單位：十億美元）

二、集成電路設(shè)備市場(chǎng)

集成電路制造行業(yè)向中國(guó)大陸轉(zhuǎn)移的趨勢(shì)已十分明顯，諸多外資、臺(tái)資企業(yè)均計(jì)劃在中國(guó)大陸新建，但目前集成電路設(shè)備生產(chǎn)企業(yè)則主要集中于歐美、日本、韓國(guó)和臺(tái)灣等國(guó)家和地區(qū)。其中起步較早的國(guó)際領(lǐng)先企業(yè)包括美國(guó)應(yīng)用材料（AMAT）、泛林半導(dǎo)體（LamResearch）、科磊（KLA-Tencor），荷蘭阿斯麥（ASML），日本東京電子（TokyoElectron）等。

在細(xì)分領(lǐng)域，尤其是前段晶圓制造設(shè)備領(lǐng)域中，龍頭集中的則更加明顯。集成電路設(shè)備自給率較低，進(jìn)口替代空間廣闊。

2018年半導(dǎo)體設(shè)備在中國(guó)大陸的銷(xiāo)售額估計(jì)為128億美元，同比增長(zhǎng)56%，約占全球半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)的21%，已成為僅次于韓國(guó)的全球第二大半導(dǎo)體設(shè)備需求市場(chǎng)。但是從供給端來(lái)看，根據(jù)調(diào)查數(shù)據(jù)顯示，2018年國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備銷(xiāo)售額預(yù)計(jì)為109億元，自給率約為13%。2013-2018年中國(guó)大陸半導(dǎo)體設(shè)備銷(xiāo)售額

中國(guó)電子專(zhuān)用設(shè)備數(shù)據(jù)包括集成電路、LED、面板、光伏等設(shè)備。實(shí)際上，我國(guó)LED、光伏等泛半導(dǎo)體設(shè)備國(guó)產(chǎn)化率較高，而集成電路設(shè)備國(guó)產(chǎn)化率更低。

對(duì)應(yīng)巨大的需求缺口，中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)口依賴(lài)的問(wèn)題突出，不斷擴(kuò)大的中國(guó)半導(dǎo)體市場(chǎng)規(guī)模嚴(yán)重依賴(lài)于進(jìn)口，中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)自給率過(guò)低，進(jìn)口替代的空間巨大。國(guó)內(nèi)主要半導(dǎo)體設(shè)備制造商及產(chǎn)品種類(lèi)

涂膠顯影設(shè)備包括涂膠機(jī)、噴膠機(jī)和顯影機(jī)。涂膠/顯影機(jī)作為光刻機(jī)的輸入（曝光前光刻膠涂覆）和輸出（曝光后圖形的顯影），主要通過(guò)機(jī)械手使晶圓在各系統(tǒng)之間傳輸和處理，從而完成晶圓的光刻膠涂覆、固化、顯影、堅(jiān)膜等工藝過(guò)程，其不僅直接影響到光刻工序細(xì)微曝光圖案的形成，顯影工藝的圖形質(zhì)量對(duì)后續(xù)蝕刻和離子注入等工藝中圖形轉(zhuǎn)移的結(jié)果也有著深刻的影響，是集成電路制造過(guò)程中不可或缺的關(guān)鍵處理設(shè)備。公司生產(chǎn)的涂膠/顯影機(jī)可與光刻機(jī)設(shè)備聯(lián)機(jī)作業(yè)或者獨(dú)立作業(yè)，工藝范圍涵蓋LED芯片制造、集成電路制造后道先進(jìn)封裝制程以及前道的PI、Barc、SOC、SOD、I-line、KrF、ArF等制程工藝。

噴膠機(jī)是一種能夠覆蓋不規(guī)則表面晶圓的光刻膠涂覆設(shè)備，可以有效、均勻地涂覆帶有溝槽圖形的晶片表面。該設(shè)備主要應(yīng)用于厚膠膜的涂覆工藝。獨(dú)特的噴涂工藝可以處理特殊形狀（如長(zhǎng)方形、菱形等）的襯底，針對(duì)某些輕薄易碎的襯底，噴膠機(jī)在處理時(shí)也有其優(yōu)勢(shì)，可以保證襯底完整不碎裂。

清洗機(jī)是將晶圓表面上產(chǎn)生的顆粒、有機(jī)物、自然氧化層、金屬雜質(zhì)等污染物去除，以獲得所需潔凈表面的工藝設(shè)備。從工藝應(yīng)用上來(lái)說(shuō)，清洗機(jī)目前已廣泛應(yīng)用于集成電路制造工藝中的成膜前/成膜后清洗、等離子刻蝕后清洗、離子注入后清洗、化學(xué)機(jī)械拋光后的清洗和金屬沉積后清洗等各個(gè)環(huán)節(jié)。清洗機(jī)原理示意圖

去膠機(jī)用于曝光后清除光刻膠。在半導(dǎo)體制造工藝中，光刻膠只是起到圖形轉(zhuǎn)移的媒介作用，因此在完成圖形轉(zhuǎn)移后，需要將光刻膠完全去除，以避免殘留的光刻膠影響后續(xù)工藝質(zhì)量。去膠機(jī)原理示意圖

濕法刻蝕主要是利用溶液與預(yù)刻蝕材料之間的化學(xué)反應(yīng)來(lái)去除未被掩蔽膜材料掩蔽的部分而達(dá)到刻蝕目的。芯源微生產(chǎn)的單片式濕法刻蝕機(jī)，主要應(yīng)用于前道晶圓加工環(huán)節(jié)中干法刻蝕后殘留物的去除，以及后道先進(jìn)封裝環(huán)節(jié)微米級(jí)以上（大于3um）圖形的轉(zhuǎn)移。濕法刻蝕原理示意圖

2019年第二季度，全球半導(dǎo)體銷(xiāo)售額為982億美元，同比下降16.8%，2019年上半年全球半導(dǎo)體市場(chǎng)銷(xiāo)售額同比下降14.5%;預(yù)測(cè)2019年全年，全球半導(dǎo)體銷(xiāo)售額將下滑13.3%。

預(yù)測(cè)，2019年全球半導(dǎo)體收入為4290億美元，同比2018年的4750億美元下滑