標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 42789-2023 硅片表面光澤度的測試方法》是一項(xiàng)國家標(biāo)準(zhǔn),旨在規(guī)范硅片表面光澤度的測量過程。該標(biāo)準(zhǔn)適用于單晶硅、多晶硅等半導(dǎo)體材料制成的硅片,其主要目的是通過統(tǒng)一的測試方法來確保不同實(shí)驗(yàn)室或檢測機(jī)構(gòu)之間獲得的結(jié)果具有可比性。
根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)容,測試前需要對樣品進(jìn)行適當(dāng)?shù)臏?zhǔn)備,包括但不限于清潔處理以去除可能影響測量結(jié)果的污染物。對于測試環(huán)境也有明確要求,比如溫度和濕度應(yīng)控制在一定范圍內(nèi),以減少外界因素對測試結(jié)果的影響。
該標(biāo)準(zhǔn)詳細(xì)規(guī)定了使用何種類型的儀器進(jìn)行測試,并且描述了具體的測量步驟。通常情況下,會(huì)采用反射率測定法或者散射光強(qiáng)度法來進(jìn)行硅片表面光澤度的評估。其中,反射率測定法是基于特定角度下入射光線與反射光線之間的關(guān)系來計(jì)算光澤度值;而散射光強(qiáng)度法則關(guān)注于非鏡面方向上的散射光量作為評價(jià)依據(jù)。
此外,《GB/T 42789-2023》還包含了數(shù)據(jù)處理部分,指導(dǎo)如何從原始讀數(shù)中提取有效信息并轉(zhuǎn)換成最終報(bào)告形式。這包括但不限于平均值計(jì)算、重復(fù)性檢驗(yàn)以及異常值剔除等方面的內(nèi)容。
最后,在附錄部分提供了示例表格及圖表格式,幫助用戶更好地理解和應(yīng)用本標(biāo)準(zhǔn)所提出的方法論。同時(shí),也給出了一些關(guān)于設(shè)備校準(zhǔn)、維護(hù)保養(yǎng)等方面的建議性說明,雖然這些不屬于強(qiáng)制執(zhí)行條款,但對于保證長期穩(wěn)定可靠的測試結(jié)果仍然非常重要。
如需獲取更多詳盡信息,請直接參考下方經(jīng)官方授權(quán)發(fā)布的權(quán)威標(biāo)準(zhǔn)文檔。
....
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2023-08-06 頒布
- 2024-03-01 實(shí)施
![GB/T 42789-2023硅片表面光澤度的測試方法_第1頁](http://file4.renrendoc.com/view/304508bdbef5f8755c4e50a687b9133c/304508bdbef5f8755c4e50a687b9133c1.gif)
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![GB/T 42789-2023硅片表面光澤度的測試方法_第3頁](http://file4.renrendoc.com/view/304508bdbef5f8755c4e50a687b9133c/304508bdbef5f8755c4e50a687b9133c3.gif)
文檔簡介
ICS77040
CCSH.21
中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)
GB/T42789—2023
硅片表面光澤度的測試方法
Testmethodforglossofsiliconwafer
2023-08-06發(fā)布2024-03-01實(shí)施
國家市場監(jiān)督管理總局發(fā)布
國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
GB/T42789—2023
前言
本文件按照標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第部分標(biāo)準(zhǔn)化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則的規(guī)定
GB/T1.1—2020《1:》
起草
。
請注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專利本文件的發(fā)布機(jī)構(gòu)不承擔(dān)識(shí)別專利的責(zé)任
。。
本文件由全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)與全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)
(SAC/TC203)
化技術(shù)委員會(huì)材料分技術(shù)委員會(huì)共同提出并歸口
(SAC/TC203/SC2)。
本文件起草單位浙江金瑞泓科技股份有限公司浙江海納半導(dǎo)體股份有限公司有色金屬技術(shù)經(jīng)
:、、
濟(jì)研究院有限責(zé)任公司天津中環(huán)領(lǐng)先材料技術(shù)有限公司山東有研半導(dǎo)體材料有限公司上海合晶硅
、、、
材料股份有限公司麥斯克電子材料股份有限公司廣東金灣高景太陽能科技有限公司浙江旭盛電子
、、、
有限公司巢湖學(xué)院金瑞泓科技衢州有限公司
、、()。
本文件主要起草人梁興勃李琴張海英林松青潘金平李素青張雪囡由佰玲邊永智莊智慧
:、、、、、、、、、、
沈輝輝焦二強(qiáng)韓云霄徐志群付明全詹玉峰王可勝
、、、、、、。
Ⅰ
GB/T42789—2023
硅片表面光澤度的測試方法
1范圍
本文件描述了采用光反射法以或幾何條件測試硅片表面光澤度的方法
20°、60°85°。
本文件適用于硅腐蝕片拋光片外延片表面光澤度的測試不適用于表面有圖形的硅片的測試
、、,。
2規(guī)范性引用文件
下列文件中的內(nèi)容通過文中的規(guī)范性引用而構(gòu)成本文件必不可少的條款其中注日期的引用文
。,
件僅該日期對應(yīng)的版本適用于本文件不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于
,;,()
本文件
。
色漆和清漆不含金屬顏料的色漆漆膜的和鏡面光澤的測定
GB/T975420°、60°85°
半導(dǎo)體材料術(shù)語
GB/T14264
鏡向光澤度計(jì)和光澤度板
JJG696—2015
3術(shù)語和定義
和界定的以及下列術(shù)語和定義適用于本文件
GB/T9754GB/T14264。
31
.
光澤度gloss
對于規(guī)定的光源和接收角從物體鏡向方向反射的光通量與從折射率為的黑玻璃鏡向方向
,1.567
反射的光通量之比
。
注1為了確定鏡向光澤的標(biāo)度對于和幾何角度折射率為的拋光黑玻璃規(guī)定其光澤度值
:,20°、60°85°1.567,
為
100。
注2對雙面硅拋光片背面光澤度的評價(jià)是以拋光片正面光澤度為基準(zhǔn)計(jì)算的
:。
4方法原理
在規(guī)定入射角和規(guī)定光束的條件下入射光經(jīng)過透鏡照射到樣品表面得到鏡向反射角方向的光
,,
束此時(shí)反射光強(qiáng)度由樣品材料表面性質(zhì)決定接收器收集樣品反射光與標(biāo)準(zhǔn)表面反射光強(qiáng)度對比
,,,,
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