腦連續(xù)冠狀mri的定位

腦連續(xù)冠狀mri的定位

研究了大腦和回波段的定位，對ct、mri中確定的特定大腦病變進行了三維定位手術(shù)、x刀和一門刀治療、腦功能斷層成像和斷層成像具有重要的理論意義和實用價值。然而以往對大腦溝、回的解剖學(xué)研究,多是探討其整體形態(tài),難以滿足現(xiàn)代影像學(xué)的需要。為此,一些學(xué)者分別利用腦斷層標(biāo)本、CT、RI、fMRI(功能磁共振成像)和PET(正電子發(fā)射計算機斷層顯像)等方法對中央溝區(qū)域以及大腦皮質(zhì)語言區(qū)等在斷面上的定位進行了研究[1,2,3,4,5,6,7,8,9,10]。但由于大腦溝、回個體差異較大,故單純的影像學(xué)或影像與功能相結(jié)合的方法可信度較差;橫斷面和矢狀面研究較多,而冠狀斷面研究較少;又由于未采用統(tǒng)一的標(biāo)準(zhǔn)基線,故各家的結(jié)果也缺乏相互比較的基礎(chǔ)。連合間線為前連合(anteriorcommissure,AC)后緣中點至后連合(posteriorcommissure,PC)前緣中點的連線(即AC-PC線),它較為穩(wěn)定,且與許多腦部結(jié)構(gòu)關(guān)系密切,是目前國內(nèi)外普遍用來確定腦內(nèi)結(jié)構(gòu)立體定位和腦立體定位手術(shù)的基線,故利用該線進行大腦溝、回的斷面定位更具實用價值。本文以AC-PC線為基線,采用MRI與相應(yīng)腦斷層標(biāo)本對照的研究方法,系統(tǒng)探討了大腦中央后溝及緣上回在冠狀斷面上的定位,為在MRI等斷層圖像上準(zhǔn)確識別腦葉、腦回和定位腦內(nèi)微小占位性病變提供形態(tài)學(xué)依據(jù)。1材料和方法1.1ac-pc機腦回射線檢測大鼠腦中tg-ls-b-c隨機取用成年男性頭部標(biāo)本30例,以經(jīng)AC-PC線中點的垂線為基線,用Phillps1.5T超導(dǎo)全身MRI系統(tǒng)掃描,獲得4mm層厚的顱腦連續(xù)冠狀斷層MRI圖像。掃描條件:T1WI,TR4277ms,TE20ms,TI400ms,RFOV80%,FOV230cm×1.5cm。將掃描后的標(biāo)本,開顱取腦,剝?nèi)ツX膜及血管,沿正中矢狀面切開。在大腦半球內(nèi)側(cè)面上,確定經(jīng)AC-PC線中點的垂線,將重要腦回:額中回、額下回、中央前回、中央后回、緣上回、角回、中央旁小葉染不同顏色,涂以蛋清并用10%甲醛固定。然后將左、右大腦半球以25%明膠包埋,用自制腦切片儀切制成與MR掃描一致的腦連續(xù)冠狀斷層標(biāo)本。1.2冠狀圖像的系統(tǒng)掃描選健康成年男性6例,經(jīng)Phillips1.5T超導(dǎo)全身MRI系統(tǒng)掃描,獲得掃描基線、層厚與上述標(biāo)本相一致的冠狀圖像。掃描條件:T1WI,TR4026ms,TE20ms,TI400ms,RFOV80%,FOV230cm×1.3cm。1.3mri及腦冠狀斷層將取自同一個體的MRI和腦斷層標(biāo)本對照觀察,發(fā)現(xiàn)MRI與標(biāo)本所見基本吻合。把大腦連續(xù)冠狀斷層標(biāo)本重合追蹤觀察并記錄中央后溝和緣上回的變化。將6例活體MRI與30例標(biāo)本MRI及腦冠狀斷層標(biāo)本對照研究,對每個斷面及相應(yīng)圖像上的結(jié)構(gòu)分析描述,探討在MRI上辨認大腦中央后溝和緣上回的最佳途徑。對3個典型斷面(中央后溝首次出現(xiàn)斷面;丘腦枕斷面;胼胝體壓部斷面)上腦部結(jié)構(gòu)的出現(xiàn)率進行統(tǒng)計、分析,以尋找辨認中央后溝和緣上回的標(biāo)志。2結(jié)果2.1緣上回的下辨識本斷面的特征是出現(xiàn)錐體束。大腦半球上外側(cè)面外側(cè)溝以上部分可依三大髓突自上而下辨認額上回、中央前回和中央后回,中央后回后方首次出現(xiàn)中央后溝,緣上回范圍很小不易辨認。背側(cè)丘腦與側(cè)腦室的外側(cè)有內(nèi)囊后肢,其纖維主要為錐體束。在本組30例標(biāo)本上,于首次切及中央后溝斷面上大腦結(jié)構(gòu)的出現(xiàn)率見(表1)。2.2中央后回外側(cè)溝上方為額葉和頂葉,依三大髓突并結(jié)合中央前溝、中央溝和中央后溝,自上而下區(qū)分出額上回、中央前回、中央后回和緣上回。于右側(cè)半球,因中央后回的髓突分叉,而從上下方夾持緣上回(圖1)。在MRI圖像上,髓突和腦溝清晰可辨,其表現(xiàn)基本上同斷層標(biāo)本(圖2、3)。2.3中央旁私家車組突變此斷面的主要變化表現(xiàn)在:(1)丘腦枕出現(xiàn)。(2)左外側(cè)溝由“Y”形變?yōu)椤耙弧毙?。在本組左側(cè)63%、右側(cè)73%的標(biāo)本中,當(dāng)外側(cè)溝由“Y”形變?yōu)椤耙弧毙螘r,緣上回出現(xiàn)。(3)首次出現(xiàn)中央旁小葉前部,額上回消失,中央前回髓突變得粗大飽滿。在本組左側(cè)70%、右側(cè)80%的標(biāo)本中,當(dāng)首次出現(xiàn)中央旁小葉前部時,中央前回髓突變得粗大飽滿。在本組30例標(biāo)本上,于丘腦枕斷面大腦結(jié)構(gòu)的出現(xiàn)率見(表2)。2.4大髓突回歸的順序外側(cè)溝已進入緣上回,完全由“Y”形變?yōu)椤耙弧毙巍４竽X半球上外側(cè)面可見六大髓突,自上而下依次是中央前回、中央后回、緣上回、顳上回、顳中回和顳下回。中央后回與緣上回之間為中央后溝(圖4～6)。在本組30例標(biāo)本上,于胼胝體壓部斷面上大腦結(jié)構(gòu)的出現(xiàn)率見(表3)。2.5腦球內(nèi)扣帶溝左中央溝位于半球上緣,界分內(nèi)側(cè)的額葉和外側(cè)的頂葉。在大腦半球內(nèi)側(cè)面上,最深的腦溝為扣帶溝,已移行為其緣支。于大腦半球上外側(cè)面上,最深的腦溝為頂內(nèi)溝,其上方依次為頂上小葉、中央后溝和中央后回,下方為緣上回(圖7～9)。2.6葉哌葉中央后溝位四個斷面上大腦半球上外側(cè)面依頂顳線分開頂葉顳葉,中央后溝位近上緣,于斷面27上消失。頂內(nèi)溝是斷面上最深的溝,界分上方的頂上小葉和下方的緣上回與角回(圖10～12)。3討論3.1腦連續(xù)簿層冠狀斷層與髓突在斷面上的定位歸納起來,以往的研究主要采用3種方法在斷面上定位大腦的溝、回:(1)尋找標(biāo)志性腦溝的走行特點或與其它腦溝相連而形成的特征來辨認其鄰近的溝、回,此法雖切實可行,但僅適用于少數(shù)溝、回;(2)通過辨認大腦白質(zhì)形成的髓突來定位大腦的溝、回,但此法難以確定某一溝、回何時出現(xiàn)或何時消失,故容易在斷面間造成錯認;(3)使用功能影像學(xué)手段,通過運動手指、語言活動或給予各種感覺刺激來辨認相應(yīng)的溝、回,此法基本上是借助于整體解剖學(xué)知識來在斷面上定位大腦的溝、回,故欠精確。本文以經(jīng)AC-PC線中點的垂線為基線,采用腦連續(xù)簿層冠狀斷層標(biāo)本與相應(yīng)MRI圖像及活體腦MRI圖像相互對照的方法進行研究,提出了以大腦溝、回與腦深部結(jié)構(gòu)的對應(yīng)關(guān)系并結(jié)合髓突在斷面上定位大腦溝、回的方法。此方法簡便、實用、準(zhǔn)確,不但適用于腦斷層標(biāo)本,也適用于MRI圖像,但在臨床應(yīng)用中,要求以經(jīng)AC-PC線中點的垂線為基線進行掃描。3.2中央后溝的發(fā)現(xiàn)和鑒定中央后溝是大腦半球上外側(cè)面頂葉較為恒定的腦溝,常分成上、下兩部分,與中央溝大致平行,其上端多未達半球上緣,下端約半數(shù)抵達外側(cè)溝,頂內(nèi)溝通常起始于其中點或下部的上端。在橫斷面上,Iwasaki和劉豐春提出以髓突辨認中央后回的方法來確認中央后溝。在矢狀斷面上,Naidich和李振平等指出可借助前方的中央溝與后方的緣上回來辨認中央后溝。在本組大腦連續(xù)冠狀斷層標(biāo)本及MRI圖像上,經(jīng)對中央后溝的追蹤觀察發(fā)現(xiàn):多數(shù)標(biāo)本中央后溝首次出現(xiàn)在錐體束消失而背側(cè)丘腦仍然存在的斷面上(見表1),于30例標(biāo)本中未見中央后溝出現(xiàn)錐體束之前者;在丘腦枕斷面上,中央前溝大多消失,中央前回髓突變得粗大,大腦半球上外側(cè)面外側(cè)溝以中央溝與中央后溝為界,區(qū)分中央前回、中央后回、緣上回;胼胝體壓部消失以后,扣帶溝緣支和頂內(nèi)溝出現(xiàn),中央后溝接近上緣。在切及側(cè)腦室后角末端的斷面上,中央后溝消失。3.3緣上回發(fā)現(xiàn)的意義大腦半球上外側(cè)面頂下小葉前部圍繞外側(cè)溝后升支末端的部分稱緣上回,在優(yōu)勢半球?qū)儆诤笳f話區(qū)。在橫斷面上,劉豐春以髓突來辨認緣上回。在矢狀斷面上,Naidich指出圍繞于外側(cè)溝后升支上方的“馬蹄”形腦回為緣上回。劉樹偉等