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文檔簡介

標準圓多面型加工工藝主講教師:廖望春授課單位:金陵科技學院珠寶系琢型選取琢型選取琢型分類圓多面型特征圓多面型類型圓多面型選取琢型審美琢型分類圓鉆琢型弧面型階梯琢型刻面型混合琢型…………圓多面型特征設計目的:使一些刻面反射光線以獲得異彩,另一些刻面的折射光線以增加火彩。組成:由57或58個刻面組成特點:①腰截面為正圓形;②以腰經尺寸為基礎,各部分有嚴格比例尺寸:臺面為腰經面的53%~60%,全高度為腰經的59.3%~60%,亭高占2/3,冠高占1/3,腰厚占1.5%~2%,星環(huán)、半環(huán)接線在冠高1/2處;③冠部有33個刻面,亭部有24個刻面,共計57個刻面,如有底面,則為58個刻面,各組對稱均勻;④適合等粒狀無色透明寶石,光學效應最好,重量最大。理想比例:冠部:臺面1個星小面8個冠主面8個冠足小面?zhèn)€亭部:亭足小面?zhèn)€亭主面8個亭部與冠部的比例為2:1,腰部約占寶石厚度的2—3%,圓鉆型冠部刻面圖圓鉆型亭部刻面圖圓鉆型冠、亭部比例圓多面型類型發(fā)展史前身是尖角式和桌式。尖角式盛行于中世紀的歐洲大陸,桌

式出現(xiàn)于16世紀初,一直沿用到17世

紀中17世紀中后期,先后出現(xiàn)單翻式琢型、方鉆式

(古墊式)琢型18世紀初期,出現(xiàn)了老礦工式琢型和巴西式琢型18世紀中葉后,近代圓鉆式琢型相繼誕生。其中比較有代表性的是老歐洲圓鉆式琢型和英國

圓鉆式琢型。19世紀中葉,近代圓鉆式琢型才開始流行20世紀初,由馬歇爾·托爾科夫斯基所創(chuàng),被美

國人廣泛使用,被稱為美國理想琢型。除此之外,還有歐洲式和Scan.D.N式。20世紀后期,又出現(xiàn)了翻光面更多的圓鉆式琢型。變形圓多面型選取用途:主要用于高色散的無色寶石,也可用于彩色寶石。琢型審美對稱比例和諧韻律單純齊一多樣統(tǒng)一工藝流程工藝準備1)粗細盤的選擇在寶石加工時,粗細盤要交替使用,粗細盤的好壞直接影響寶石刻面的加工質量。所以在使用磨盤前要對粗細盤做嚴格的挑選,最好選用新的磨盤。挑選時首先將磨盤固定在研磨機上,開啟機器,用寶石輕輕接觸磨盤無上下顛簸現(xiàn)

象即可使用。選?。捍直P:180#—220#鉆粉磨盤;細盤:240#—600#鉆粉磨盤;精磨盤:800#—1200#鉆粉磨盤。2)拋光盤的選擇拋光盤面平整,無凹陷、劃痕,并根據不同研磨材料選取不同材料用度的拋光盤??堂鎸毷膾伖猓瑧褂糜脖P、中硬盤。硬盤適于拋光硬度較高的寶石,中硬盤適于拋光硬度較低的寶石。拋光盤還與拋光劑的配合使用有關。拋光劑的種類不同,對不同寶石的拋光效果不同。一般,高硬度的拋光劑如鉆石粉、紅寶粉等,拋光效果均比低硬拋光劑好。拋光劑與拋光盤的配合使用是否得當,對寶石的拋光效果也有很大影響。3)八角手及粘棒在選擇八角手時,理想的應當孔位清晰、手動制動栓與孔槽緊密吻合、彈簧力度適中,將粘棒插入八角手插槽中,擰緊禁錮螺栓后粘棒無松動現(xiàn)象。由于粘棒的直徑不盡相同,因此要根據八角手插槽的內徑來選擇。將粘棒深置于卡口中,擰緊禁錮螺栓時,粘棒處于不可旋動狀態(tài)即可。工藝流程出坯粘棒圈形冠部研磨冠部拋光粘膠清洗亭部拋光亭部研磨對接1.出坯1)選料選料是指原料選取,即選擇透明度比較好、無裂紋、無明顯氣液包裹體或其他雜質的單晶體寶石原石。2)開料開料是指根據寶石原石的大小、形狀、質量以及琢型和成品率等因素,將塊度較大的原石分割成兩塊或多塊毛坯。開料的方法有兩種:劈切法和鋸切法。3)沖坯沖坯是將切割好的寶石毛坯用修整機、輪磨機或沖坯機除去毛坯上無用的部分,修整邊角或去掉棱角,得到形狀規(guī)整的粗坯沖坯的步驟注意:(1)手持坯料沖磨時要拿緊捏穩(wěn),防止坯料脫手崩碎,若坯料小而不便手持,可用膠將坯料粘接在粘棒上進行沖磨。(2)要邊沖磨邊變換坯料的磨削部位,先磨削去掉突出的多余邊角,再逐漸沖磨成圓鉆式琢型的皺形。沖磨過程中磨削量不宜太大。(3)沖磨時需不斷用水噴淋冷卻,防止磨削熱量過高而使寶石出現(xiàn)崩裂現(xiàn)象。a、角度太小b、角度太大c、冠、亭部比例不當d、亭部不正幾種不正確的毛坯形狀2.粘膠1)粘膠操作步驟(1)根據琢型要求選擇相應的粘棒。(2)手持粘棒,置于酒精燈上加熱粘棒前端,然后涂裹上適量膠體,同時利用粘接架側面平臺將膠體滾壓均勻,膠涂好后繼續(xù)置于酒精燈上烘烤,使粘膠保持塑性狀態(tài)。最后將膠棒滾壓成倒錐形。此時的錐形底面一定要平整,且錐形底面面積相

當于寶石的4/5左右。(3)將造好型的寶石用酒精或清水洗干凈,用鑷子夾住寶石,把適宜磨寶石亭部的刻面在火上加熱,至能夠充分燙化膠體。(4)加熱寶石后將寶石放在平正的桌面上,灼燒面在上,手持粘棒,把有膠的一端垂直刻面下壓,灼熱的寶石可與膠棒緊密粘接在一起且不易脫落。(5)在膠棒還處于熱可塑狀態(tài)的時候,把手捏搓粘膠部位,使粘膠包裹均勻,同時校正寶石坯料,使寶石中心與粘棒軸心一致,并利用粘接架頂壓校正寶石坯料頂面。2)粘膠注意事項(1)粘膠前,若寶石坯料或粘棒表面沾有粉塵、油污等,一定要清洗干凈,否則粘膠后易脫膠。(2)粘棒要充分加熱后再涂裹膠體,若加熱不夠,則膠粘不牢固。(3)寶石加熱要恰到好處,并注意預熱。加熱不夠則粘不牢,加熱過快或過度則有可能導致寶石爆裂。(4)膠體不宜在火焰上過度燒烤,冒煙起火,這樣會使膠體老化、變脆,易脫膠。(5)粘膠后宜將粘棒豎置(寶石向上)片刻,待其自然冷卻后再加工。3.圈形1)造型操作技法手持粘結有寶石的粘棒,置于金剛石磨盤上,粘棒與磨盤面平行,邊搓動粘棒邊打磨坯料側面,使之形成圓滑的正圓形腰圍形態(tài)。2)造型注意事項(1)由于造型后,寶石腰圍面一般不再加工(拋光),因此若用粗砂盤造型后,一定要用細砂盤再均勻打磨一遍,以免影響最終成品的腰部外觀。(2)造型打磨時,要注意始終保持粘棒軸向與磨盤面平行,這樣才能確保打磨出與琢型臺面相互垂直的腰圍面。(3)造型后的腰形輪廓規(guī)整、圓滑,為了便于把握輪廓,可以事先在坯料頂面用圓形模板畫線或做好標記后再造型。4.冠部刻面琢磨(1)冠主面研磨①將粘有寶石的粘棒固定于八角手上,放在1號孔位,調整托盤到相應高度。開啟機器,打開冷卻水開關。②先完成相對稱一組刻面(兩個面)的研磨,注意研磨尺度要適當。③轉換八角手模塊的邊,完成其他三組冠主面的研磨。(2)星小面研磨琢磨星小面時由于磨削量小,要求的精度高,因此需采用細盤來磨。研磨方法如下:①將八角手孔位調至2號孔位。開啟機器,打開冷卻水開關。②根據研磨角度調整托盤高度,試磨第一個星小面大小,如有不妥,可作細微調整。③轉換八角手的邊,完成其他7個星小面的刻磨。研磨尺寸示意圖(3)足小面研磨足小面研磨要求同星小面一樣,要使用細盤。研磨方法如下:①將八角手孔位調至3號孔。調整托盤至相應高度,開啟機器,打開冷卻水開關。②緩緩下降寶石以接觸磨盤,觀察研磨尺寸,如有需要,作細微調整。③換4號孔位,完成第一組足小面。④交替轉換八角手模塊的邊和3、4號孔位,完成

其它7組足小面的研磨工作。5.冠部刻面拋光拋光冠小面時可以按照刻磨的順序進行拋光,也可以反順序拋光,總之,要將琢型冠部的每個刻面均做拋光處理。因剛剛研磨完成足小面,托盤高度尚未調動,為了方便,可從足小面開始拋光。(1)拋光步驟方法①將細盤調換為拋光盤(在研磨時,一般將較薄的磨盤與較厚的拋光盤重疊固定在研磨機上,此時只需將磨盤與拋光盤調換一下即可)。用砂紙打磨拋光盤的表面,去除拋光盤表面雜質、污點,用清水清洗擦拭干凈。涂抹適量拋光劑,滴適量拋光油,均勻涂抹在拋

光盤上,將八角手調至3號孔位,開啟機器。②托盤高度為研磨時的高度,無須調整。把八角手放在托盤上,將寶石緩緩與拋光盤接觸,發(fā)生摩擦后可通過適當用力的方式來加速拋光。③足小面拋光完成后,調整高度、孔位、或分度依次對冠主面、星小面進行拋光。(2)拋光注意事項①隨時檢查拋光刻面的圓周分度和角度是否正確。②要注意適當調節(jié)拋光劑的濃度并控制供給量。③拋光時要適當施加壓力,但不宜過大,否則容易引起寶石與膠體脫落。④對同一刻面的一次拋光時間不要過長,以免引起溫度過高,使寶石灼傷,或使膠體軟化脫膠。⑤拋光盤的使用面積要大,寶石宜在拋光盤上來回晃動,以免因長時間使用拋光盤的某一局部而產生凹陷變形。⑥拋光時無須冷卻。不必添加冷卻裝置、滴加冷卻液。6.反向粘結寶石冠部研磨完畢后,需將寶石翻轉,即將冠部粘結起來,以便琢磨亭部。如圖所示,A為原粘結有寶石的粘棒,B為將要粘結寶石的粘棒,反向粘結步驟如下:(1)先將粘棒A固定在對接臺的一端;(2)取一前端帶有膠體的粘棒B,放在對接臺另

一端的V型槽內,使其前端膠體與寶石相距0.5厘米左右。(3)對粘棒B前端膠體進行加熱處理,使膠體處于熱可塑狀態(tài)。(4)將粘棒B推向A,使粘棒A、B與寶石粘為一體。7.亭部研磨在研磨亭部刻面時,研磨方法與冠部刻面的研磨方法基本相同。具體步驟如下:(1)將拋光盤換位磨盤,八角手調至1號孔位。開啟機器。打開冷卻水開關。(2)調整托盤高度,將八角手放于其上,緩緩下降寶石以接觸磨盤,研磨會在寶石坯料的底面上形成一條邊楞,當邊棱將至底面圓的中線處時暫停此面的磨削,變化八角手模塊的邊,研磨下一個主刻面。(3)調整托盤高度,變換3、4孔位,完成足小面的刻磨。注意:在研磨時,應注意留出適當厚度的腰棱,大約為

琢型厚度的2—3%。且在研磨主刻面時,同組對立面應同時進行,最終各條棱相交與一個頂點。8.亭部拋光亭部的拋光方法、順序可參見冠部刻面拋光祥解。9.拆膠清洗寶石將加工好的寶石從八角手上取下,放在酒精燈上灼燒,待膠體融化后取下寶石。當寶石處于溫熱狀態(tài)時,即可放于清洗液中稍作

浸泡,以去除殘留膠體。一般使用50%乙醇去除寶石表面殘留膠。清洗完畢后,擦拭寶石表面的清洗液。至此,一顆標準圓鉆型寶石加工完畢。常用的清洗液主要有:(1)酸性溶液:清洗磨盤或拋光盤表面的金屬氧化物常用稀鹽酸;清洗寶石表面的有機物、油污或污點可用

10%—50%的乙酸。(2)堿性溶液:清洗表面的有機物,油污或污點可用5%碳酸鈉、

0.5%氫氧化鈉等堿性溶液。(3)有機溶劑:清洗寶石表面的殘留膠用50%的乙醇有機溶劑。工藝技法工藝技法體現(xiàn)高透明度顯示最佳亮度突顯亮麗火彩表現(xiàn)最強光澤展示變色效應體現(xiàn)高透明度加工:1、透明度與材料選取1)透明材料凈度優(yōu)先2)特征材料效應優(yōu)先3)貴重材料保重優(yōu)先琢型選擇:透明寶石常設計成多組對稱、協(xié)調和精拋光的刻面琢型,以便增強光線進入寶石后的折射、內反射的強度,以顯示其最佳的光澤、火彩及亮度,突出寶石的瑰麗如鉆石、紅藍寶等。拋光程度:透明度寶石材料,其寶石成品的光潔度對其外觀效果影響較大。因此,透明材料對拋光質量要求較高,即使是微小的拋光痕也會影響寶石成品質量,這就需要采取極其精細的拋光方式。顯示最佳亮度加工:1、材料特性對亮度的影響:亮度取決于光的傳播特性,而光的傳播特性由材料特性決定。熒光作為亮度的假象,干擾亮度觀察。2、寶石琢型對亮度的影響:①精確琢型角度、比例以保證全內反射,達到理想琢型亮度。②通過拋光提高表面反射光(光澤)來保證亮度。(刻面平整光滑,弧面平滑,柔順)③弧面寶石砂拋底面(糙底)來防止漏光保證亮度。突顯亮麗火彩加工:1、琢型選擇:必須是刻面型??僧a生火彩的材料為了突顯其亮麗的火彩,必須將其加工成刻面琢型。要想獲得強烈的火彩,還要保證冠部具有較多的刻面數(shù),并且臺面尺寸應盡量小。因為較小的臺面可促使更多的光線從冠部斜刻面射出,以便產生火彩;而斜刻面的數(shù)目越多,色散越分散,火彩也就越明顯。2、切磨角度:注意琢型角度,磨削的規(guī)整程度。在琢型設計中,為了達到較理想的火彩,琢型面角比例是一定的。因此,在研磨加工時,角度比例稍有變動即會導致漏光現(xiàn)象的發(fā)生,所以研磨時要嚴格按照標準尺寸來研磨,并有效提高研磨的精度。磨削時還要注意磨削的規(guī)整程度,即棱與棱之間的搭接程度、面與面之間的協(xié)調程度,以及刻面的光滑程度。這些因素影響著火彩的效果,因此加工具火彩的寶石時,需要操作者非常謹慎,以便使寶石達到預期的效果。3、拋光程度:進行高強度拋光達到平整光滑。拋光程度是影響光線射入、射出材料的主要因素,表面光潔度不夠,光線射入量減少,火彩自然就會受到影響。這就要求拋光時,對此類寶石的刻面進行高強度拋光,使其刻面達到平整、光潔的效果。表現(xiàn)最強光澤加工:材料性質決定光澤的性質,加工增強光澤度。一般光澤較強的加工成刻面琢型,如圓鉆型光澤較弱則加工成弧面型。拋光:①精拋可以增強寶石的光澤度;②

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