標準解讀
《JJF 1760-2019 硅單晶電阻率標準樣片校準規(guī)范》與《JJG 48-2004 硅單晶電阻率標準樣片》相比,在內(nèi)容上進行了多方面的更新和完善。主要變化體現(xiàn)在以下幾個方面:
首先,文件性質發(fā)生了改變,從檢定規(guī)程轉變?yōu)樾室?guī)范,這意味著對于硅單晶電阻率標準樣片的要求不再局限于強制性檢定,而是更加注重通過校準來保證其量值傳遞的準確性和可靠性。
其次,《JJF 1760-2019》對適用范圍做了調(diào)整,明確了適用于測量范圍在1Ω·cm至1000Ω·cm之間的p型或n型硅單晶電阻率標準樣片的校準工作,同時規(guī)定了此類樣品應具有良好的均勻性和穩(wěn)定性,并且表面處理狀態(tài)良好。
再者,新標準增加了關于環(huán)境條件的具體要求,如溫度控制精度、相對濕度等,確保在校準過程中能夠獲得更穩(wěn)定可靠的測量結果。
此外,《JJF 1760-2019》還引入了不確定度評定方法,指導實驗室如何評估并報告校準結果的不確定度,這有助于提高數(shù)據(jù)解釋的一致性和科學性。
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....
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2019-09-27 頒布
- 2020-03-27 實施
文檔簡介
中華人民共和國國家計量技術規(guī)范
JJF1760—2019
硅單晶電阻率標準樣片校準規(guī)范
CalibrationSpecificationfor
StandardSlicesofSingleCrystalSiliconResistivity
2019-09-27發(fā)布2020-03-27實施
國家市場監(jiān)督管理總局發(fā)布
JJF1760—2019
硅單晶電阻率標準樣片
??
???????????????
校準規(guī)范?JJF1760—2019?
??
?????????????
?代替JJG48—2004?
CalibrationSpecificationforStandardSlicesof??
SingleCrystalSiliconResistivity
歸口單位全國無線電計量技術委員會
:
主要起草單位中國計量科學研究院
:
參加起草單位福建省計量科學研究院
:
本規(guī)范委托全國無線電計量技術委員會負責解釋
JJF1760—2019
本規(guī)范主要起草人
:
高英中國計量科學研究院
()
李蘭蘭中國計量科學研究院
()
參加起草人
:
羅海燕福建省計量科學研究院
()
楊愛軍福建省計量科學研究院
()
JJF1760—2019
目錄
引言
………………………(Ⅱ)
范圍
1……………………(1)
引用文件
2………………(1)
術語和計量單位
3………………………(1)
電阻率
3.1………………(1)
厚度
3.2…………………(1)
直徑
3.3…………………(1)
薄層電阻
3.4……………(1)
導電類型
3.5……………(1)
四探針
3.6………………(1)
局部徑向電阻率均勻性
3.7……………(1)
概述
4……………………(2)
計量特性
5………………(2)
標準樣片電阻率的測量范圍
5.1………(2)
標準樣片的電阻率標稱值
5.2…………(2)
標準樣片應具備的參數(shù)及性能要求
5.3………………(2)
校準條件
6………………(3)
環(huán)境條件
6.1……………(3)
校準用設備
6.2…………(3)
校準項目和校準方法
7…………………(3)
校準項目
7.1……………(3)
外觀檢查
7.2……………(4)
導電類型判別
7.3………………………(4)
直徑測量
7.4……………(4)
厚度測量
7.5……………(4)
電阻率或薄層電阻測量
7.6……………(5)
局部徑向電阻率均勻性測量
7.7………(6)
校準結果表達
8…………(7)
復校時間間隔
9…………(7)
附錄原始記錄格式
A…………………(8)
附錄校準證書內(nèi)頁格式
B……………(10)
附錄主要項目校準不確定度評定示例
C……………(11)
附錄標準樣片厚度修正系數(shù)表
D……………………(16)
附錄標準樣片直徑修正系數(shù)
E………(17)
附錄標準樣片電阻率溫度系數(shù)表
F…………………(18)
Ⅰ
JJF1760—2019
引言
本規(guī)范依據(jù)國家計量校準規(guī)范編寫規(guī)則和
JJF1071—2010《》JJF1059.1—2012
測量不確定度評定與表示編寫
《》。
本規(guī)范代替硅單晶電阻率標準樣片與相比除編
JJG48—2004《》,JJG48—2004,
輯性修改外主要技術變化如下
,:
增加了引言引用文件術語和計量單位
———、、;
刪除了硅單晶電阻率標準樣片的級別分類
———;
刪除了硅單晶電阻率標準樣片的清洗方法
———;
修改了電阻率的測量范圍由原來的改為
———,0.005Ω·cm~5000Ω·cm
0.003Ω·cm~1000Ω·cm;
修改了硅單晶電阻率標準樣片直徑的校準方法
———;
修改了硅單晶電阻率標準樣片厚度的校準方法
———;
修改了硅單晶電阻率標準樣片徑向電阻率均勻性的校準方法
———。
本規(guī)范的歷次版本發(fā)布情況
:
———JJG48—2004;
———JJG48—1990。
Ⅱ
JJF1760—2019
硅單晶電阻率標準樣片校準規(guī)范
1范圍
本規(guī)范適用于電阻率在之間的硅單晶電阻率標準樣片
0.003Ω·cm~1000Ω·cm
的校準
。
2引用文件
本規(guī)范引用了下列文件
:
四探針電阻率測試儀
JJG508—2004
半導體材料術語
GB/T14264
凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本規(guī)范凡是不注日期的引用文
,;
件其最新版本包括所有的修改單適用于本規(guī)范
,()。
3術語和計量單位
電阻率
3.1resistivity
荷電載體通過材料受阻程度的一種量度電阻率是電導率的倒數(shù)符號為單位
。。ρ,
為
Ω·cm。
厚度
3.2thickness
通過晶片上一給定點垂直于表面方向穿過晶片的距離通常以晶片幾何中心的厚度
。
為該晶片的標稱厚度單位為
。μm。
直徑
3.3diameter
橫穿圓片表面通過晶片中心點且不與參考面或圓周上其他基準區(qū)相交直線的長
,
度單位為
。mm。
薄層電阻
3.4sheetresistance
半導體或薄金屬膜的薄層電阻與電流平行的電勢梯度對電流密度和厚度乘積的
,
比又稱方塊電阻符號為R單位為
。。s,Ω/□。
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