PVD表面鍍覆技術(shù)原理

1、PVD表面鍍覆技術(shù)原理主要內(nèi)容主要內(nèi)容一、制程概述二、真空涂料介紹三、鍍膜介紹四、產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求五、材料的選擇六、透光效果七、新工藝開發(fā)及展示u制程概述Primer 提高特殊材料素材 (如 PA, PA+GF, PC+GF) 與涂層間的附著力，ABS/PC or PC 素材不需要Primer。底涂 為鍍膜層提供平整、良好的表面，提高鍍膜層與素材間的附著力；鍍膜層 使產(chǎn)品產(chǎn)生金屬質(zhì)感；鍍膜方式主要有蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍膜； VM: Vacuum Metalization (primary for keypad) NCVM: Non-conducting Vacuum Metalization (pri

2、mary for housing) 中涂 提供顏色涂層載體，提高鍍膜層及涂層間的附著力；色漿一般添加在中涂中。面涂 保護(hù)作用，提高產(chǎn)品漆膜的硬度、耐磨性等；Substrate (PC)BasecoatTopcoatMetal layerMiddle coatSubstrate (PA+GF)BasecoatTopcoatMetal layerMiddle coatPrimerSubstrate (PC)BasecoatTopcoatMetal layer涂料體系固化及成膜原理涂料涂料體系體系： PU：聚氨酯涂料體系 UV：紫外光輻射固化涂料體系固化固化機(jī)機(jī)理：理：首先光引發(fā)劑受波長為20040

3、0nm的紫外線輻射而被激活并破裂形成自由基。自由基與樹脂中的雙鍵作用，形成長鏈自由基。增長著的長鏈進(jìn)一步反應(yīng)形成聚合物。成膜成膜機(jī)理機(jī)理PU：NCO和OH反應(yīng)，發(fā)生逐步加成聚合反應(yīng)R-NCO+HO-RR-NHCO-OR+R-NCO UV：光引發(fā)劑受紫外光輻射后裂解成自由基，再與單體、樹脂中的雙鍵聚合,發(fā)生裂解聚合反應(yīng)。 AB AB B+M BM+M BM2u涂料涂料/噴涂噴涂u涂料涂料/噴涂噴涂UV涂料涂料與與PU涂料相比，具有以下涂料相比，具有以下特點(diǎn)特點(diǎn)1.適合于不耐熱材料，如木材、紙張、塑料、織物、玻璃等，及熱容量大的厚板金屬件的涂漆固化；2.固化速度快，只需幾十秒就固化，有時(shí)更短。3.

4、不存在活化期問題，使用方便。4.固含量高，固化時(shí)活性稀釋劑的揮發(fā)較少。5.能耗僅為熱固化的1/10，能量利用率高。而熱固化時(shí)熱量多用于工件加熱和熱量散發(fā)損失。6.很適合于高速流水線生產(chǎn)，生產(chǎn)效率高。7. 復(fù)雜形狀表面不適宜用光固化涂料，死角部位不能固化。UV與PU的工藝區(qū)別涂料膜厚(um)烘烤溫度烘烤時(shí)間（min)抗腐性可印刷性復(fù)涂性活化時(shí)間（hour)1K4-1550-7010-15較差好好無2K PU20-408030-60較好較好較好2-8UV8-1255-655好部分較好不可無u涂料涂料/噴涂噴涂涂料與素材的匹配基材涂料體系烘烤溫度()烘烤時(shí)間(分鐘）ABS1K / 2K / UV (

5、KD /CV)60-7010-15PC1K / 2K / UV (KD /CV)60-7010-15ABS/PC1K / 2K / UV (KD /CV)60-7010-15PMMA2K / UV (UV 3650)60-705MagnesiumPU primer (Mudguard 500)8030Nylon PU / primer（PAG100)60-7015-20PPPU primer60-7010-20TPUPU (UNEX)60-7030EDPU / primer（PAG100)60-7015-20u涂料/噴涂1噴漆素材材料2化學(xué)電鍍SubstrateMaterial正極負(fù)極3蒸發(fā)鍍

6、鍍材素材加熱器氣體4濺射鍍鍍材素材氣態(tài)u鍍膜鍍膜表面處理類型真空電鍍優(yōu)點(diǎn)1.被鍍物與塑料不產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)；2.環(huán)保制程，無化學(xué)物污染；3.可鍍多重金屬；4.生產(chǎn)速度快；5.可對各種素材加工；6.屬低溫制程；薄膜薄膜沉積的兩種常見制程沉積的兩種常見制程真空鍍膜分為1）物理氣相沉積，即PVD (Physical vapor deposition)2）化學(xué)氣相沉積，即CVD (Chemical vapor deposition), 前者又分為： 后者分為： a.蒸發(fā)鍍膜； a.常壓CVD; b.離子鍍膜； b.低壓CVD; c.濺射鍍膜。 c.等離子體CVD; d.其它CVD。 按功能要求也可區(qū)分為：

7、 a.裝飾性鍍膜； b.功能性鍍膜。真空環(huán)境的必要性真空環(huán)境的必要性1) 降低氧分壓，避免材料氧化；2) 在高溫下防止空氣分子和蒸發(fā)源發(fā)生反應(yīng)，生成化合物而使蒸發(fā)源劣化；3)某些鍍膜工藝需要特定的壓力環(huán)境（如濺射鍍膜時(shí)，需滿足一定的氣體壓力）；4)防止因蒸發(fā)物質(zhì)的分子在真空室內(nèi)與氣體分子碰撞而阻礙蒸發(fā)分子直接到達(dá)基片表面，和在途中生成化合物或由于蒸發(fā)分子間的相互碰撞而在到達(dá)基片之前就凝聚等；5)防止在基片上形成薄膜的過程中，氣體分子作為雜質(zhì)混入膜內(nèi)或者在薄膜中形成化合物。 真空系統(tǒng)的組成真空系統(tǒng)的組成真空系統(tǒng)的組成：真空室、真空泵、真空規(guī)。 真空室：進(jìn)行鍍膜的空間；真空泵：對真空室進(jìn)行抽氣的裝

8、置； 分為前級泵，次級泵。 至今還沒有一種泵能從一個(gè)大氣壓一直工作到超高真空。因此通常是將幾種真空泵組合使用。 真空規(guī)：對真空系統(tǒng)進(jìn)行氣體壓力探測的儀器； 鍍材素材加熱器腔體氣態(tài)金屬u鍍膜鍍膜蒸發(fā)鍍膜(Evaporation)鎢絲鎢舟鉬舟蒸發(fā)源的類型 a電阻蒸發(fā)源： 電阻蒸發(fā)源的形式 蒸發(fā)源材料要求： 1）熔點(diǎn)要高； 2）飽和蒸汽壓低； 3）化學(xué)性能穩(wěn)定； 4）良好的耐熱性； 5）原料豐富。 常用W、Mo、Ta或耐高溫的金屬氧化物、陶瓷或石磨坩堝。 W的熔點(diǎn)：3380oC,相對密度：19.3； Mo的熔點(diǎn)：2630oC,相對密度：10.2； Ta的熔點(diǎn)：2980oC,相對密度：16.6。 b電

9、子束蒸發(fā)源 優(yōu)點(diǎn)：1.束流密度高，蒸發(fā)速度快； 2.可避免容器材料的蒸發(fā)有利于提高純度； 3.熱效率高。 缺點(diǎn)：設(shè)備結(jié)構(gòu)復(fù)雜，價(jià)格昂貴。會產(chǎn)生軟X射線對人體有害。直槍蒸發(fā)源e型電子槍蒸發(fā)源鍍材素材原子/離子u鍍膜鍍膜濺鍍(Sputtering)原理：1. Ar 氣體原子的解離 Ar Ar+ e2. 電子被加速至陽極，途中產(chǎn)生新的解離。3. Ar 離子被加速至陰極撞擊靶材，靶材粒子及二次電子被擊出，前者到達(dá)基板表面進(jìn)行薄膜成長，而后者被加速至陽極途中促成更多的解離。In-line Sputtering SystemSputteringchamberBufferchamberUnloadingch

10、amberPlasmatreatmentLoadingchamberrobotInrobotOutSputtering ProcessSputteringChamberBufferChamberUnloadingChamberBufferChamberLoadingChamberOut磁控濺射源主要有三種：1）柱狀磁控濺射源：適于制作大面積濺射膜，在工業(yè)上應(yīng)用較廣泛。2）平面磁控濺射源：圓形的可以制成小靶，矩形的可以制成大靶。其結(jié)構(gòu)簡單，造價(jià)低，通用性強(qiáng)，應(yīng)用最廣。3）濺射槍：其結(jié)構(gòu)較復(fù)雜，一般配行星式夾具使用。特點(diǎn)：靶材利用率高；膜厚分部均勻；靶功率密度大；易于更換靶材。Principle

11、of SuptteringVacuum pumpTakes place in a vacuumchamberElectrical charge is formed between the substrate and cathodeGas is injected in chamberIons hit the target andknock off atomsTarget atoms land (condense) on substrate to form a thin filmTarget Material(Cathode)SubstrateEnergyIons move in plasmaGa

12、sPlasmaGas ionizes - forms a plasmaPLASMA物質(zhì)的第四態(tài)物質(zhì)的第四態(tài)借由外加的電場能量來促使氣體內(nèi)的電子獲得能量并加速撞擊不帶電中性粒子，由于不帶電中性粒子受加速電子的撞擊后會產(chǎn)生離子與另一帶能量的加速電子，這些被釋放出的電子，在經(jīng)由電場加速與其他中性粒子碰撞。如此反復(fù)不斷，進(jìn)而使氣體產(chǎn)生崩潰效應(yīng) (gas breakdown)，形成電漿狀態(tài)。 什么是電漿什么是電漿 電漿性質(zhì) 1.整體來說，電漿的內(nèi)部是呈電中性的狀態(tài)，也就是帶負(fù)電粒子的密度與帶正電粒子的密度是相同的。 2.因?yàn)殡姖{中正、負(fù)離子的個(gè)數(shù)幾乎是一比一，因此電漿呈現(xiàn)電中性。 3.電漿是由一群帶電粒

13、子所組成，所以當(dāng)有一部分受到外力作用時(shí)，遠(yuǎn)處的部分電漿，乃至整群的電漿粒子都會受到影響，這叫做“電漿的群體效應(yīng)” 。 4.具有良好的導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性。 濺射鍍膜基于荷能離子轟擊靶材時(shí)的濺射效應(yīng)，而整個(gè)濺射過程都是 建立在氣體放電的基礎(chǔ)之上，即濺射離子都來源于氣體放電。常見放電類型： 1.直流氣體放電 2.低頻交流輝光放電 3.中頻交流輝光放電 4.射頻輝光放電 5.微波等離子體輝光放電電漿的本質(zhì)電漿的本質(zhì)-氣體放電氣體放電 1）無光放電：宇宙射線在電場下加速形成極小的電流，中性分子開始電離，不發(fā)光。 2）湯森放電：電壓增加后，更多氣體分子被電離，電流可在電壓不變下增加。 3）正常輝光放電：當(dāng)電壓

14、繼續(xù)增大后，電壓突然降低，電流突然增大，氣體被擊穿，出現(xiàn)帶有顏色的輝光。 1. 直流氣體放電直流氣體放電 4）異常輝光放電：電流增大，電壓升高。 5）弧光放電：極間電壓陡降，電流突然增大，相當(dāng)于極間短路。 由于正常輝光放電的電流密度仍比較小，所以濺射均在異常輝光放電的區(qū)域進(jìn)行。陰極與陽極間的距離至少必須比陰極與負(fù)輝光區(qū)之間的距離要長。 2. 低頻交流輝光放電（很少采用） 因其頻率低于50Hz，離子有足夠的活動性和充分的時(shí)間在每個(gè)半周期內(nèi)建立直流輝光放電，只是兩個(gè)電極交替成為陰極和陽極。 3.中頻交流輝光放電 40kHz 4.射頻輝光放電 530MHz,一般用13.56MHz。在一定的氣壓下，當(dāng)

15、陰陽極間所加交流電壓的頻率增高到射頻頻率時(shí)，即可產(chǎn)生穩(wěn)定的射頻輝光放電。兩個(gè)重要特征： 1）在輝光放電空間產(chǎn)生的電子獲得了足夠的能量，足以產(chǎn)生碰撞電離； 2）電極并不需要是導(dǎo)體，因而可以濺射包括介質(zhì)材料在內(nèi)的任何材料。 5.微波等離子體輝光放電 微波（MVV）是一種無極放電，,在真空室中導(dǎo)入.45GHz的微波能與磁場中回旋的電子發(fā)生共振促進(jìn)放電。PVD蒸鍍法真空蒸鍍?yōu)R射蒸鍍離子蒸鍍粒子生成機(jī)構(gòu)熱能動能熱能膜生成速率可提高快可提高粒子原子、離子原子、離子原子、離子蒸鍍均勻性複雜形狀佳良好良好，但膜厚分佈不均平面佳優(yōu)佳蒸鍍金屬可可可蒸鍍合金可可可蒸鍍耐熱化合物可可可粒子能量很低0.10.5eV可提

16、高1100eV可提高1100Ev惰性氣體離子衝擊通常不可以可，或依形狀不可可表面與層間的混合通常無可可加熱（外加熱）可通常無可，或無蒸鍍速率10-9m/sec1.6712500.1716.70.50833u鍍膜鍍膜鍍膜方式比較性質(zhì)沉積速率大尺寸厚度控制精確成份控制可沉積材料之選用整體制造成本方法蒸鍍(Evaporation)慢可佳多佳濺鍍(Sputtering)佳佳佳多佳u鍍膜鍍膜各種物理氣相沉積法之比較 若產(chǎn)品為高光面，則推薦使用SPI A1或 SPI A2. 當(dāng)VDI大于9時(shí)噴涂后開始出現(xiàn)橘皮現(xiàn)象，當(dāng)VDI大于18時(shí)橘皮現(xiàn)象將非常嚴(yán)重。 如產(chǎn)品為亞光面， VDI小于27可以接受，否則會產(chǎn)生

17、橘皮現(xiàn)象。以上為高光產(chǎn)品VDI為18和21時(shí)的橘皮現(xiàn)象u產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求素材表面粗糙度要求 底漆須膜厚很薄，大約5um； 由于大量的灰塵藏在紋理中以及太薄的膜厚會導(dǎo)致噴涂良率太低； 注塑的缺陷也會更明顯； 耐磨性能會很差。刷子紋狀素材CD紋狀素材十字交叉紋狀素材u產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求避免使用有紋理的素材 圓弧狀輪廓產(chǎn)品的肥邊現(xiàn)象會比直角狀輪廓產(chǎn)品輕微，倒角的半徑至少為0.5mm；尖銳的表面影響產(chǎn)品的耐磨性能。直角狀輪廓，肥邊現(xiàn)象比較明顯圓弧狀輪廓產(chǎn)品，肥邊現(xiàn)象較輕微Troubadix C-Cover; VDI 9; 高光產(chǎn)品素材PVD膜層倒角不合理的設(shè)計(jì)合理的設(shè)計(jì)倒角u產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求

18、產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求產(chǎn)品輪廓的設(shè)計(jì)要求 為達(dá)到振動摩擦測試要求，結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和涂料選擇上建議滿足以下要求：1、Mechanical Design 1）邊內(nèi)側(cè)設(shè)計(jì)R0.3mm 以上，如果后處理為PVD，必須為R0.5以上； 2）High Gloss和PVD：邊外側(cè)設(shè)計(jì)R1.3mm以上； PU/UV 無光： R0.71.0mm； 3）Window 設(shè)計(jì)必須高出Front 面；（需要Designer 重新Review Window高出后，Window 表面磨損效果）；2、涂料選擇 1）外側(cè)邊R1.3mm, UV/PU 并行適用； 2）外側(cè)邊R1.3mm以下，只能選用PU 漆； 3）鍍膜用涂料選用PU 及中硬質(zhì)U

19、V 涂料；避免產(chǎn)品卷邊、不平整等不良；避免窄邊設(shè)計(jì). 邊框的寬度至少需要4mm，否則產(chǎn)品性能接受標(biāo)準(zhǔn)需大幅降低并且素材硬度需要提高。Shelby項(xiàng)目上的卷邊、鋸齒不良現(xiàn)象避免窄邊設(shè)計(jì)，否則產(chǎn)品耐磨性能會降低0.8mmdu產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求產(chǎn)品輪廓的設(shè)計(jì)要求 邊框?qū)挾却笥?4mm高光產(chǎn)品上避免復(fù)雜的紋理設(shè)計(jì)，如深的凹槽及密集的孔。若此設(shè)計(jì)必須出現(xiàn)在此產(chǎn)品上，此產(chǎn)品的性能接受標(biāo)準(zhǔn)需要降低。復(fù)雜的紋理設(shè)計(jì)容易產(chǎn)生橘皮和肥邊不良多孔設(shè)計(jì)容易產(chǎn)生明顯的肥邊不良u產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求產(chǎn)品結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)要求 盡量避免如下圖設(shè)計(jì). 需要鍍膜的面超過180度時(shí)有少鍍的風(fēng)險(xiǎn)存在。如Spyder C-cove

20、r, 少鍍現(xiàn)象. 少鍍區(qū)域PVD和噴涂區(qū)域245u產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求產(chǎn)品結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)要求 避免在外觀要求高的面出現(xiàn)注塑不良，如熔接線、印痕等。PVD后熔接線不良PVD后印痕不良u產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求產(chǎn)品結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)要求 治具設(shè)計(jì)要求USW 線不允許出現(xiàn)在噴涂區(qū)域距離噴涂區(qū)域, d = 0.3mm治具噴涂區(qū)域d ddu產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求產(chǎn)品結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)要求 推薦使用PC, PC+ABS 等材料 (如 Cycloy C1200HF和Lexan EXL 1414)； 能達(dá)到比較好的外觀效果 能通過相關(guān)性能測試不推薦使用PA+GF, PC+GF 等材料； 不能通過相關(guān)性能測試，若依然需要使用

21、此類材料的話則需要降低產(chǎn)品性能接受標(biāo)準(zhǔn) 震動耐磨性能不如PC或PC+ABS素材產(chǎn)品 若素材中確實(shí)需要使用玻纖，則推薦使用 Grivory GV-5H or Grivory GVX-5HPA材料作為素材使用的工藝正在開發(fā)中。u材料材料素材材料 推薦使用 In-Sn合金. 相關(guān)測試顯示，使用In-Sn合金較Sn表現(xiàn)更好.Surface FinishPaint SupplierBasecoatMetal LayerMiddlecoatTopcoatPolishedCashewCashew VM 8000Sn or In-Sn alloy (thermal evaporation vacuum met

22、alizing)Cashew VM 9000 +KM2Cashew VM7302 or VM1300FujikuraFujikura VB2979U-7 Sn or In-Sn alloy (thermal evaporation vacuum metalizing)Fujikura VM5484UL-N Fujikura HO2777U or Fujikura HH8883U-N2 GOVEGOVE 4380B or GOVE 4375Sn or In-Sn alloy (thermal evaporation vacuum metalizing)GOVE 4500 or GOVE 4505

23、GOVE 4880 or GOVE 4885MattAkzoAkzo 970VP-CJS-1140Sn or In-Sn alloy (thermal evaporation vacuum metalizing)Akzo 820VM-CJS-1029Akzo 620C05001(TAA)/ 620C05100(TAA)SatinAkzoAkzo 970VP-CJS-1140Sn or In-Sn alloy (thermal evaporation vacuum metalizing)Akzo 820VM-CJS-1029Akzo 822-CTJ-1027u材料材料鍍材 膜厚對產(chǎn)品性能影響較大

24、。下表中為不同油漆的推薦膜厚。推薦膜厚范圍盡量大。Surface FinishPaint SupplierFilm thickness (m) for referenceBasecoatMetal LayerMiddlecoatTopcoatPolishedCashew12-250.55-1212-20Fujikura6-250.56-1014-25GOVE12-200.56-1012-18MattAkzo10-200.510-1820-30SatinAkzo10-200.510-1840-60u材料材料膜厚設(shè)計(jì) 高光產(chǎn)品上使用此素材的PVD工藝還在開發(fā)中，目前不推薦使用。使用primer能有

25、效縮短制程以及降低橘皮效果，但會影響附著力。PA+50% GF 如果確實(shí)需要此種素材：使用 primer Cashew PAG 100 gray.采用曲面設(shè)計(jì)不推薦此素材上采用高光設(shè)計(jì)，否則橘皮程度會很嚴(yán)重PA+30% GF橘皮比 PA+50% GF 輕微，但任然存在 PA+50%GF. 橘皮嚴(yán)重 PA+50%GF. 使用primer后 u材料材料PA素材上的PVD工藝 NCVM finishColored inkUV inkNCVM finish surfaceInk supplierColored ink printing layerUV ink printing layerPolishe

26、d (E.g. Topcoat Cashew UV 7302)Tian HePHC-HB80704UV-H00019Satin ( E.g. Topcoat Akzo 822-CTJ-1027)Tian HeTPK-070TPAV-910Logo on high gloss surface (Cashew UV 7302)After wearing test 0.5h Logo on satin surface (Akzo 822-CTJ-1027)After wearing test 0.5h u材料材料Logo印刷工藝若產(chǎn)品需要透光效果，通產(chǎn)會采用設(shè)計(jì)一個(gè)視窗.透光率影響因素金屬層的膜厚是

27、影響透光效果的最主要因素。中涂也是影響透光率的一個(gè)因素，但為了保證顏色的一致性，以中涂來調(diào)整透光率的范圍變得相對窄小。底涂和面涂是透明的，對產(chǎn)品透光率影響不大。推薦使用PC材料素材，PC材料本身透光率為88-90%.透光率范圍設(shè)計(jì) 推薦使用低透光率設(shè)計(jì)（越低良率越高），因?yàn)榇藭r(shí)透光率差異較小。ProjectTransparency rangeYield rateShelby A-cover1.5-2.5%;4-8%100%Spyder A-cover9-14%90%Flamingo60-70%90%u透光效果透光效果概述兩種視窗效果隱藏效果 (如 Shelby A-cover 4-8%, Sp

28、yder A-cover assembly 5-7%) 只有有背光的時(shí)候視窗才能看見。 單向透視 此效果透光率較隱藏效果高。產(chǎn)生視窗的四種方法 素材背面噴涂（視窗位置保護(hù)） 使用雙射注塑工藝 素材背面使用紋理設(shè)計(jì)（視窗位置外） 鐳雕背光開啟前背光開啟后u透光效果透光效果概述隱藏效果 透明素材背面噴涂一層不透光的油漆（視窗位置外）推薦使用此方法制作視窗。 噴涂時(shí)視窗位置需要粘貼保護(hù)膜以保證噴涂后視窗位置依然透光，但此工序會降低產(chǎn)品良率。避免不透光油漆噴涂區(qū)域有螺絲等其它復(fù)雜的3D設(shè)計(jì)。Shelby 的視窗效果不透光漆SubstrateBasecoatTopcoatMetal layerMiddl

29、e coatDisplay area半透光透光不透光u透光效果透光效果反面噴涂 素材上使用雙射注塑同樣推薦使用此方法制作視窗此工藝對PVD要求低，但對注塑要求高風(fēng)險(xiǎn)：邊緣透光Semi-transparentTransparentOpaqueSubstrateBasecoatTopcoatMetal layerMiddle coatDisplay area 2- shot moulding substrateExample from Flamingo program Red part are semi-transparent. 素材背面紋理設(shè)計(jì) 素材不同的紋理會反應(yīng)處不同的透光率Substrat

30、eBasecoatTopcoatMetal layerMiddle coatDifferent texture different transparentDisplay areaSemi-transparentTransparentOpaqueDifferent substrate textureu透光效果透光效果雙射注塑紋理設(shè)計(jì)鐳雕工藝當(dāng)透光區(qū)域比較小時(shí)推薦使用此種工藝，如按鍵；依據(jù)項(xiàng)目要求，在不同層雷雕；Semi-transparentTransparentOpaque Substrate Basecoat TopcoatMetal layer Middle coatDisplay areaLaser etching Substrate Basecoat Topcoat Metal layerMiddle coatDisplay areaLaser etching Substrate Basecoat