標準解讀
《GB/T 32279-2015 硅片訂貨單格式輸入規(guī)范》是一項國家標準,主要針對硅片生產(chǎn)和交易過程中涉及的訂貨單信息錄入進行了詳細規(guī)定。該標準旨在通過統(tǒng)一訂貨單的信息結構與內(nèi)容要求,提高行業(yè)內(nèi)信息交換效率,減少因格式不一致導致的理解偏差或錯誤。
根據(jù)標準內(nèi)容,硅片訂貨單需包含但不限于以下幾項關鍵信息:
- 基本信息:包括買方名稱、賣方名稱、聯(lián)系人及聯(lián)系方式等;
- 產(chǎn)品規(guī)格:指定了所需硅片的具體參數(shù),如尺寸(直徑)、厚度、電阻率范圍、摻雜類型(N型/P型)等物理特性;
- 數(shù)量:明確訂購的數(shù)量單位及其總量;
- 交貨日期:雙方約定的產(chǎn)品交付時間點;
- 包裝要求:對硅片的包裝方式提出具體需求,以確保運輸過程中的安全;
- 質量保證:可能還包括對于產(chǎn)品質量的要求說明,比如表面缺陷控制水平、晶向準確性等;
- 其他特殊條款:任何額外協(xié)議條件,例如付款方式、違約責任等。
如需獲取更多詳盡信息,請直接參考下方經(jīng)官方授權發(fā)布的權威標準文檔。
....
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2015-12-10 頒布
- 2017-01-01 實施
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文檔簡介
ICS29045
H80.
中華人民共和國國家標準
GB/T32279—2015
硅片訂貨單格式輸入規(guī)范
Specificationfororderentryformatofsiliconwafers
2015-12-10發(fā)布2017-01-01實施
中華人民共和國國家質量監(jiān)督檢驗檢疫總局發(fā)布
中國國家標準化管理委員會
GB/T32279—2015
前言
本標準按照給出的規(guī)則起草
GB/T1.1—2009。
本標準由全國半導體設備和材料標準化技術委員會和全國半導體設備和材料標準
(SAC/TC203)
化技術委員會材料分會共同提出并歸口
(SAC/TC203/SC2)。
本標準起草單位萬向硅峰電子股份有限公司浙江省硅材料質量檢驗中心杭州海納半導體有限
:、、
公司南京國盛電子有限公司有研新材料股份有限公司浙江金瑞泓科技股份有限公司江蘇協(xié)鑫硅材
、、、、
料科技發(fā)展有限公司中國有色金屬工業(yè)標準計量質量研究所
、。
本標準主要起草人朱興萍樓春蘭戴文仙毛衛(wèi)中趙紀平王飛堯馬林寶孫燕李慎重
:、、、、、、、、、
林清香楊素心鄒劍秋
、、。
Ⅰ
GB/T32279—2015
硅片訂貨單格式輸入規(guī)范
1范圍
本標準規(guī)定了硅片訂貨單的格式要求和使用
。
本標準適用于硅單晶研磨片硅單晶拋光片硅單晶外延片太陽能電池用硅單晶切割片太陽能電
、、、、
池用多晶硅片的訂貨單格式其他半導體材料的訂貨單可參照本標準執(zhí)行
,。
2規(guī)范性引用文件
下列文件對于本文件的應用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文
。,
件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件
。,()。
非本征半導體材料導電類型測試方法
GB/T1550
硅單晶電阻率測定方法
GB/T1551
硅和鍺體內(nèi)少數(shù)載流子壽命測定光電導衰減法
GB/T1553
硅晶體完整性化學擇優(yōu)腐蝕檢驗方法
GB/T1554
半導體單晶晶向測定方法
GB/T1555
硅晶體中間隙氧含量的紅外吸收測量方法
GB/T1557
硅中代位碳原子含量紅外吸收測量方法
GB/T1558
硅拋光片氧化誘生缺陷的檢驗方法
GB/T4058
硅片厚度和總厚度變化測試方法
GB/T6618
硅片彎曲度測試方法
GB/T6619
硅片翹曲度非接觸式測試方法
GB/T6620
硅片表面平整度測試方法
GB/T6621
硅拋光片表面質量目測檢驗方法
GB/T6624
硅片徑向電阻率變化的測量方法
GB/T11073
硅單晶切割片和研磨片
GB/T12965
硅及其他電子材料晶片參考面長度測量方法
GB/T13387
硅片參考面結晶學取向射線測試方法
GB/T13388X
硅外延片
GB/T14139
硅片直徑測量方法
GB/T14140
硅外延層晶體完整性檢驗方法腐蝕法
GB/T14142
硅晶體中間隙氧含量徑向變化測量方法
GB/T14144
半導體材料術語
GB/T14264
重摻雜襯底上輕摻雜硅外延層厚度的紅外反射測量方法
GB/T14847
硅拋光片表面顆粒測試方法
GB/T19921
硅片表面金屬沾污的全反射光熒光光譜測試方法
GB/T24578X
硅片載流子復合壽命的無接觸微波反射光
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