真空蒸發(fā)鍍膜膜厚影響因素的實(shí)驗(yàn)研究

1、真空蒸發(fā)鍍膜膜厚影響因素的實(shí)驗(yàn)研究鞍山范學(xué)院學(xué)報(bào)真空蒸發(fā)鍍膜膜厚影響因素的實(shí)驗(yàn)研究高紅 李慶綿鞍山師范學(xué)院物理系，遼寧鞍山4005行了擬合，從而最終找 到了這些因素對(duì)鍍膜厚度的影響規(guī)律。在真空鍛膜過程中，影響鍍膜質(zhì)量的因素很多，而膜厚是主要 因素之。本文的目的就是通過實(shí)驗(yàn)1實(shí)驗(yàn)儀器及材料介紹1.17, 450 型真空鍍膜機(jī)70450型真空鍍膜機(jī)以高真空油擴(kuò)散栗為主機(jī)，可獲得 2爪4帕的低氣壓環(huán)境。其主要技術(shù)性能數(shù)據(jù)如下極限壓力6.64帕； 2抽氣速率5007秒；3擴(kuò)故泵加熱功率1.5千瓦；4機(jī)饑總功率3.5 千瓦。1.2辦1型膜厚動(dòng)態(tài)監(jiān)測(cè)儀乙河趣膜厚動(dòng)態(tài)監(jiān)測(cè)儀適用于真空 鍍膜中動(dòng)態(tài)測(cè)量薄膜的幾

2、何厚度沉積速率和鍍膜時(shí)間，其度厚監(jiān)測(cè)范 圍為1江999.9,分辨率為1立13實(shí)驗(yàn)材料本實(shí)驗(yàn)所用基片為面平整 的玻璃，選用的鍍膜材料分別為鋁銅鎂鉛錫鈦鋅等。2實(shí)驗(yàn)過程，450型真空披膜機(jī)在鍛膜過程中可以調(diào)節(jié)的實(shí)驗(yàn) 條件小要有以下兒個(gè)蒸發(fā)鍛用付料的質(zhì)量；2蒸發(fā)鍍用材料的種類； 3基片到蒸發(fā)源的距離。因此，本文主要研究上述個(gè)實(shí)驗(yàn)條件對(duì)鍍膜 厚度的影響規(guī)汴。2.1研究鍍料的質(zhì)量對(duì)鍍膜厚度的影響鍍料選擇招條，基片中 心到蒸發(fā)源的距離為43,改變鋁條的質(zhì)量，分別測(cè)量不同質(zhì)量條件 下蒸鍍得到的鍍膜厚度。2.2研究鍍料的密度對(duì)鍍膜厚度的影響句質(zhì)，為6, 8,明沖心 到蒸7,的距離為43叫分別以鋁銅鎂鉛構(gòu)汰鋅為

3、篇發(fā)用披料，分別 測(cè)量不同種類鍍料蒸發(fā)所得的鍍膜厚度。2.3研究基片到蒸發(fā)源的距離對(duì)鍛膜厚度的影響選擇質(zhì)量為 0.608的鋁條，改變基片中心到蒸發(fā)源的距離，分別測(cè)量不同距離條 件下蒸發(fā)所得的鍛膜厚議。3實(shí)驗(yàn)結(jié)果及討論依據(jù)述實(shí)驗(yàn)，并利1科學(xué)繪厚度的影響規(guī)律 的實(shí)驗(yàn)曲線。3.1鍛料質(zhì)量對(duì)鍛膜厚度的影響保持不變的前提下，鍍料質(zhì)量 與鍍膜厚度基本成線性關(guān)系，即隨著鍍料質(zhì)量的增加，鍍膜厚度呈線 性增長(zhǎng)。而運(yùn)用，線性擬合所得到的方程+,也1正實(shí)了這點(diǎn)，方程。 1代橫坐標(biāo)即鋁條的質(zhì)最。代縱坐標(biāo)即鍍膜厚度，參數(shù)數(shù)，廠的數(shù)值 越接近1說明曲線擬合得越好。3.2鍛料密度對(duì)鍍膜厚度的影響量的 蒸鍍材料在與基片等距離

4、的條件下蒸發(fā)鍍膜所得薄膜的厚度會(huì)逐漸 減小。運(yùn)用出沖時(shí)對(duì)鍛膜厚度與鍍料密度的關(guān)系曲線擬合所得方程為 71似+人其中，代縱坐標(biāo)即鍍膜厚度，代衷搖你+如3.3基片與蒸發(fā)源 的距離對(duì)鍍膜厚度的影響又儀，比夫糸。為了排除叢片面和對(duì)于蒸發(fā)源角度因素的影響，實(shí)驗(yàn)過程中僅 改變基炒中心到蒸發(fā)源的距離。而保持基尸衣面相付于蒸發(fā)源的角度 大致相同。實(shí)驗(yàn)結(jié)果3相同種類的蒸鍍材料在保持質(zhì)景+變的前提下。隨基片心到蒸發(fā)源距離的增加。蒸發(fā)披膜所得的薄膜度逐漸減小。應(yīng) 用階叫咖對(duì)鍍膜厚度與基片心到蒸發(fā)源代縱坐標(biāo)即彼膜度。代橫咆 標(biāo)即基片中k, i, w.r, dc, 3基片中心到蒸發(fā)源的距離與膜厚的關(guān) 系曲線七刮黑發(fā)源的距聞，鄉(xiāng)，=175.544920045862,的月奏近似為2, 即鍍膜厚度近似與基片心到蒸發(fā)源距離的平方成反比。4結(jié)論通過實(shí)驗(yàn)，我們對(duì)蒸發(fā)鍍膜過程中的個(gè)主要實(shí)驗(yàn)條件鍍 料質(zhì)量鍍料密度基片中心到蒸發(fā)源的距離乂寸薄膜厚度的影響規(guī)律 進(jìn)行了分析和討論，并應(yīng)用郵軟牛對(duì)實(shí)驗(yàn)曲線進(jìn)行了擬合，最終得出 結(jié)論在鍍料種類及基片與黑發(fā)源距離保持不變的前提下，鍍膜厚度隨 鍍料質(zhì)量的，加作線性增長(zhǎng)；在與基片等距離的條件下，相同質(zhì)量的 蒸鍍材料蒸發(fā)鍍膜所得薄膜的厚度與所用鍛料密度近似成反比；在保 持質(zhì)量不變的